栗田工业株式会社专利技术

栗田工业株式会社共有665项专利

  • 提供一种在测定试样中的溶解物的浓度时能够判定添加到试样中的试剂的量是否适当的溶解物浓度的测定方法。将使通过向试样添加试剂而显色的被测定液显色为不吸收溶解物浓度测定用的区域成分光而使不吸收的光透过的颜色的着色剂加入到试剂中来制作加入着色剂...
  • 多段逆渗透膜装置及其运转方法
    在多段逆渗透膜处理时,不减损稳定性地使处理水质提升。将原水槽(1)内的原水通过第1泵(2)加压,供给到第1段的第1逆渗透膜装置(3),排出浓缩水并且通过配管(4)将透过水导入中间槽(5)。将该中间槽(5)内的水通过第2泵(6)加压,供给...
  • 本发明提供一种在测定试样水中的微粒的计量部的测定结果出现异常的状况下,也可以及时地捕获试样水中的微粒的技术。本发明提供一种微粒测定方法,其中,包括使对试样水中的微粒进行测定的计量部、和过滤所述试样水并捕获直接镜检法的分析用的所述微粒的过...
  • 本发明提供一种在含有氟的水系统中,可以在不使磷浓度增加的前提下抑制氟化钙垢的生成的阻垢方法。本发明的阻垢方法是在含有氟的水系统中添加马来酸、丙烯酸乙酯和醋酸乙烯酯的不含磷的共聚物。作为该不含磷的共聚物,优选通过共聚含有马来酸60mol%...
  • 在未进行加温的条件下对含有硼氟化物的水进行处理,不仅能高度去除氟,也能高度去除硼。本发明提供一种含有硼氟化物的水的处理方法,其中,其具有下述工序:第一工序,该工序在含有硼氟化物的水中添加铝化合物,在pH1~4的条件下对硼氟化物进行分解;...
  • 半导体基板清洗系统及半导体基板的清洗方法
    一种从具有以Si为构成成分的层的半导体基板上除去铂和/或铂合金的半导体基板的清洗方法,该方法能够不损伤Al或硅化物膜、Si系绝缘膜、Si系基板等而进行有效的清洗。该方法是从具有以Si为构成成分的层的半导体基板上除去铂和/或铂合金的半导体...
  • 逆渗透膜装置的运转方法以及逆渗透膜装置
    本发明提供一种逆渗透膜装置及其运转方法,其能够对MBR处理水等的含有大量膜污染物质的原水防止透过水量降低地并且稳定地处理。在将含有高分子有机物的水作为原水进行处理的逆渗透膜装置的运转方法中,该原水以0.01ppm以上的浓度含有分子量10...
  • 逆渗透膜的亲水化处理方法
    本发明提供一种亲水化处理效果的持续性、通量(flux)稳定性优异的RO膜的亲水化处理方法。本发明的RO膜的亲水化处理方法,使RO膜与具有聚环氧烷链的改性聚乙烯醇接触。改性聚乙烯醇的皂化度优选为80%以上,聚环氧烷链优选为聚环氧乙烷链。具...
  • 制造出溶存臭氧气体浓度高,而且氧气在使用场所中的气泡化被抑制的臭氧气体溶解水。使用所制造出的臭氧气体溶解水,回避因气泡所引起的洗净不均匀或机器破损的故障而有效率地洗净电子材料。在将臭氧气体及氧气的混合气体和脱气处理水供给至臭氧溶解部使该...
  • 本发明提供一种彩色滤光片制造工序中的显影排水的处理方法,其在彩色滤光片制造工序中的显影排水的生物处理或生物氧化处理等之前,能够对彩色滤光片制造工序中的显影排水中的固体成分或溶解物质有效率地进行混凝处理。本发明的彩色滤光片制造工序中的显影...
  • 本发明提供一种去除性能(阻止率)的稳定性与通量(flux)稳定性(耐污染性的持续性)进一步获得改善的RO膜的阻止率提高方法。本发明的RO膜的阻止率提高方法,其是具有使含有多酚的水溶液通水至RO膜的工序的RO膜的阻止率提高方法,其特征在于...
  • 提供在纸的制造工序中,与树脂原因物质、树脂产生状况无关,适用于广泛范围,并且可以有效地抑制、防止纸的污点、缺陷、断纸、操作性降低等树脂障碍的树脂抑制剂等。一种树脂抑制剂,其包含:溶解有酚醛树脂和/或改性酚醛树脂的碱溶液、或溶解有酚醛树脂...
  • 基板清洗液以及基板清洗方法
    为了在对基板上具有氮化硅和氧化硅的基板进行清洗时用清洗液选择性地蚀刻氮化硅,将用于清洗在同一基板上具有氮化硅和氧化硅并且前述氮化硅以及前述氧化硅的一方或双方的至少一部分露出的基板的清洗液在较好地165℃以上且不到沸点的条件下与基板接触而...
  • 提供一种沉淀槽及其运转方法,该沉淀槽能够使处理水水质良好,并且能够长期稳定地运转。沉淀槽(1)具有轴心线方向沿着铅垂方向的圆筒形的槽体(2)、设置在该槽体(2)内的下部(底部附近)的导水机构(10)、设置在槽体(2)的侧面部的从中间部到...
  • 提供一种导水机构、使用该导水机构的沉淀槽、该沉淀槽的运转方法,该导水机构的开口不会被污泥阻塞,另外压力损失小且能够使液体从整个开口均匀地流出。具有直管状的边(11~14)的方形框状的导水机构(10)设置在沉淀槽(1)的下部。在导水机构(...
  • 在测定溶解物浓度时,还检测有无试剂的添加。在使用通过将两种试剂分别添加到测定对象水(W0)中而在规定的pH的范围(H0)显色为规定颜色的试样水(W1)对测定对象水中的规定的溶解物浓度进行测定的情况下,选定能够在包含规定的pH的范围的第一...
  • 一种冷却水系的处理方法,其在钙硬度以CaCO3计为250mg/L以下的冷却水系中,添加含有(甲基)丙烯酸系共聚物而成的处理剂,其中,所述(甲基)丙烯酸系共聚物具有来自以下述通式(1)表示的(甲基)丙烯酸系单体(A)的结构单元(a)和来自...
  • 本发明涉及含有机物废水的处理装置及处理方法。将包括酸生成槽(11A)和UASB反应槽(11B)的厌氧反应槽(11)的厌氧性生物处理水凝聚处理后,在No.1沉淀槽(14)中进行固液分离。在曝气槽(21)内对所得分离水需氧性地进行生物处理,...
  • 水处理方法及装置
    本发明的课题是提供一种水处理方法及装置,其在被处理水中添加阴离子系高分子凝集剂,然后,进行搅拌从而进行造粒,接着进行固液分离从而获得处理水,其能够形成不会由于搅拌时的剪切力而被破坏的强固且沉降性良好的絮凝物,并且,处理水的水质变得良好。...
  • 实现对于至少露出一部分TiN的经硅化处理后的半导体基板(100)进行有效的清洗,而不会损伤TiN或硅化层。对于至少露出一部分TiN的经硅化处理后的半导体基板进行清洗时,具有以下工序:过硫酸生成工序,该过硫酸生成工序将清洗用硫酸溶液流通至...