大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法技术

本发明专利技术公开了一种大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法，在于整个大尺寸光罩基材（空白光罩）或蚀刻后未修补前光罩的缺陷信息被光罩检查装置读出后，进一步被区分为关键区域和非关键区域两部分的缺陷信息。所谓关键区域是指不可被接受的缺陷位置，而非关键区域是指可被接受的缺陷位置。对大尺寸光罩基材而言，若缺陷位置均位于非关键区域内，则此光罩基材被视为可接受。而对大尺寸光罩部分，光罩修补系统只需对位于关键区域的光罩缺陷进行修补即可。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法，特别是针对一种，藉由缺陷信息进一步被区分为关键区域和非关键区域。对大尺寸光罩基材而言，若缺陷位置均位于非关键区域内，则此光罩基材被视为可接受。而对大尺寸光罩部分，光罩修补系统只需对位于关键区域的光罩缺陷进行修补。
技术介绍
液晶显示器具有体积小、重量轻、低电压驱动、低电力消耗、易携带不占空间等优点，其产品应用范围非常的广，从日常生活领域到工业上的高层次应用等千变万化，包括钟表、计算器、电视、通讯产品、医疗器材、航空运输、工业设备、军事特殊用途等，目前高品质的液晶显示器已逐渐取代传统彩色映像管。液晶显示器(LCD；Liquid Crystal Display)的制造流程大致上如下清洗玻璃基板(前清洗工程)、于玻璃基板上形成一层铟锡氧化物(ITO；Indium TinOxide)导电层(图样工程)、于铟锡氧化物导电层上形成一层配向膜(配向转印工程)、于两片玻璃基板的间散布一间隙材料(spacer)、于两片玻璃基板外围印刷环氧树脂的绝缘物质(胶框涂布工程)、将两片基板贴合(组合密封工程)、切割与裂片、液晶注入与加压密封、液晶面板的玻璃基板角落倒角工程、液晶面板检验、偏光片贴附工程、以及最后检验。其中，液晶显示器的彩色滤光片主要是先于前述的其中一玻璃基板上，经由不同程序，镀上一黑框(Black Matrix)以及一具有红、蓝、绿的彩色滤光膜(Color Filter Film)。接着，再形成一层具有图案(pattern)的导体层，例如为铟锡氧化物导电层，作为与另一片玻璃基板上的薄膜晶体管数组(TFT Array；ThinFilm Transistor Array)接合时，驱动液晶用的共享电极(即前述的图样工程)，如此形成一彩色液晶显示器用以显示色彩所需的彩色滤光片。前述液晶显示器的制程中，无论是图案工程、配向转印工程或是彩色滤光片上的黑框及红、蓝、绿的彩色滤光膜的形成都需利用曝光显影技术(微影技术)。举例来说，当想要在玻璃基板上制作导电层时，首先要先准备具有所需导电层图案的光罩(photo mask)，接着利用涂布法(coating)在玻璃基板上形成具有感光特性的光阻层。当来自光源的平行光经过光罩照射在光阻层上，会形成与光罩上导电层图案相同的图形于此光阻层中。换句话说，利用这样的方式，可将光罩上的图案完整地传递到光阻层中。接着进行显影和蚀刻制程，就可以在玻璃基板上形成一层具有所需图案的导体层。基于上述理由，为了有效提高整个液晶显示器制程量率，制作光罩图案的精准度便显得非常重要。光罩的主体是由平坦且绝缘透明的石英玻璃所构成的，当然，其材料并不是只有石英玻璃一种。较常被使用的主体材料有苏打玻璃、乳剂光罩与石英玻璃三种，不过目前几乎已被石英玻璃所取代。接着，在石英玻璃的表面覆上一层不透明薄膜或吸收性材料。值得注意的是，导电层所需要的图案，皆形成在此不透明薄膜(如金属层)或吸收性材料中。一般而言，可选择铬(Cr)、镍(Ni)或铝(Al)来作为金属层的材料。然后形成一光阻覆盖此不透明薄膜，再利用曝光机中的激光光束光或电子束的高分辨率的曝光技术将图案形状曝在光阻上。随后，工程师只要使用显影剂，在光阻上把不透明薄膜中的图案形状显示出来，再利用蚀刻等技术，即可以将此图案转移到不透明薄膜，而在光罩上形成透明区域和不透明区域。然而，在光罩的制造过程中，无法形成一无缺陷的光罩，因此在进行图案复制的微影制程时，需先修补光罩。光罩上的缺陷可分为透明缺陷与不透明缺陷，其中透明缺陷系在缺陷区域上原本应该具有不透明薄膜但实际上却没有，而不透明缺陷则系在透明区域上原本应该没有不透明薄膜但实际上却有。因此，光罩修补有填补针孔缺陷以及移除不透明缺陷等方式。请参照图1A，其为具有缺陷的光罩的上视图，光罩100主要由不透明区域102、不透明区域104以及透明区域110组成，然而在不透明区域104上形成有针孔缺陷106，且在透明区域110上有不透明缺陷108。请参照图1B，其所绘示为沿着图1A上I-I剖面线的光罩100的剖面图，从图1B中可看到针孔缺陷106以及不透明缺陷108。请参照图2A，对光罩100进行光罩修补，可看到在不透明缺陷移除区域114内的不透明缺陷108已经移除，且在不透明区域104上形成针孔修补区域112修补了针孔缺陷106。请参照图2B，其所绘示为沿着图2A上II-II剖面线的光罩100的剖面图，从图2B中可看到针孔修补区域112涵盖一部分的不透明区域104以及整个针孔缺陷106，且不透明缺陷108已被移除，而完成修补光罩100上的缺陷。一般所使用的光罩修补技术例如有激光束(Laser Beam)、聚焦离子束，以及原子力显微镜(Atomic Force Microscopy)等。由于，激光光束的分辨率有限，激光烧蚀可能会移除与缺陷区域相邻的不透明薄膜，而伤害到光罩图案。此外，由于激光光束会传递大量的热能，所以不仅会溶解并蒸发不透明缺陷，亦会导致不透明缺陷的邻近或下层的石英受到伤害而变粗糙，进而降低石英的透光率及改变透射光的相位。由于聚焦离子光束的聚焦尺寸远小于激光束，因此，就修补准确度以及产量方面，聚焦离子束占有极大优势，故聚焦离子束已成为广为运用的一种光罩修补的技术。然而，运用聚焦离子束进行光罩修仍有数个问题待克服。首先，由于光罩系在例如石英的基材上形成，而石英为一种绝缘材料，因此离子束会使基材表面带电，并降低利用离子束以使其结果成像的能力。另外，由于镓离子(Ga+)可被聚焦成极小的离子束半径，因此在要求高分辨率下聚焦离子束通常为镓离子束，而镓离子束轰击光罩上的缺陷区域，在轰击区域附近产生二次(Secondary)离子或电子，并造成镓离子被植入石英基材中，而在轰击区域逐渐发展造成带电荷(Charging)现象。其中，由于二次离子或电子的强度较弱，而降低成像的品质，甚至造成整个信号衰灭，而使得独立如岛状的图案(Isolated Pattern)或微小的独立缺陷(Pin Dot)无法成像。另一方面，轰击区域所带电荷会导致镓离子漫射或甚至转向，而造成图形缺陷修补时准确度的损失。另外，随着消费者对大尺寸液晶显示器的需求日增，以及液晶电视(LCDTV)配合数字电视的推广，制程所需光罩的尺寸也需增大。因此，对大尺寸光罩基材(空白光罩)或是蚀刻后未修补前的大尺寸光罩，其缺陷数目亦相对增加，如此一来，除了大尺寸光罩基材(空白光罩)更难通过现行允收标准外，亦将花费更多的时间和费用在大尺寸光罩缺陷的修补上。
技术实现思路
鉴于上述现有技术中大尺寸光罩基材(空白光罩)与蚀刻后未修补前的大尺寸光罩，其缺陷数目因尺寸增大而增加，造成大尺寸光罩基材(空白光罩)更难通过现行允收标准外，亦将花费更多的时间和费用在大尺寸光罩缺陷的修补上。故本专利技术提供一种新的，避免上述情形产生。本专利技术的一个目的是提供一种新的大尺寸光罩基材可接受缺陷定位方法，提高大尺寸光罩基材的允收率。本专利技术的另一个目的是提供一种新的大尺寸光罩生产方法，减少大尺寸光罩的修补次数。根据以上所述的目的，本专利技术提供了一种大尺寸光罩基材可接受缺陷定位的方法，包含以下步骤放置光罩基材于光罩检查系统；撷取光罩基材影像于光罩检查系统；在光罩检查系统本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大尺寸光罩基材可接受缺陷定位的方法，包含：放置一光罩基材于一光罩检查系统；撷取该光罩基材影像于该光罩检查系统；该光罩检查系统比对该光罩基材影像；输出该光罩基材的缺陷位置于该光罩检查系统；及判断该光罩基材的缺陷位置；其中当该缺陷位置全部位于非关键区域时，该光罩基材可被接受。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何明丰，
申请(专利权)人：盟图科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]