本发明涉及一种单片式晶圆清洗工艺中的高速传输方法，包括：将腔室的压力维持于预设压力；通过第一抓取结构将第一晶圆从过渡腔室传输至清洗腔室，通过第二抓取结构将第二晶圆从前一工序传输至过渡腔室，通过第三抓取结构将第三晶圆从清洗腔室传输至干燥腔...

本发明公开了一种晶圆清洗系统及其工作方法，其中，晶圆清洗系统包括：清洗腔；晶圆承载平台，晶圆承载平台设置于清洗腔内；液膜生成喷淋装置；功能水供应装置，功能水供应装置的输出端与液膜生成喷淋装置的输入端连接，功能水供应装置用于供应一混合有功...

本发明公开了一种建立梯度结构蚀刻的喷淋系统与颗粒控制的控制装置，涉及到单晶圆清洗的技术领域，包括安装板、外壳、雾化喷淋机构、点射喷淋机构、直射喷淋机构和晶圆承载平台组件，所述安装板上设有所述外壳，所述外壳的内部为清洗腔，所述清洗腔中设有...

本发明公开了一种用于晶圆表面清洗的装置，包括装置壳体，装置壳体底部为基座；基座上设置有旋转机构，旋转机构用于放置晶圆片，并带动晶圆片旋转；装置壳体顶部设有清洗机构，清洗机构包括升降板、带动升降板在晶圆片上方上下运动的动力机构以及多条喷淋...

本发明公开了一种具有氮气吹送的晶圆清洗系统以及晶圆清洗方法，其中，具有氮气吹送的晶圆清洗系统包括：清洗腔、清洗台、移动臂和双流体喷淋组件，清洗腔内设置有清洗台，清洗台上可操作地放置有晶圆片，移动臂设置于清洗腔的外侧，移动臂上安装有双流体...

本发明提供了一种晶圆清洗装置，包括外壳和用于夹持晶圆的卡盘；所述外壳内设有淋浴管，所述淋浴管向夹持在所述卡盘上的晶圆正面喷射清洗液，所述外壳包括喷头管和支架，所述支架位于卡盘的中心轴线处，且上部安装有支撑部，所述支撑部顶端固定安装支撑环...