本实用新型公开了一种靶材夹持装置，包括壳体，所述壳体两侧设有固定片，所述壳体上开设有安装槽，所述安装槽一端侧面上设有凹陷卡口，所述安装槽内设有夹持机构，所述夹持机构包括底座，所述底座的底部通过螺丝固定至安装槽内，所述底座上部设有半圆形固...

本实用新型公开了一种靶材用真空熔炼炉废气过滤装置，包括底座，其特征在于：所述底座上设有过滤筒，所述过滤筒筒体上设有透明玻璃可视窗，所述过滤筒上设有L形进气管，所述L形进气管的一端与真空熔炼炉排气口相连，所述L形进气管上还设有止回阀，所述...

本实用新型公开了一种用于靶材加工的真空镀膜装置，包括底座，所述底座的两侧设有支撑架，两侧所述支撑架的顶部设有安装板，所述安装板的下方安装有上真空组件，位于所述上真空组件的下方设有与之相对应的下正空组件，所述下真空组件的底部设有转轴，所述...

本实用新型公开了一种用于靶材加工的加热装置，包括底座，所述底座的两侧设有支撑柱，两个所述支撑柱的上方固定支撑有加热筒，位于所述支撑柱内侧的底座上设有电动推杆，两侧所述电动推杆的上方固定有密封板，所述密封板的中间设有电动丝杆，所述电动丝杆...

本发明公开了一种靶材加工用清洗装置，包括机体，所述机体上端设有开口，位于所述开口两侧的机体内部设有相对应的电动升降杆，每个所述电动升降杆的下方均设有挂钩，两个所述挂钩之间挂接着靶材放置机构，位于所述靶材放置机构正下方的机体底部设有清洗池...

本发明公开了一种平面靶材打磨装置，包括机体，所述机体上设有水槽，位于所述水槽两侧的机体上均设有可拆卸的滑行架，每侧所述滑行架的前端均设有横向磨边机构，两侧所述滑行架的后端设有竖向磨边机构，两侧所述横向磨边机构的前端还设有夹持机构；所述机...