本发明涉及新的聚合物色谱介质和优选混合型聚合物色谱介质的制备和用途。根据本发明，聚合物介质采用使用聚乙烯亚胺衍生的聚合物颗粒制备，优选这类聚乙烯亚胺衍生的聚合物颗粒进一步使用适宜的反应试剂官能化。这种聚合物色谱介质对生物分离特别有用。

苄醇和乙醇的抗微生物缓冲溶液和它们用于短期或长期储存色谱固体物质的用途。

提供了改善的赋形剂，其包含基本上均匀的颗粒，其为可压制的、高功能性颗粒状的微晶纤维素基赋形剂。该改善的赋形剂包含微晶纤维素、粘合剂和崩解剂，且通过将所述成分的均匀浆液喷雾而形成。相比于单独的成分，且相比于相同材料形成的常规赋形剂，该赋形...

微电子清洁组合物，其包含：ａ）该组合物约８０％至约９９％重量的至少一种有机砜；ｂ）该组合物约０．５％至约１９％重量的水；和ｃ）该组合物约０．５％至约１０％重量的至少一种提供四氟硼酸根离子的组分，和ｄ）任选至少一种多元醇。其尤其用于从具有...

本发明提供了强碱性含水制剂，其包括（ａ）水，（ｂ）至少一种无金属离子的碱，该碱的量足以使最终制剂为碱性ｐＨ，（ｃ）约０．０１％至约５％重量（以％ＳｉＯ↓［２］表示）的至少一种水溶性无金属离子的硅酸盐腐蚀抑制剂；（ｄ）约０．０１％至约１０...

本发明通过包含氢卤酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物提供了用于清洗微电子基板的微电子清洗组合物，尤其是用于微电子基板并且对微电子基板以及镀Ａｌ或Ａｌ（Ｃｕ）的基板和先进的互连技术具有改进的相容性的清洗组合物，所述微电子基板的特征在于二...

本发明涉及含有卤素含氧酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物。本发明通过包含氢卤酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物提供了用于清洗微电子基板的微电子清洗组合物，尤其是用于微电子基板并且对微电子基板以及镀Ａｌ或Ａｌ（Ｃｕ）的基板和先进的互连...

用于清洗微电子基片的组合物，包括以下组分：　　　　（ａ）亲核的胺，　　　　（ｂ）中等至弱酸，该酸所具有的强度用“ｐＫａ”在水溶液中的电离常数表示为约１．２至约８，　　　　（ｃ）选自脂族醇、二醇、多元醇或二醇醚的化合物，和　　　　（ｄ）有...

本发明提供一种用于清洗微电子衬底的剥离和清洗组合物，该组合物包括：至少一种有机剥离溶剂，至少一种亲核胺，至少一种不含氮的弱酸，其量足以中和约３重量％～约７５重量％的亲核胺，使得剥离组合物的水相ｐＨ为约９．６～约１０．９，所述弱酸在水溶液...

ＨＯ－Ｚ－ＯＨ 通过将晶片基片表面与一种清洗水溶液接触清洗微电子晶片基片表面去除金属污染物同时保持晶片基片表面的光滑度，其中清洗水溶液含有无金属离子的碱性碱和具有上式的含有２至１０个－ＯＨ基团的多羟基化合物：其中－Ｚ－是－Ｒ－，－...

用于清除微电子基板上的光致抗蚀剂和等离子残余灰烬的无氨和无氢氟酸的清洗组合物，更具体地，此清洗组合物对具有敏感多孔、低－к和高－к电介质，敷铜为特征的微电子基板有益的，并对基板具有改进的相容性。该清洗剂中含有一种或多种能溶于合适的溶剂基...

用于清洗微电子基板的无氨清洗组合物，更具体地，此组合物清洗剂对以敏感多孔电介质、低－κ和高－κ电介质以及敷铜为特征的微电子基板一起使用的、并对基板具有改进相容性。用于剥离光致抗蚀剂、清除等离子生成的有机化合物、金属有机化合物和无机化合物...

不含氨基酸的、非水的清洁组合物提供了本发明的后端光致抗蚀剂剥离剂和清洁组合物，其基本上对铜及铝无腐蚀性，并且其包括至少一种极性有机溶剂，至少一种羟基化的有机胺，及至少一种具有多个羟基官能团的腐蚀抑制剂化合物，该腐蚀抑制剂化合物为下式的化...

含水清洁组合物和使用该清洁组合物清洗微电子基底的方法，其中所述组合物能够基本完全清洁该基底并且对该基质的金属元素基本上不产生金属腐蚀。本发明的含水清洁组合物含有：（ａ）水，（ｂ）铵离子和季铵离子中的至少一种，以及（ｃ）次磷酸根离子（Ｈ↓...

本发明提供了后端光致抗蚀剂剥离剂和残留物组合物，其为对铜和铝基本上无腐蚀性的非水性组合物，且包含极性有机溶剂、羟化胺和作为防腐剂的果糖。

高含水、强碱性平面化溶液和其用于减低或本质上消除从总体平面多晶硅膜表面向上伸展的突出或凸起的方法，所述多晶硅膜通过低温多晶硅（ＬＴＰＳ）工艺使沉积在基体上的非晶硅膜退火而制得，所述方法包括使总体平面的多晶硅膜表面与所述高含水、强碱性溶液...

用于从晶片基板去除非灰化的离子注入的光致抗蚀剂的前段（ＦＥＯＬ）剥离和清洁的组合物，包括：ａ）至少一种有机剥离溶剂，ｂ）至少一种选自氟化铵，氟化氢铵或氟化氢的氟离子，ｃ）至少一种选自无机酸或有机酸的酸化剂，ｄ）水，组合物中还可任选地含有...

本发明提供了用于清洁微电子基板的清洁组合物，所述清洁组合物基本上可以完全清洁这些基板并抑制金属的腐蚀或使这些基板的金属元素基本上无腐蚀，且与现有技术含碱性的清洁组合物相比需要相对短的清洁时间和相对低的温度。本发明还提供了使用此清洁组合物...

本发明涉及无氟化物的光致抗蚀剂剥离剂或残余物移除清洁组合物及用其清洁微电子基板的方法。无氟的有机溶剂基的微电子清洁制剂，其包括：（ａ）至少一种“黄色”或“褐色”的α－羟基羰基共轭物，其是α－羟基羰基化合物与胺或铵化合物的寡聚或多聚共轭物...

本发明涉及含氟化物的光致抗蚀剂剥离剂或残余物移除清洁组合物以及用其清洁微电子基板的方法。半水性微电子清洁制剂，其包括：（ａ）至少一种提供氟离子的氟化合物，（ｂ）至少一种“褐色”α－羟基羰基化合物，其是α－羟基羰基化合物与胺或铵化合物的寡...