何文志专利技术

何文志共有2项专利

  • 本实用新型系有关一种表面黏着型发光二极体,其结构包括有一导线架、一射出成型反射罩、一发光二极体、一金属导线及导线架电极,其特征在于该导线架具有经机械、蚀刻或激光加工…等方式形成的部分凹陷区域,该凹陷区域经塑胶射出包覆成型即构成为底座;且...
  • 本发明公开了一种混光层和混光方法,其是在制作混光装置时,以加工方式使其中的混光层内的各组成物的微粒产生相间的排列,致使该混光层于吸收发光源所供给的光波长后,能使荧光体微粒受激发而产生另一光波长,而该两种不同的光波长会于混光层内达到充分的...
1