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本发明公开了一种大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法，在于整个大尺寸光罩基材（空白光罩）或蚀刻后未修补前光罩的缺陷信息被光罩检查装置读出后，进一步被区分为关键区域和非关键区域两部分的缺陷信息。所谓关键区域是指不可被接受的缺陷位置，而非...
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