本技术公开了一种空间利用率高的真空烘烤炉，包括炉体和调节结构，所述炉体左侧通过合页装设有炉门，所述调节结构均装设于炉体顶部以及内部；所述调节结构包括驱动电机，所述驱动电机与炉体顶部左侧插接，所述驱动电机输出端方向为下部，所述驱动电机输出...

本技术涉及一种膜层厚度检测机构，包括支架和检测台，所述检测台的上侧设置有膜厚仪本体，所述支架的顶部固定连接有侧板，所述侧板的数量设置为两个，两个所述侧板之间设置有移动组件，所述移动组件包括液压杆，所述液压杆的输出轴上固定安装有连接件，所...

本技术涉及一种薄膜方阻测量机构，包括底座、表笔、调节机构和固定机构，所述底座顶部的四周均固定安装有支撑杆，所述支撑杆的顶部固定安装有顶座，所述顶座顶部的正面固定安装有方阻仪；所述调节机构包括固定安装于底座内部左侧的伺服电机，所述伺服电机...

本技术涉及薄膜检测技术领域，且公开了一种薄膜表面粗糙度检测机构，包括箱体，所述箱体底部的四个角分别固定连接有支脚，所述箱体的内部设置有检测结构，所述箱体的下方设置有吸尘结构，所述检测结构包括固定连接于箱体内顶壁的框架，所述框架的右侧固定...

本实用新型涉及基板清洗处理装置，包括清洗槽