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德国艾托特克有限两合公司专利技术
德国艾托特克有限两合公司共有44项专利
用于确定电镀组合物上泡沫层的高度的方法技术
本发明涉及一种利用雷达信号确定电镀组合物上的泡沫层的高度的方法以及相应的用途。
在圆形衬底表面上沉积铬层的包括激光预处理的方法技术
本发明涉及一种在表面上沉积铬层的方法。本发明尤其涉及一种在圆形衬底表面上沉积铬层的方法,所述方法包含激光预处理步骤以便从衬底去除材料。
在处理装置中氧化锰物质的方法及处理装置制造方法及图纸
本发明涉及一种在包含至少一个阳极单元(20)和至少一个阴极(30)的处理装置(10)中氧化锰物质的方法,其中所述单元包含至少一个阳极(21)且受外壳(22)限制,所述外壳界定自由内部体积(V),其中(i)所述外壳包含至少一个可渗透屏障(...
铜层与有机层的复合物及其制造方法技术
本发明涉及一种复合物及其制造方法及一种复合物,所述方法依次包括以下步骤:(i)提供具有第一铜表面的第一纯铜结构;(ii)使所述第一铜表面与碱性调理剂水溶液接触,并通过使Cu‑(0)转化为Cu‑(I)及Cu‑(II)氧化物物质以使所述第一...
在处理装置中氧化锰物质的方法制造方法及图纸
本发明涉及一种在处理装置中氧化锰物质的方法,所述方法包括步骤(A)在所述处理装置中提供具有第一氧化数的锰物质,(B)在所述处理装置中提供一个或多于一个阳极和至少一个阴极,(C)将电流施加到所述阳极和所述阴极,使得具有所述第一氧化数的所述...
用于调节电镀铬层的明度L*的方法技术
本发明涉及一种用于调节电镀铬层、具体地深色电镀铬层的明度L*的方法。所述方法包含含有胶体颗粒和/或其团聚体的水性三价铬电镀浴以及完全或部分地去除所述胶体颗粒和/或其团聚体的步骤且任选地添加胶体颗粒。
电沉积暗铬层的方法、包含其的衬底及其电镀浴技术
本发明涉及一种将暗铬层电沉积于衬底上的方法、一种用于沉积此暗铬层的相应电镀浴及一种包含所述暗铬层的相应衬底。所述电镀浴包含含有化学元素铝的胶态粒子。包含所述暗铬层的所述衬底主要适合于装饰目的。
用于在衬底上沉积铬或铬合金层的电镀组合物制造技术
本发明涉及一种用于在衬底上沉积铬或铬合金层的电镀组合物,所述组合物包括
用于处理非金属基材以供后续金属化的方法技术
本发明涉及一种用于处理非金属基材以供后续金属化的方法和相应用途,所述方法包括步骤
对衬底的表面进行等离子体处理的方法技术
本发明涉及一种对衬底
以不同电流密度电化学沉积铜的方法技术
本发明涉及一种用于电化学沉积铜的方法,其包含:
铜-铜直接接合的方法和集成技术
本发明涉及用于铜
通过改质铜表面和制造技术
本发明涉及用于提升铜
三嗪硅烷化合物和其作为粘合促进剂的运用制造技术
本发明涉及一种特定三嗪硅烷化合物
在含锌涂层上沉积含铬钝化层的方法技术
本发明涉及一种在含锌涂层上沉积含铬钝化层的方法,其中所述含锌涂层另外包含Fe、Sn、Mn或其混合物。所述方法利用钝化组合物,所述钝化组合物包含以所述钝化组合物的总体积计0.001mg/L至200mg/L的至少一种选自由以下组成的群组的腐...
用于蚀刻塑料衬底的至少一个表面的方法技术
本发明涉及一种用于蚀刻塑料衬底的至少一个表面的方法,所述方法包含步骤(A)至(C),其中步骤(B)包含与包含一种或多于一种不含氟表面活性化合物的预处理组合物接触,并且步骤(C)包含与包含一种或多于一种锰物质的蚀刻组合物接触,其中在步骤(...
用于在衬底上电镀铬涂层的电镀组合物和方法技术
本发明涉及一种用于在衬底上镀铬涂层的电镀组合物,所述组合物包含:(i)六价铬的来源;(ii)一种或多于一种包含季氮的甜菜碱和/或其盐;和(iii)一种或多于一种聚有机硅氧烷。和(iii)一种或多于一种聚有机硅氧烷。
用于蚀刻塑料衬底的至少一个表面的方法技术
本发明涉及一种用于蚀刻塑料衬底的至少一个表面的方法,所述方法包括步骤(A)到(C),其中步骤(C)为包含与蚀刻组合物的接触的蚀刻步骤。所述蚀刻组合物包括各自在特定界定的浓度范围内的高锰酸根离子及磷酸。度范围内的高锰酸根离子及磷酸。
用于玻璃填料的去除的水性碱性清洁溶液和方法技术
本发明涉及一种用于玻璃填料的去除的碱性清洁水溶液,其包含:(a)至少一种选自由饱和具支链或无支链C5到C12羧酸或其盐组成的群组的非离子型表面活性剂,其中所述(a)至少一种表面活性剂的浓度为0.9到1.7g/L;(b)至少一种选自由以下...
镀黑衬底制造技术
本发明涉及一种镀黑衬底,其包含基底衬底及沉积于其上的层堆叠,其中所述层堆叠包含黑铬镀层,所述黑铬镀层在其表面上包含深度为30nm或更大的转换层,其特征在于所述转换层不包含金属铬或仅包含以元素铬及所述转换层中铬原子的总数计至多2原子%的金...
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