昆山国显光电有限公司专利技术

昆山国显光电有限公司共有5260项专利

  • 一种像素结构包括多个像素单元,该像素单元的形状为长方形,包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,第一子像素和第二子像素的形状为L形,第一子像素和第二子像素相对设置并形成至少容纳部分第三子像素的区域,第三子像素至少一边与像素单元的一条边至...
  • 本发明涉及一种OLED显示装置及其老化方法,其中,所述OLED显示装置包括:若干条栅极线和GIP电路,所述GIP电路具有若干个输入端,所述若干个输入端用于分别接收第一控制信号和第二控制信号,所述GIP电路响应于所述第一控制信号而驱动显示...
  • 本实用新型提供一种探针位置自动调节装置。本实用新型包括:板框、基板位移反馈机构以及探针调节机构;板框包括竖直侧面以及底面,基板位移机构包括平衡杆、转动杆、滑头以及两组调节组件,转动杆与平衡杆垂直固定连接,且转动杆与平衡杆的连接处与竖直侧...
  • 本发明所述一种底栅型薄膜晶体管,包括基板,依次在基板上形成栅极层、栅极绝缘层、多晶硅半导体层和源/漏电极层,所述基板设置有凹陷部,所述栅极层形成在所述凹陷部内,所述栅极层与所述栅极绝缘层的接触面与所述基板的上表面齐平。这样的设置使得本发...
  • 一种具有报警功能的智能手表,包括表盘、第一表带和第二表带,该第二表带与该表盘为可拆卸连接,该表盘在与该第二表带相连的一侧设有第一表耳和第二表耳,该第二表带在与该表盘相连的一端设有表栓,该表栓将该第二表带可拆卸连接至该两个表耳上,该第一表...
  • 本发明涉及一种显示装置,包括设在基板上的第一电极层,若干像素限定层,形成在所述像素限定层之间的有机发光层和第二电极层,所述像素限定层包括第一像素限定层和第二像素限定层,所述第一像素限定层和所述第二像素限定层之间设置有导电膜层,所述第二电...
  • 本实用新型提供一种扳手。本实用新型的扳手,包括:主动杆、从动杆、主动齿轮、从动齿轮、工作端头和固定部件;所述主动杆以及所述从动杆均与所述固定部件转动连接,且被所述固定部件限制径向以及轴向移动,所述主动杆上的一部分为操作部,所述操作部暴露...
  • 本发明提供一种薄膜晶体管的制备方法,以薄膜晶体管中的栅极和层间绝缘层为掩膜,通过3次离子掺杂工艺实现沟道区域、源极区、漏极区、LDD区等不同功能区的掺杂,制备步骤少、工艺简单。本发明提供一种薄膜晶体管,TFT沟道区域也进行了离子掺杂,载...
  • 本实用新型涉及一种柔性显示屏扩展装置。该柔性显示屏扩展装置包括显示屏、第一支撑体、第二支撑体、用于调整第一支撑体以及第二支撑体相对位置的调节机构;调节机构位于第一支撑体以及所述第二支撑体之间,第一支撑体上设有用于撑展柔性显示屏的第一撑展...
  • 本实用新型公开了一种扫描电镜,包括:系统舱,与所述系统舱密封连接的气闸,所述气闸内设有用于承载测试样品的载台,所述气闸内设有溅射靶,所述溅射靶朝向所述载台,所述溅射靶与所述载台之间不贴合。正是由于本实用新型中的扫描电镜在其气闸内设有溅射...
  • 本实用新型提供了一种灯丝固定装置,包括:灯丝连接杆、芯柱和螺母;所述灯丝连接杆为空心结构,且所述灯丝连接杆的一端为爪状结构;所述芯柱设置于所述灯丝连接杆的内部,且与所述爪状结构位置相对,待固定的灯丝位于所述芯柱内部;所述灯丝连接杆的爪状...
  • 本实用新型提供了一种CVD设备用吊具,其包括收放调节装置、位于收放调节装置底部的承载导轨、安装于所述承载导轨上的载板、以及连接相邻两个载板的连接板;所述收放调节装置包括旋转丝杆以及与旋转丝杆连接的拉伸件,所述拉伸件的一端与所述载板连接。...
  • 本实用新型公开了一种激光退火设备,其退火腔室中包含与惰性气管相连的惰性气体注射管,惰性气体注射管包含内管和外管,外管的管壁上沿长度方向设有对称的夹缝状开口,内管中包含至少两个子管道,每个子管道的管壁上沿长度方向设有夹缝状开口,且各子管道...
  • 本实用新型提供一种安装于高温炉腔室顶层的吊挂装置,用于吊挂至少一个隔热板,所述吊挂装置包括若干与所述隔热板边缘配合的挂钩。与现有技术相比,本实用新型在高温炉腔室顶层下方设置若干个与隔热板边缘配合的挂钩,用于吊挂隔热板。在安装隔热板时,可...
  • 本实用新型公开了一种有机发光显示装置,包括:第一基底,位于第一基底上方的若干有机发光二极管,第二基底,所述有机发光二极管具有阴极,所述有机发光二极管的阴极包括导电光学耦合层,所述阴极通过所述导电光学耦合层与所述第二基底连接。本实用新型实...
  • 本实用新型公开了一种风淋室,包括孔式底板;空气抽吸装置,所述空气抽吸装置包括吸入口,所述吸入口与所述孔式底板下方的可供气体流通的空间连通;气体喷嘴,所述若干气体喷嘴,设置于风淋室顶棚,所述若干气体喷嘴的入气口,分别与风机的送风风道连通。...
  • 本实用新型公开了一种应用于干刻设备工艺腔室中的边环,其特征在于,包括:多个边环单元;各边环单元分别设置有连接结构,所述连接结构设置在各边环单元的两端;各边环单元通过所述连接结构连接在一起构成所述边环,使得所述边环存在的各缝隙大小均小于规...
  • 本实用新型公开了一种运载装置,包括:具有收容槽的托盘,以及,位于所述收容槽中的网状托架。本实用新型实施例提供的运载装置内部设有网状托架,使得玻璃基板放置在该网状托架上进行RTA工艺时,与运载装置的接触面积较小,从而有效的减少了运载装置在...
  • 本实用新型提供一种风刀以及刻蚀装置,本实用新型的风刀包括壳体、腔体、进风口以及出风风道,所述壳体的一侧为贴合壁,用于与待清洁的平面相贴合,所述腔体设置在所述壳体的内部;所述出风风道围绕所述贴合壁设置一圈,且均与所述腔体相连通,所述出风风...
  • 本实用新型实施例公开一种清洁结构和采用该清洁结构的离子注入设备,通过清洁接口与气体通道的气体入口连通,再通过清洁气源构件对清洁接口输出气流,使得气流通过清洁接口和气体入口进入气体通道内,将堵塞气体通道内的污染物带出,实现快速清洁气体通道。