本技术公开了一种晶圆用二次曝光机，包括机柜，所述机柜内设有工作台，所述工作台的两侧均设有料架，所述工作台上设有转盘，所述转盘上等角度分布有多个托盘，所述托盘上连接有多个升降顶针，所述料架与所述转盘之间设有移载机构，所述转盘的左侧设有矫正...

本技术公开了一种高效的晶圆一次曝光机，包括机柜，所述机柜内设有工作台，所述工作台上设有转盘，所述转盘通过伺服电机驱动，所述转盘的左右两侧均设有存料架，所述存料架上设有存料盒，所述转盘上对称设有两个托盘，所述托盘的上端面设有多个升降顶针，...