本发明为一种利用光子晶体改善光掩膜分辨率的结构，藉以改善光掩膜的分辨率，其包含一正折射率的透光层及一等效负折射率的透光层，其中等效负折射率的透光层为光子晶体的结构。本发明的特征在于，当光子晶体透光层的等效负折射率的绝对值大致等于正折射率...

本发明提供一种测量一掩模设计图形的线宽的方法与系统。该方法包含有：建置一服务器，其包含有一测量系统；经由因特网建立该服务器与一远端终端机的连接；以及使用该远端终端机登入该服务器，以将该掩模设计图形传送至该服务器并远端操作该测量系统来测量...

一种检测光掩膜缺陷的方法包含下列步骤：提供一图像，该图像包括一模拟的光掩膜设计图案、至少一模拟的光掩膜缺陷以及一模拟的芯片（或单元）阵列相互重叠；以及另一步骤：检测该模拟的光掩膜缺陷位于该模拟的芯片（或单元）阵列与位于该模拟的光掩膜设计...

本发明公开了一种大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法，在于整个大尺寸光罩基材（空白光罩）或蚀刻后未修补前光罩的缺陷信息被光罩检查装置读出后，进一步被区分为关键区域和非关键区域两部分的缺陷信息。所谓关键区域是指不可被接受的缺陷位置，...

本发明提供一种在线实时查询一光学零组件的目前状态的方法与系统。该方法包含有：建置一数据库，并使用该数据库记录该光学零组件的目前状态的信息，其中该信息包含有该光学零组件的一制造状态；经由因特网建立该数据库与一远端终端机的连接；以及使用该远...

本发明揭示一种铬光罩制造方法。一光罩基材以活化剂活化其上表面，以用于无电极铬电镀。其次，该活化光罩基材接着沉浸于无电极铬电镀溶液中，以镀上薄的铬层，此无电极铬电镀制程将一直持续到所要的厚度形成为止。较佳地，当最初的无电极电镀铬层成长至所...

一种灰度光罩，包含透明基板及光线阻碍层。该光线阻碍层被配置于该透明基板上，并具有最小厚度的透光区、最大厚度的非透光区、及中间厚度的灰度区，其中该中间厚度介于该最小厚度及该最大厚度之间，且该灰度区的透光率的大约介于５％与９５％之间。