本实用新型公开了塑胶溅射镀膜设备，包括结构主体，所述结构主体包括送料装置与溅射镀膜装置，所述溅射镀膜装置包括周转室、第一溅射室、第二溅射室、第三溅射室以及第四溅射室，所述周转室设于溅射镀膜装置的中间，所述第一溅射室、第二溅射室、第三溅射...

本发明是一种表面氧化方法，包括以下步骤：S1、将产品表面进行粗清理，将粗清理后产品吹干；S2、将粗清理后产品放置入真空腔中，真空腔中设置有隔离板，隔离板将真空腔分为溅射腔室与氧化腔室，对真空腔进行抽真空，真空腔中真空度范围为5pa

本发明是一种电路板生产方法，包括以下步骤：S1、将刻蚀电路板用晶圆表面进行粗清洗；S2、将粗清理后晶圆放置入真空腔中，对真空腔进行抽真空，真空腔中真空度范围为5pa

本发明是一种表面清洗氧化方法，包括以下步骤：S1、将待处理产品表面进行粗清洗，将粗清洗后的待处理产品吹干；S2、将粗清洗后待处理产品放置入真空腔中，对真空腔进行抽真空；S3、向真空腔内通入惰性气体，真空腔中真空度范围为5pa

本发明公开了溅射镀膜设备，包括送料机构与溅射镀膜机构，溅射镀膜机构包括周转室、第一溅射腔室、第二溅射腔室、第三溅射腔室以及第四溅射腔室，周转室设于溅射镀膜机构的中间，而第一溅射腔室、第二溅射腔室、第三溅射腔室以及第四溅射腔室依次围绕周转...

本实用新型是一种表面清洁装置，包括主机体，所述主机体一侧设有真空泵组，所述主机体底部还设有惰性气体箱及活性气体箱，所述惰性气体箱一侧设有高压电源，所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通，所述主机体内部中空形成腔体，本实用...

本实用新型是一种等离子表面清洁装置，包括主机体，所述主机体一侧设有真空泵组，所述主机体两端还设有惰性气体箱及活性气体箱，所述惰性气体箱与所述活性气体箱一侧分别设有高压电源及电控箱，所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通，...

本发明是一种表面清洁装置，包括主机体，所述主机体一侧设有真空泵组，所述主机体底部还设有惰性气体箱及活性气体箱，所述惰性气体箱一侧设有高压电源，所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通，所述主机体内部中空形成腔体，本发明中采...

本发明是一种等离子表面清洁装置，包括主机体，所述主机体一侧设有真空泵组，所述主机体两端还设有惰性气体箱及活性气体箱，所述惰性气体箱与所述活性气体箱一侧分别设有高压电源及电控箱，所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通，所述...