本发明提供一种大幅削减并缩短教学操作时间的教学方法，该方法将具有搬运机构的处理系统中所述搬运机构的移动目标位置存储于控制装置，所述搬运机构以拾取器保持并搬运被处理体，其工序如下：在移动至临时目标位置的移动路径的途中，在所述搬运机构与其它...

一种输送系统的输送位置对准方法，其特征在于，　　　　该输送系统具有：　　　　至少具有１个保持被输送物的拾取器件的第一输送机构；　　　　至少具有１个保持被输送物的拾取器件的第二输送机构；　　　　多个装置，可由所述第一和第二输送机构中的至少...

一种用来在高压处理过程中支托半导体晶片的真空吸盘，包括：　　　　ａ．晶片台板，它包含光滑表面、第一至第三升降销孔和处在光滑表面内的真空开口，该真空开口可对半导体晶片表面施加真空；　　　　ｂ．分别安装在第一至第三升降销孔内的第一至第三升降...

一种探针的研磨方法，使用研磨部件研磨实施被检测体电性能检测的排列在探针板上的多枚探针，其特征在于：　　　　使所述研磨部件与所述探针板的位置发生相对变化，分多次对所述多枚探针进行研磨。

公开了一种清洁物体表面的方法。该物体放在压力腔的支撑区上（１０），然后给压力腔加压（２０），执行清洁工艺（３０），执行一系列的减压循环（４０），然后放空压力腔（５０）。

一种用于将清洗液喷洒在基底上的装置和方法，其中所述清洗液通过一个喷嘴阵列基本喷洒在靠近基底的中心处并且通过第二喷嘴阵列喷洒在穿越所述基底的径向范围。因此，所述装置包括：第一喷嘴阵列，其包括至少一个喷嘴并被构造成将所述清洗液基本喷洒在靠近...

在对基板表面进行旋转清洗时，减少在基板上残留的水滴，抑制例如曝光后的加热处理时的水滴或水印引起的加热斑。使来自清洗液喷嘴的清洗液的供给位置从基板的中央部向周边移动，同时，相对于比供给位置位于基板旋转方向下游侧的区域，向基板的外侧喷出气体...

本发明提供了可以高效率而且充分地洗涤面向狭小空间的结构部件的洗涤装置。洗涤装置（１００）具有主体（１２０）和从主体（１２０）内部弯曲自由地延伸的二层管喷嘴（１１０）。二层管喷嘴（１１０）具有喷出管（１１４）和包围该喷出管（１１４）的吸引...

本发明提供一种涂布方法，在长条形涂布喷嘴上经常稳定地得到良好的浸润线，从而在被处理基板上形成一定厚度且没有涂布斑的涂布膜。浸润线打底处理部（１２５），由多功能单元（１７２）内的抗蚀液供给部将抗蚀液或稀释抗蚀液供给至从前面渗出抗蚀液那样构...

本发明描述了用于衬底温度的多区控制的方法和系统。该温度控制系统包括热交换器，该热交换器耦合到被构造来支撑衬底的衬底夹持器中的两个或更多个流体通道。热交换器被构造来调节流经所述两个或更多个流体通道的传热流体的温度。温度控制系统还包括传热单...

一种涂层形成装置，包括： 基片固定部分，用来固定基片； 喷嘴部分，通过设在其末端的排出口将涂层液体供应到由所述基片固定部分固定的所述基片上； 涂层液体输送通道，用来将所述涂层液体输送到所述喷嘴部分； 管道，连接所...

本发明提供一种涂敷方法及涂敷装置，在非旋转方式中以稳定的动作再现性良好地进行涂敷膜的膜厚控制，特别是涂敷扫描终端部的膜厚均匀化。在抗蚀剂喷嘴（７８）经过通过点（Ｘ↓［１］）的时刻（ｔ↓［１］）停止抗蚀剂泵，在经过一定延迟时间之后的时刻点...

内装有担载吸附剂的蜂窝结构体（２５）的二个转子（１８ａ、１８ｂ）由共同的马达（１９）驱动转动。隔离部件（１７）依靠该隔离部件（１７）与对应该隔离部件（１７）的转子之间的转动位置关系，在该转子上划分出吸附区域（Ｓ）、再生区域（Ｕ）。在吸附...

提供一种用于供给除去有机物的气体的减湿系统。该减湿系统具有保持壳体及可自由旋转地支持在该保持壳体上、并且载有吸附剂的转子。转子通过设置在保持壳体上的分隔板划分成吸附区与再生区。将被处理气体供给到吸附区，将在吸附区处理的被处理气体供给到目...

一种蒸汽干燥装置备有：处理室（１ａ），收容半导体晶片（Ｗ）；供给喷嘴（２），对该处理室（１ａ）内供给ＩＰＡ蒸汽或者Ｎ↓［２］气体；两流体喷嘴（３），生成ＩＰＡ和Ｎ↓［２］气体的混合流体；蒸汽产生装置（１０），加热混合流体，生成ＩＰＡ蒸汽...