提供了一种在衬底表面上沉积介电膜的系统和方法，所述系统具有一个带有用于支撑衬底的衬底支架的处理室和一个或多个用于将气体送入处理室的气体入口，提供了在所述处理室内确定第一个等离子体区的第一个等离子体源，而且，还提供了在所述处理室内确定第二...