本发明涉及一种真空隔热件芯材制造系统，其能够容易扩大每成型一次芯材时的最大生产面积的大小，缩短芯材的制造时间，并适用于批量生产。本发明的真空隔热件芯材制造系统包括：多个成型框部，沿着一方向配置，用于提供成型空间；多个原料供给部，用于向所...

本发明涉及一种制备SiH(OR3)-型三烷氧基硅烷（其中，R为具有1-3个碳原子的甲基、乙基、丙基或异丙基基团）的方法，并且更具体地，所述方法包括下列步骤：通过在溶剂环境无需与空气接触下粉磨硅原材料防止硅表面的氧化作用以使得三烷氧基硅烷...

本发明涉及一种用于刻蚀金属膜的组合物，更特别地是包括氧化剂、刻蚀控制剂、螯合剂、掏蚀抑制剂、铜腐蚀抑制剂、残余物去除剂，和余量的水的刻蚀剂组合物，用于整体性湿法刻蚀用作平板显示器的薄膜晶体管的栅电极和数据电极的金属膜，特别是由选自铜、钼...

本发明涉及颜料分散体和黑色减水剂，更具体地涉及包含表面由氨基硅烷化合物改性的炭黑和聚羧酸系减水剂的颜料分散体，以及使用其的黑色减水剂。本发明的特征在于，通过使用比萘系减水剂具有更好性能的聚羧酸系减水剂作为分散剂，将由氨基硅烷化合物表面改...

本发明涉及通过连续法制备过氧化氢的方法，提取自工作溶液的还原和氧化所产生的过氧化氢及使被氧化的工作溶液再循环回还原过程，其中所述工作溶液的组成即２－烷基蒽醌和２－四氢烷基蒽醌的组成被优化以提高所述醌的溶解度和改进反应速率。所述工作溶液包...