一种磁控喷溅装置(10)，其包括真空室(12)、靶(16)和气体分配系统(18)，受控的环境可以在所述真空室内建立，所述靶包括一种或多种可喷溅材料，其中靶包括跑道形喷溅区域(38)，所述跑道形喷溅区域沿纵向轴线纵向延伸并且包括被夹在第一...

用于将气体输送到溅射室的气体歧管设置有端口(116)以容纳等离子体发射监测仪，以监测所述溅射室中的等离子体信息，以提供反馈控制。所述等离子体发射监测仪的准直器暴露于气流中，并且所述监测仪的涂覆因此被大大减少。

本发明提供了具有主表面的玻璃基底，在所述主表面上具有包含透明导电氧化物膜的涂层。所述TCO包含掺杂铝的锌铝氧化物(“AZO”)或掺杂锡的氧化铟(“ITO”)。当所述涂覆的玻璃基底进行热处理时，涂层具有所希望的片电阻和吸收值。在某些情况下...

本发明提供一种带有低维护涂层的基底。在一些实施方案中，该涂层包括含有钛氧化物和氧化钨的低维护膜。本发明还提供沉积这种涂层的方法和设备。

本发明提供一种带有低维护涂层的基底。在一些实施方案中，该涂层包括含有一定厚度的含二氧化钛的膜的低维护膜，其中仅有一部分的厚度包含钨。该厚度包含内部和外部，该外部是含有钨的部分。本发明还提供沉积这种涂层的方法和设备。

本发明公开了在玻璃和其它基底上沉积涂层的方法和设备。在一些实施方案中，提供了任选地通过向下的涂覆操作沉积反射薄膜涂层（如对红外辐射的反射特别强的低辐射涂层）的方法和设备。在一些实施方案中，这种向下的涂覆操作与用于沉积另一个涂层的向上的涂...

本发明提供一种带有可除去覆盖物的基底。所述可除去覆盖物包括两个或更多个可除去膜，其中至少一个膜可通过不同于另一个膜的去除方法而除去。例如，在一些情况中，一个膜为可通过热处理除去的有机膜，而另一个膜为耐热处理但可溶于弱酸或弱碱的无机膜。

本发明提供承载光催化涂层的基底。在一些实施方案中，所述涂层包括沉积在含有氧化钨、氧化铝、氧化铌或氧化锆的层之上的光催化膜，该光催化膜含有二氧化钛。或者，该光催化膜可以含有二氧化钛和选自氮、钽、铜和二氧化硅的材料。本发明还提供了沉积该涂层...

本发明提供了对红外辐射高反射的低辐射涂层。该涂层包括三个红外反射膜区域，这三个红外反射膜区域可以均包含银。

本发明提供了多腔低辐射涂层。该涂层包括三个红外反射膜区域，这三个红外反射膜区域可以均包含银。

本发明提供了对红外辐射高反射的低辐射涂层。该涂层包括三个红外反射膜区域，这三个红外反射膜区域可以均包含银。

本发明提供了对红外辐射高反射的低辐射涂层。该涂层包括三个红外反射膜区域，这三个红外反射膜区域可以均包含银。

本发明提供了对红外辐射高反射的低辐射涂层。该涂层包括三个红外反射膜区域，这三个红外反射膜区域可以均包含银。

本发明提供了对红外辐射高反射的低辐射涂层。该涂层包括三个红外反射膜区域，这三个红外反射膜区域可以均包含银。

本发明提供具有日照控制低辐射涂层的基底。该日照控制低辐射涂层包括一层或多层介电吸收膜。在一些实施方案中，所述介电吸收膜具有小于１．９的吸收比ｋ↓［３８０＜λ＜４５０ｎｍ］／ｋ↓［６５０＜λ＜７６０ｎｍ］。