河南东微电子材料有限公司专利技术

河南东微电子材料有限公司共有109项专利

  • 本实用新型公开了一种用于高纯钌靶制备的真空热压炉,包括真空热压炉本体,所述真空热压炉本体底座上设有固定轴,所述真空热压炉本体内设有模槽,所述模槽内插设有模具,所述模槽的顶面和底部上均插设有柱形水冷组件本体,所述模具的上下两端分别与两个柱...
  • 本实用新型公开了一种靶材背管加工装置,包括底座、待加工件,所述底座的上端固定连接有两个竖板,两个所述竖板的上端均开设有放置槽,所述待加工件放置在两个放置槽内,所述放置槽的两端内侧壁共同固定连接有两个与待加工件的端部相抵的限位板,所述竖板...
  • 本实用新型公开了一种金属平面靶材机加工的装夹装置,包括底座,所述底座上表面滑动连接有若干滑动板,所述滑动板上表面焊接有固定块,所述滑动板上滑动连接有若干第一固定座,所述第一固定座的截面为开口朝向所述固定块的凹字形,所述第一固定座螺纹连接...
  • 本实用新型公开了一种钛铬合金加工用水淬槽,包括底座和蓄水盆,所述蓄水盆的侧壁固定安装有安装板,所述安装板上设有吊起机构,所述底座的顶部设有蓄水机构,所述蓄水机构贯穿蓄水盆的侧壁并延伸至其内部,所述蓄水盆内固定安装有限位框,所述蓄水盆的内...
  • 本发明提供了一种氧化镁靶材与背板焊接的方法,涉及溅射靶材领域。包括:对靶材和背板的焊接面清洗、喷砂处理;将熔融钎料倒入喷砂处理后的靶材和背板的焊接面上,进一步用超声波促使钎料与靶材焊接面和背板焊接面浸润实现焊接。本发明中通过增加对焊接面...
  • 本实用新型公开了一种对废催化剂中钌进行回收的装置,包括加热管,所述加热管的一端螺纹套设有螺纹塞,所述螺纹塞上固定连接有进气管,所述进气管贯穿螺纹塞与加热管连通设置,所述加热管外侧壁上套设有管式炉,所述加热管贯穿管式炉加热孔设置,所述加热...
  • 本实用新型公开了一种制取三氯化钌的干燥装置,包括底座,底座的顶壁上固定安装有安装板,安装板的顶壁上固定安装有蒸馏容器,底座的顶端转动安装有环形转盘,且环形转盘拆卸安装在安装板的外侧壁上,环形转盘的底壁上固定安装有环形底板,底座的顶壁上开...
  • 本实用新型公开了一种制备高纯钌的装置,包括烘干筒和热风机,所述烘干筒的上端侧壁固定连接有伺服电机,所述伺服电机的输出轴密封贯穿烘干筒的上端侧壁并固定连接有支架,所述支架的两端均固定连接有竖直的竖杆,所述竖杆的下端侧壁与烘干筒的内壁滑动连...
  • 本实用新型公开了一种锇、钌吸收装置,包括吸收箱,所述吸收箱内通过隔板分隔成第一吸收腔、第二吸收腔和第三吸收腔,所述第一吸收腔、第二吸收腔和第三吸收腔并列设置,且第二吸收腔固定设置在三吸收腔上侧壁,所述第一吸收腔固定设置在第一吸收腔上侧壁...
  • 本实用新型公开了一种带有水冷保护结构的钌锇蒸馏装置,包括吸收瓶,其特征在于,所述吸收瓶内设有吸收液,所述吸收瓶内固定设有进气管,所述进气管贯穿吸收瓶上壁设置,所述进气管的管口设置在吸收液内,所述吸收瓶的外壁设有水冷保护装置,所述吸收瓶的...
  • 本实用新型公开了一种用于四氧化钌制取三氯化钌的反应容器,包括烧瓶,所述烧瓶上设置有排压口,所述排压口内壁设置有环形的凸起部,所述凸起部上设置有呈球型的排压塞,所述排压口连接有导管,所述烧瓶顶部内侧壁插设有密封塞,所述密封塞外侧壁转动连接...
  • 本实用新型公开了一种用于制取四氧化钌的装置,包括反应筒和密封设置在反应筒上下两端的上壳体与下壳体,且上壳体与下壳体均呈漏斗状,所述上壳体的顶端连通有四氧化钌排气管,所述上壳体关于四氧化钌排气管对称连通有氢氧化钠溶液加料管与钌粉加料管,所...
  • 本实用新型公开了一种蒸馏提取钌的新型装置,包括方形且实心的装置体,所述装置体内从上至下依次开设有提取槽与蓄水腔,所述提取槽内交错设置有多个吸收瓶,所述提取槽内设有多个用于承载吸收瓶的承载件,所述装置体内对称设有两个换水机构,所述换水机构...
  • 本实用新型公开了一种钌、锇气体吸收装置,包括吸收罐,所述吸收罐内设有主吸收室,所述主吸收室两侧设有次级吸收室,所述主吸收室与次级吸收室内均注有吸收液,所述主吸收室与次级吸收室之间连通有连通管,所述吸收罐上固定连接有气体输入管,所述气体输...
  • 本实用新型公开了一种用于载钌活性炭的脱钌再生装置,包括机体,所述机体的顶部贯穿设有与其内部相互连通的进料漏斗,所述机体上设有搅拌机构,所述搅拌机构延伸至机体内,所述机体的两端侧壁贯穿设有多个进液管,多个所述进液管均延伸至机体内且其底部均...
  • 本发明涉及粉末冶金技术领域,具体涉及一种高纯钌粉的制备方法。旨在解决现有技术中产品纯度低,杂质量大的问题。本发明包括:(1)在碱性条件下通入氯气氧化,氧化蒸馏:(2)NH4Cl沉淀,得到(NH4)2RuCl6沉淀;(3)高压水热还原,得...
  • 本发明公开了一种磁控溅射镀膜设备,包括真空室,真空室的内部下端设有基片台,基片台的上端设有靶座,靶座的上端设有固定装置,真空室的内部上端设有旋转装置,旋转装置的下端设有连接件,连接件的一端设有磁控靶,其中,旋转装置包括固定架,固定架的上...
  • 本发明公开了一种磁控溅射用靶材的回收系统及其回收工艺,包括传送机构、第一清洗机构、烘干机构、第二清洗机构、打磨机构、转运车、切割机构和高压锻造炉,所述传送机构包括传送轨道,传送轨道内设有滚轮,滚轮设置于活动连接板上,活动连接板的两端设有...
  • 本发明公开了一种新型自动控温的陶瓷手臂,包括连接臂一和连接臂二,连接臂一的一侧边连接有连接臂二,且连接臂一的内部为镂空结构,连接臂一的内部一侧边固定有电机一,电机一的输出轴与转轴一连接,转轴一远离电机一的一端与转筒的一端连接,转筒的表面...
  • 本实用新型公开了一种便于固定的半导体加工用固定装置,属于半导体技术领域,其技术方案要点是,包括装置本体、升降装置和固定装置,装置本体的上端面安装有固定底座,固定底座的正面设置有推块,推块的内侧安装有连接轴,支撑杆的外侧壁贯穿连接有放置架...