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JSR株式会社专利技术
JSR株式会社共有1438项专利
液晶取向剂制造技术
本发明提供一种液晶取向剂。本发明的液晶取向剂中含有聚合物成分以及选自由四氢‑4H‑吡喃‑4‑酮、四亚甲基亚砜、下述式(1)所表示的化合物、下述式(2)所表示的化合物、下述式(3)所表示的化合物及下述式(10)所表示的化合物所组成的群组中...
感放射线性组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂技术
本发明提供一种感放射线性组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂,所述感放射线性组合物能够形成可以充分的水平发挥灵敏度、LWR、图案矩形性、显影缺陷性能、EL、CDU及图案圆形性的抗蚀剂膜。一种感放射线性组合物,含有:下述式(1)所表示...
感光性树脂组合物、具有图案的树脂膜以及其制造方法、及半导体电路基板技术
本发明的一方式涉及一种感光性树脂组合物,所述感光性树脂组合物含有:(A)碱可溶性聚合物、(B)感光剂、(C)具有通过热而与下述成分(D)反应的交联性基的交联性化合物、(D)下述通式(1)所表示的化合物、以及(E)溶媒。〔通式(1)中,X...
液晶取向剂、弱锚定液晶取向膜及液晶元件制造技术
本发明提供一种液晶取向剂,可获得亮度特性及液晶取向性优异的液晶元件,并且可形成密接性优异的弱锚定液晶取向膜。液晶取向剂,含有包含式(1)所表示的结构单元(A)的聚合体(P),相对于聚合体(P)的所有结构单元,结构单元(A)的含有比例为3...
有机EL元件用硬化性组合物、有机EL元件用硬化物及其制造方法、有机EL元件、以及聚合物技术
一种有机EL元件用硬化性组合物,含有[A]包含源自具有酸性基的化合物的结构单元的聚合物及[B]感光性化合物,[A]聚合物包含源自芳香族乙烯基化合物的结构单元(I)与源自马来酰亚胺化合物的结构单元(II),作为具有酸性基的化合物,包含选自...
弱锚定膜形成用液晶取向剂、液晶取向膜的制造方法及液晶元件的制造方法技术
本发明提供一种弱锚定膜形成用液晶取向剂、液晶取向膜的制造方法及液晶元件的制造方法,可获得液晶取向性优异的液晶元件,并且可实现液晶元件的低电压驱动化,且可形成密接性优异的液晶取向膜。一种弱锚定膜形成用液晶取向剂,用于形成弱锚定液晶取向膜,...
液晶取向剂、液晶取向膜、液晶取向膜的制造方法、液晶元件及液晶元件的制造方法技术
本发明提供一种液晶取向剂、液晶取向膜、液晶取向膜的制造方法、液晶元件及液晶元件的制造方法。一种液晶取向剂,含有(A)成分、(B)成分及(C)成分。(A)聚合体;(B)在一分子内具有两个以上的亲核性官能基或酸性官能基,且一分子内所存在的亲...
硬化性组合物、硬化膜、有机EL元件及其制造方法技术
本发明涉及一种硬化性组合物、硬化膜、有机EL元件及其制造方法。一种硬化性组合物,含有聚合性化合物、以及聚合引发剂,所述硬化性组合物中,聚合性化合物包含:化合物(A1),由式(1):R1‑X1‑R2表示(式(1)中,R1及R2相互独立地为...
抗体及其用途制造技术
一种抗体或其片段,其重链可变区(V<subgt;H</subgt;区域)的互补决定区(CDR-H1~CDR-H3)分别包含序列号1~3所记载的氨基酸序列,以及,轻链可变区(V<subgt;L</subgt;区域)...
有机EL元件密封剂用的硬化性组合物、硬化膜、有机EL元件及其制造方法技术
本发明的课题在于提供一种可形成介电常数低、逸气的产生少、基板密合性高的硬化膜的有机EL元件密封剂用的硬化性组合物、硬化膜、有机EL元件及其制造方法。本发明涉及一种有机EL元件密封剂用的硬化性组合物,其含有马来酰亚胺化合物(A)、以及聚合...
聚合物、组合物、硬化物及显示元件制造技术
本发明的一实施方式涉及一种聚合物、组合物、硬化物或显示元件,所述组合物包含具有下述式(1)所表示的结构单元的聚合物。[式(1)中,A为具有芳香族杂环的二价基,B为具有芳香环或芳香族杂环、且具有碱可溶性基的二价基,X独立地为‑O‑、‑NH...
导电膜的制造方法、分散液、感放射线性树脂组合物、发光元件技术
本发明提供一种导电膜的制造方法,所述导电膜具有高导电性,并且可使具有导电性的碳材料遍及导电膜形成区域整体而均匀地固着。另外,提供一种制造方法,其能够有效率地去除导电膜中所残留的分散剂与感放射线性树脂组合物的处于未进行曝光的部分中的聚合物...
聚倍半硅氧烷化合物及其制造方法、以及组合物技术
本发明的课题在于提供一种制膜性优异的聚倍半硅氧烷化合物及其制造方法、以及组合物。聚倍半硅氧烷化合物,具有梯状结构的聚倍半硅氧烷骨架、且含有三种以上的不具有一级氨基或其盐结构的碳数1以上的特定侧链。
感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂技术
本发明提供一种感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂,其中,能够形成即便在形成高纵横比的抗蚀剂图案时也可以充分的水平发挥感度或LWR性能、DOF性能、图案矩形性、CDU性能、图案圆形性的抗蚀剂膜。一种感放射线性树脂组合物...
感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂技术
本发明提供一种感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂,能够形成一种即便在形成高纵横比的抗蚀剂图案时也可以充分的水平发挥感度或LWR性能、DOF性能、图案矩形性、CDU性能、图案圆形性的抗蚀剂膜。一种感放射线性树脂组合物,...
感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂技术
本发明提供一种感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂,其中,即便在形成高纵横比的抗蚀剂图案时,也能够形成可以充分的水平发挥感度或LWR性能、DOF性能、图案矩形性、CDU性能、图案圆形性的抗蚀剂膜。一种感放射线性树脂组合...
感放射线性组合物、透镜的制造方法、显示元件、显示装置、固态摄像元件、摄像装置及反应生成物制造方法及图纸
本发明提供一种具有良好图案化特性,能够通过低温下的加热而熔融,且能够获得高可靠性和高折射率的硬化物的感放射线性组合物、透镜的制造方法、显示元件、显示装置、固态摄像元件、摄像装置及反应生成物。感放射线性组合物包含A成分:由式(1)表示的化...
液晶显示装置的制造方法、液晶显示装置及曝光装置制造方法及图纸
一种液晶显示装置的制造方法、液晶显示装置及曝光装置,可通过比较简单的方法抑制因重复曝光引起的显示不均的产生。液晶显示装置的制造方法包括介隔光掩模对有机膜进行曝光的曝光工序:对有机膜的一部分进行一次曝光,对剩余的至少一部分进行重复曝光。光...
半导体基板的制造方法及膜形成用组合物技术
本发明提供一种能够形成耐蚀刻性及埋入性优异的膜的半导体基板的制造方法及膜形成用组合物。一种半导体基板的制造方法,包括在基板上涂敷膜形成用组合物的工序,所述膜形成用组合物含有金属化合物、具有芳香族烃环结构及下述式(1)所表示的部分结构的芳...
透镜的制造方法、感放射线性组合物、显示元件或装置、固体摄像元件、摄像装置及化合物制造方法及图纸
本发明提供一种透镜的制造方法、感放射线性组合物、显示元件或装置、固体摄像元件、摄像装置及化合物,可通过由低温加热引起的流动化形成透镜形状,且可获得耐热性高、高折射率的透镜。通过如下方法制造透镜,所述方法包括:在基材上涂布感放射线性组合物...
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