本发明涉及半导体设备领域，公开了一种带废气处理装置的半导体蚀刻装置，包括蚀刻机本体，所述蚀刻机本体的前端下侧固定安装有第一反应室，所述第一反应室的上侧外径上固定安装有加热环，所述第一反应室的内部上侧固定安装有催化环，所述第一反应室的内顶...