本发明提供一种溅射阴极以及使用该溅射阴极的溅射装置，其可以在包括平板状的被成膜体在内的各种被成膜体上以足够高的成膜速度且低冲击力进行成膜，而且溅射靶的使用效率高。溅射阴极具有溅射靶(10)，所述溅射靶(10)的横截面形状具有管状的形状，...

本发明的课题在于提供一种积层结构体(1)，所述积层结构体(1)能够防止或抑制含有扩散成分的层(12、16)中的该扩散成分向与该层(12、16)邻接的层(14、17)扩散。本发明的积层结构体(1)具有：导电层(12、16)，具有导电性，并...

本发明提供一种可有效率地形成具有优异的密封性的密封空间，并且可提高密封空间的设计自由度的金属结构体的制造方法。本发明是一种金属结构体的制造方法，其特征在于，所述金属结构体在内部具有至少一个密封空间，且制造方法包括：2个金属部件的准备步骤...

本发明的课题在于提供一种可抑制乃至防止制造步骤的繁杂化或制造装置的复杂化，且抑制乃至防止接合部位的缺陷的产生、与摩擦搅拌接合的工具的破损的金属结构的制造方法。本发明的金属结构的制造方法中，金属结构包含在沿垂直方向相互重叠的状态下利用摩擦...

本发明涉及一种金属结构体的制造方法及金属结构体。本发明提供一种能够抑制或防止接合部位中产生缺陷及制造步骤的繁杂化、且能够确保设计自由度的金属结构体的制造方法。

本发明提供一种溅射阴极以及使用该溅射阴极的溅射装置，其可以在包括平板状的被成膜体在内的各种被成膜体上以足够高的成膜速度且低冲击力进行成膜，而且溅射靶的使用效率高。溅射阴极具有溅射靶(10)，所述溅射靶(10)的横截面形状具有管状的形状，...

本发明涉及溅射阴极、溅射装置和成膜体的制造方法。溅射阴极具有溅射靶，所述溅射靶具有横截面形状具有相互相对的一对长边部的管状的形状且侵蚀面朝向内侧。使用该溅射阴极，在由溅射靶包围的空间的上方，使具有宽度比溅射靶的长边部窄的成膜区域的被成膜...

溅射阴极具有溅射靶，所述溅射靶具有横截面形状具有相互相对的一对长边部的管状的形状且侵蚀面朝向内侧。使用该溅射阴极，在由溅射靶包围的空间的上方，使具有宽度比溅射靶的长边部窄的成膜区域的被成膜体与溅射靶的一端面平行地且沿与长边部垂直的方向以...