本实用新型涉及ITO镀膜技术领域，尤其涉及一种真空旋涂设备。所述真空旋涂设备包括真空室，真空室内设置有旋转台，旋转台上设置有玻璃夹具；所述真空室的右侧依次设置有一级干燥室和二级干燥室，使得ITO膜的膜厚更均匀，产品穿透率和阻抗特性更理想。

本实用新型涉及导电玻璃技术领域，尤其涉及一种导电玻璃样片制作装置，它包括溅射室，溅射室内设置有圆形旋转台，圆形旋转台设置有多边形双层基片架，多边形双层基片架的每条边上放置有玻璃基片，多边形双层基片架的边数大于等于六边；所述圆形旋转台的旁...

本实用新型涉及导电玻璃技术领域，尤其涉及一种触摸屏导电玻璃结构，它包括玻璃基片，玻璃基片的镀膜表面镀有一层二氧化硅镀膜层，二氧化硅镀膜层的上表面镀有一层二氧化钛镀膜层，二氧化钛镀膜层的上表面镀有一层氧化铟锡镀膜层，氧化铟锡镀膜层的上表面...

本发明涉及ITO镀膜技术领域，尤其涉及一种ITO镀膜生产线及生产工艺。ITO镀膜生产线包括玻璃基片输送线、基片夹具、夹具机械手和真空镀膜机，真空镀膜机设置于玻璃基片输送线的右端；基片夹具用于装夹玻璃基片，基基片夹具放置在玻璃基片输送线上...

本发明涉及ITO镀膜技术领域，尤其涉及一种ITO膜导电玻璃生产方法及一种真空旋涂设备。所述真空旋涂设备包括真空室，真空室内设置有旋转台，旋转台上设置有玻璃夹具；所述真空室的右侧依次设置有一级干燥室和二级干燥室，使得ITO膜的膜厚更均匀，...