霍尼韦尔国际公司专利技术

霍尼韦尔国际公司共有5140项专利

  • 本发明提供适合在很宽的应用范围中使用的含氟烃组合物。本发明的组合物能溶解在烃润滑油中,因此,在制冷应用中代替CFC和HCFC组合物是特别有用的。
  • 描述的是一种有至少一种有马来酐加合到该分子上的马来化橡胶和至少一种有羟基末端的烯烃橡胶的柔软且可交联的热界面材料,和所述材料的制作与使用方法;以及聚合物体系热导率的改善方法。
  • 本发明提供了包含三氟碘甲烷和有效量的稳定剂的新型组合物,优选所述稳定剂包含至少一种酚化合物和任选的至少一种选自芳族环氧化物、烷基环氧化物、烯基环氧化物、多取代的环氧化物的环氧化物以及其中的两种或多种的组合。本发明还提供了稳定包含三氟碘甲...
  • 本发明提供了包含二氟甲烷和三氟碘甲烷的类共沸组合物及其用途,包括用于制冷剂组合物、制冷体系、发泡剂组合物和气溶胶推进剂。
  • 本发明提供了包含四氟丙烯和三氟碘甲烷的类共沸组合物及其用途,包括用于制冷剂组合物、制冷体系、发泡剂组合物和气溶胶推进剂。
  • 公开了适用于很多应用中的组合物,包括具有高度理想且出乎意料地优异的性能组合的传热流体,和基于这些流体的传热系统和方法。优选的传热流体包括约1至约40重量%的二氧化碳(CO↓[2])和约60至约99重量%的式Ⅰ即XCF↓[Z]R↓[3-Z...
  • 本发明提供了包含四氟丙烯和五氟丙烯的类共沸组合物、其用途以及使用所述组合物的体系和方法,所述用途包括用于制冷剂组合物、发泡剂组合物、可发泡组合物、泡沫、灭菌组合物和可喷雾组合物。
  • 提供了包括四氟丙烯和氟代烃的类共沸物组合物及其应用,包括用于制冷剂组合物、制冷系统、发泡剂组合物和气溶胶推进剂的应用。
  • 一种开发或产生污染信用的方法,其在使用或产生GWP较高化合物的组合物和方法中,用全球变暖潜能值(GWP)较低的卤代烯烃化合物,优选氟代烯烃化合物来替换GWP较高的化合物,例如全氟烃化合物(PFC)、含氢氟烃化合物(HFC)、含氯氟烃化合...
  • 一种开发或产生污染信用的方法,其通过在使用GWP较高的化合物的组合物和方法中用全球变暖潜能值(GWP)较低的卤代烃混合物或卤代烃与CO↓[2]的混合物来替代GWP较高的氟烃或含氟烃的组合物,例如全氟烃化合物(PFC)、含氢氟烃化合物(H...
  • 本发明提供了包含二氟乙烷和三氟碘甲烷的类共沸组合物、包含二氟乙烷、四氟丙烯和三氟碘甲烷的类共沸组合物及其用途,包括用于制冷剂组合物、制冷体系、发泡剂组合物、气溶胶推进剂以及其他用途。
  • 可交联的热界面材料通过混合至少一种橡胶化合物、至少一种胺树脂和至少一种导热性填料来生产。该界面材料采取液体或“软凝胶”的形式。凝胶状态通过在至少一种橡胶化合物组合物和至少一种胺树脂组合物之间的交联反应所引起。一旦已经制备了包括至少一种橡...
  • 本发明揭示了多种包含至少一种碘烃(iodocarbon)化合物且优选包含至少一种含有二烯基(diene-based)化合物的稳定剂的组合物。所述组合物一般用作加热和冷却用的制冷剂、发泡剂、气雾剂推进剂、溶剂组合物以及灭火剂和火焰抑制剂。
  • 本文中描述了包含至少一种低H↓[2]O含量氟基成分和至少一种溶剂和溶剂混合物的去除化学物质溶液。去除化学物质溶液还包含:氟化氢气体和至少一种溶剂或溶剂混合物。本文中描述了用于制备去除化学物质溶液的方法,该方法包括:提供至少一种气态的低H...
  • 公开的形成多组分制冷剂组合物的方法和系统包含:(a)以第一流速将第一制冷组分引入到容器中;(b)以第二流速将至少一种第二制冷剂组分引入到所述的容器中,其可以与在至少一部分所述第一制冷剂引入步骤中的第一流速相同或不同;(c)控制所述第一和...
  • 氟代乙烯包括四氟丙烯的各种用途,特别是公开了HFO-1234在各种应用包括作为发泡剂的各种用途。
  • 四氟丙烯的各种用途,特别是(HFO-1234)在各种应用包括致冷装置中的各种用途。这些材料通常用于作为加热和冷却的致冷剂、作为发泡剂、作为气雾剂推进剂、作为溶剂组合物和作为扑灭和抑制火焰剂。
  • 本发明涉及1,1,1,3,3-五氟丙烷、1,1,1,2,3,3-六氟丙烷和1,1,1,2-四氟乙烷混合物的工作流体及其使用方法和装置。本发明提供一种用于加热和冷却的工作流体。该流体为约1质量%-约98质量%的1,1,1,3,3-五氟丙烷...
  • 使用一种诸如墨汁或油漆的涂层,涂层中的微粒根据电、磁或光/光特性加以选择,并被分散在涂层中以构成所需的物理颜色。在一种方法中,利用电或磁场,控制对诸如对纸张底物涂布涂层。在另一种方法中,通过使电、磁或光致电磁场靶准涂层指定位置,形成底物...
  • 荧光颜料化合物包括具有通式(Ⅰ)的芳基脲基苯并噁嗪酮化合物,其中R↑[1]为取代或未取代的芳基,R↑[2]和R↑[3]各自独立选自H原子、烷基、烷氧基、烷基羧基和卤原子,X为碳或硫原子,n为1或更大的整数。许多这类化合物在合适的UV光源...