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广立微上海技术有限公司专利技术
广立微上海技术有限公司共有18项专利
用于后段金属工艺监控的测试结构、测试电路和测试芯片制造技术
本发明涉及一种用于后段金属工艺监控的测试结构、测试电路和测试芯片,包括同层的多根第一金属线、多根第二金属线和至少一根第三金属线;所述第一金属线、第二金属线和第三金属线都沿着第一方向延伸,且所述第一金属线和第二金属线间隔交错布置,第三金属...
一种熔线熔断影响的监控结构制造技术
本技术涉及一种熔线熔断影响的监控结构,包括多组监控单元,在熔线的熔断工艺影响范围内,设置多组监控单元;所述监控单元中连接有至少一个目标对象;所述目标对象包括有源区层、多晶硅层、金属层和连接孔层中的至少一个结构。采用所述监控结构,能够实现...
一种用于电性检测的测试结构和集成电路制造技术
本技术提供一种用于电性检测的测试结构和集成电路,所述测试结构包括至少一个测试单元和连接所述测试单元的隔离组件,所述隔离组件设置于所述测试单元的引脚连线上,用于在对至少一个所述测试单元执行电性测试时可控地断开所述测试单元的对外连接。本技术...
一种版图文件多线程读取方法、装置、设备和存储介质制造方法及图纸
本发明涉及一种版图文件多线程读取方法、装置、设备和存储介质。所述方法包括:所述版图文件包括多个记录;基于记录信息对所述版图文件进行分块处理,得到待读取块并放入待读取队列,以及得到待分块压缩块并放入待分块队列;当监测到待分块队列中有待分块...
一种版图文件并行读取方法、装置、设备和可读存储介质制造方法及图纸
本发明涉及一种版图文件并行读取方法、装置、设备和可读存储介质。所述方法包括:所述版图文件包括多个记录;基于记录信息对所述版图文件进行分块处理,得到待读取块并放入待读取队列;当监测到待读取队列中有待读取块且存在可分配的空闲线程时,分配线程...
一种版图及版图文件的裁剪方法、装置、设备和存储介质制造方法及图纸
本发明涉及一种版图及版图文件的裁剪方法、装置、设备和存储介质。所述方法包括:获取版图,确定所述版图的裁剪对象和目标裁剪区域;将所述裁剪对象中的顶层结构作为入口结构;以入口结构作为根节点,基于引用关系,逐个获取结构进行处理,得到所述结构的...
栅氧化层电性厚度监测结构、方法、装置和计算机设备制造方法及图纸
本申请提供一种栅氧化层电性厚度监测结构、方法、装置和计算机设备,结构包括:间隔布置的第一MOS结构和第二MOS结构,其中,第一MOS结构中,源漏区域上方形成第一极板,沟道区域上方形成第二极板,第二极板上的栅极与源漏区域具有第一重叠区域;...
一种用于检测切断层刻蚀性能的测试结构制造技术
本技术提供一种用于检测切断层刻蚀性能的测试结构,包括至少一个测试单元:所述测试单元包括第一金属线、第二金属线和切断结构;所述第一金属线和所述第二金属线属于同一个金属层,所述切断结构用于对所述金属层的金属线进行切断;所述第一金属线上设置有...
一种用于检测晶体管沟道断路的测试结构制造技术
本技术提供一种用于检测晶体管沟道断路的测试结构,包括至少两个不同沟道数量的测试单元;测试单元包括一个或多个晶体管;晶体管包括沟道结构和栅极结构,沟道结构包括一个或多个相间隔的沟道;测试单元包括一个晶体管时,通过晶体管中位于栅极结构一侧的...
一种用于填充工艺检测的测试结构制造技术
本技术提供一种用于填充工艺检测的测试结构,所述测试结构包括至少一个测试单元;所述测试单元包括至少两根第二测试线,所述第二测试线的两侧分别设置有至少一根第一测试线,所述第一测试线和第二测试线为同层的图形;所述第二测试线串联后,首尾两端分别...
版图优化评估方法、测试结构、装置及存储介质制造方法及图纸
本申请涉及一种版图优化评估方法、测试结构、装置及存储介质。所述方法包括:获取第一版图;构建多种类型的测试电容结构对应的延时关系;所述延时关系包括基于测试电容结构的延时、电容值和/或结构设计参数的数据关系;获取版图优化类型;基于所述版图优...
一种监测半导体器件性能的方法、测试结构及测试系统技术方案
一种监测半导体器件性能的方法、测试结构及测试系统,涉及一种监测半导体器件性能的方法,包括:在硅片上形成至少两种包含半导体结构的测试单元,包括至少一种具有第一结构集群的第一测试单元和至少一种具有第二结构的第二测试单元;对硅片进行激光退火工...
版图匹配方法、装置、计算机设备及可读存储介质制造方法及图纸
本申请涉及一种版图匹配方法、装置、计算机设备及可读存储介质,通过获取匹配模板和版图;基于所述匹配模板建立核验模板和至少一个过滤模板;所述过滤模板包括所述匹配模板中的部分图形的图形信息;所述核验模板包括所述匹配模板中的全部图形的图形信息;...
电性数据分析方法、装置、晶圆级测试设备和存储介质制造方法及图纸
本申请涉及一种电性数据分析方法、装置、晶圆级测试设备和存储介质。所述方法包括:获取测试目标的电性测试数据;所述电性测试数据的数据属性包括所述测试目标的结构相关属性和测试相关属性;基于所述电性测试数据的结构相关属性和第一判断标准,判断所述...
一种用于监测金属层断路的测试结构制造技术
本技术提供一种用于监测金属层断路的测试结构,包括若干测试单元;相邻两个测试单元形成测试组,若干测试组通过M1金属层连接结构相连。测试单元包括:有源区、交替设置在有源区上的多晶硅层和第一M0金属层、以及位于有源区一侧的第二M0金属层,第一...
一种降低晶体管中鳍部错位的方法及其晶体管结构技术
本发明涉及一种降低晶体管中鳍部错位的方法及其晶体管结构,包括:提供衬底;在所述衬底上沉积有浅沟槽隔离介电薄膜;在所述衬底上形成有鳍部,且鳍部从所述浅沟槽隔离介电薄膜的上表面突出;在所述衬底上还沉积有栅极,栅极横跨所述鳍部;在所述栅极中形...
图片自动标注方法、装置、计算机设备和存储介质制造方法及图纸
本申请涉及一种图片自动标注方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括:获取多个图片集,每个图片集对应一种图片状态;基于图片状态,确定目标打标模式;基于目标打标模式对多个图片集中的待打标图片进行打标,生成打标图片;将打标图片按照自定义...
一种光刻热点识别方法、目标图形组合的查找方法技术
本发明公开了一种光刻热点识别方法,在版图上找到目标图形组合,并识别为光刻热点;包括采用第一、第二掩膜分别形成的位于同一金属层的第一、第二金属连线以及连接第二金属连线的金属通孔;第二金属连线的两侧各分布有与其平行的第一金属连线,且第一金属...
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