一种应用于化学气相沉积(CVD)系统中的晶片载体，该晶片载体包括多个晶片保持凹穴，每个晶片保持凹穴具有围绕底面并且限定晶片保持凹穴周边的周壁表面。每个晶片保持凹穴具有周边，该周边具有至少通过围绕第一弧心设置的具有第一曲率半径的第一弧和围...

一种应用于通过化学气相沉积在一个或多个晶片上生长外延层的系统中的晶片承载器。所述晶片承载器包括凹入其本体的晶片保持凹穴。热绝缘间隔装置至少部分地位于至少一个晶片保持凹穴中，并且设置为保持周壁表面和晶片之间的间隔。间隔装置由具有比晶片承载...

一种具有用于在化学气相沉积系统中改善加热均匀性的器件的晶片承载器。所述晶片承载器包括凹入其本体的晶片保持凹穴。热绝缘间隔装置至少部分地位于至少一个晶片保持凹穴中，并且设置为保持周壁表面和晶片之间的间隔。间隔装置由具有比晶片承载器的热传导...