System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 电沉积暗铬层的方法、包含其的衬底及其电镀浴技术_技高网

电沉积暗铬层的方法、包含其的衬底及其电镀浴技术

技术编号:40168454 阅读:11 留言:0更新日期:2024-01-26 23:39
本发明专利技术涉及一种将暗铬层电沉积于衬底上的方法、一种用于沉积此暗铬层的相应电镀浴及一种包含所述暗铬层的相应衬底。所述电镀浴包含含有化学元素铝的胶态粒子。包含所述暗铬层的所述衬底主要适合于装饰目的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种将暗铬层电沉积于衬底上的方法,一种用于沉积此暗铬层的相应电镀浴,及一种包含所述暗铬层的相应衬底。电镀浴包含含有化学元素铝的胶态粒子。包含所述暗铬层的衬底主要适合于装饰目的。


技术介绍

1、从铬涂层的最开始,暗铬涂层可归因于其对装饰应用的极大吸引而观察到对其的高度关注。

2、即使开始于暗六价铬涂层,但归因于较高环境接受性,现今焦点明显偏移到三价铬涂层。由于一些年来,例如对于装饰性汽车零件来说,对暗三价铬涂层的需求逐渐增加。然而,在一些情况下,极暗色调可被视为过冷,使得通常需要略微色调修改以产生多种暗调,用于各种装饰目的。通常,暗调的程度视沉积参数以及浴成分而明显地变化。

3、存在对于提供暗铬层的持续需求,其允许对略微更暖色调或略微更暗色调的微调。需要具有允许以容易处理方式进行此微调的调节方式。

4、原则上,已知暗三价铬层。

5、us 2011/155286 a1是指用于化学转化处理的组合物,其包含三价铬离子和任选地无机硅溶胶或氧化铝溶胶。

6、jp 5890394 b2是指含有三价铬和陶瓷粒子的镀铬溶液。

7、ru 2231581 c1是指含有三价铬离子和al2o3粉末的铬电解质。

8、us 2012/312694 a1是指包含三价铬离子和胶态二氧化硅的水性酸性三价铬电解质。

9、us 2015/354085 a1是指用于维持三价镀铬浴效率的设备,设备利用紫外光(uv)辐射源,其将uv辐射提供到水性电镀浴,使得抑制浴的镀覆效率降低。

10、us 2007/0227895 a1是指用于将结晶样铬沉积物电沉积于衬底上的工艺。

11、本专利技术的目的

12、本专利技术的目标为提供电沉积暗铬层的方法,其开始于基础暗度,但除此以外,提供(i)进一步减小的暗度和(ii)同时电镀浴中的可挠性的高测量,以通过根据所需规格来降低或增加亮度l*(根据l*a*b*色彩空间系统)而使进一步减小的暗度略微地变化到特定目标暗度。此外,这种可挠性优选地允许在不丢弃电镀浴的情况下返回到基础暗度。


技术实现思路

1、这些目标是通过将暗铬层电沉积于衬底上的方法解决,所述方法包含以下步骤

2、(a)提供衬底,其中衬底包含塑料衬底,

3、(b)提供水性三价铬电镀浴,其包含

4、(i)三价铬离子,

5、(ii)用于所述三价铬离子的一种或大于一种络合剂,

6、(iii)含有化学元素铝的胶态粒子,

7、(iv)具有氧化数为+5或更低的硫原子的第一含硫化合物,及

8、(v)任选地,不同于(iv)的具有氧化数为+5或更低的硫原子的第二含硫化合物,

9、(c)使衬底与所述电镀浴接触且施加电流,使得暗铬层电解沉积于衬底上。

10、自身实验已展示(参见文本下方中的实例),相较于不包含所述胶态粒子的相应电镀浴,借助于含有化学元素铝的胶态粒子,获得进一步减小的暗度,所述暗度主要由进一步减小的l*值表示。如果水性三价铬电镀浴包含所述第一含硫化合物,最优选地甲硫氨酸,那么情况尤其如此。然而,自身实验还展示了这种效应不一定在不包含铝的胶态粒子(例如,胶态二氧化硅)的情况下发生。

11、本专利技术的方法的另一较大益处在于水性三价铬电镀浴包含(iii)与(iv)的组合。最优选地,两者在本专利技术的上下文中充当暗化剂。然而,其均在其性质方面显著变化。其中(iii)由粒子形成,(iv)优选地是可溶性化合物。这意味着(iii)可通过添加此类胶态粒子或通过从电镀浴部分(或完全)移出胶态粒子而调适(iii)的浓度。最优选地,此类移出通过物理/机械分离方式,例如过滤实现。此通常允许视所存在量而定来对亮度l*进行微调。此移出通常不显著影响(iv)的存在。换句话说,(iii)的总浓度优选地通过物理方式可逆地调适而不影响(iv)的总浓度。这允许理想地利用同一基础电镀浴的极多种暗色调。

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【技术保护点】

1.一种将暗铬层电沉积于衬底上的方法,所述方法包含以下步骤

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述水性三价铬电镀浴为胶态悬浮液,优选地溶胶。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述胶态粒子包含纳米粒子,优选地为纳米粒子。

4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中以体积计,所述胶态粒子的平均粒子直径D50为100nm或更小,优选地80nm或更小,更优选地60nm或更小,甚至更优选地50nm或更小,最优选地40nm或更小,极最优选地30nm或更小,甚至最优选地25nm或更小。

5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中所述胶态粒子至少包含粒径为100nm或更小、优选地80nm或更小、更优选地60nm或更小、甚至更优选地50nm或更小、最优选地40nm或更小、极最优选地30nm或更小、甚至最优选地20nm或更小的粒子。

6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中以所述水性三价铬电镀浴的总体积计,所述胶态粒子以在0.05g/L至15g/L、优选地0.1g/L至12g/L、更优选地0.5g/L至10g/L、甚至更优选地1.0g/L至8g/L、最优选地1.5g/L至6g/L、甚至最优选地1.9g/L至4g/L的范围内的总量存在。

7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中所述胶态粒子包含氧化铝。

8.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中所述胶态粒子包含Al2O3,优选地大体上由Al2O3组成。

9.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中具有氧化数为+5或更低的硫原子的所述第一含硫化合物包含氮原子,更优选地包含氨基,最优选地包含氨基酸。

10.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中所述第一含硫化合物包含甲硫氨酸。

11.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中所述第二含硫化合物包含具有氧化数为+5或更低的硫原子的无机含硫化合物,优选地包含硫氰酸根阴离子。

12.一种水性三价铬电镀浴,其包含

13.一种衬底,其包含暗铬层,其中所述暗铬层包含化学元素铝,且根据L*a*b色彩系统具有60或更小、优选地58或更小、更优选地56或更小、甚至更优选地53或更小、最优选地51或更小的L*值,

14.根据权利要求13所述的衬底,其中所述暗铬层的a*值在-0.5至+3.0、优选地0至2.5、更优选地+0.3至+2、最优选地+0.5至1.5的范围内。

15.根据权利要求14所述的衬底,其中所述暗铬层的b*值在+3.1至+7、优选地3.5至6.5、更优选地+4至+6、最优选地+4.5至5.5的范围内。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种将暗铬层电沉积于衬底上的方法,所述方法包含以下步骤

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述水性三价铬电镀浴为胶态悬浮液,优选地溶胶。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述胶态粒子包含纳米粒子,优选地为纳米粒子。

4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中以体积计,所述胶态粒子的平均粒子直径d50为100nm或更小,优选地80nm或更小,更优选地60nm或更小,甚至更优选地50nm或更小,最优选地40nm或更小,极最优选地30nm或更小,甚至最优选地25nm或更小。

5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中所述胶态粒子至少包含粒径为100nm或更小、优选地80nm或更小、更优选地60nm或更小、甚至更优选地50nm或更小、最优选地40nm或更小、极最优选地30nm或更小、甚至最优选地20nm或更小的粒子。

6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中以所述水性三价铬电镀浴的总体积计,所述胶态粒子以在0.05g/l至15g/l、优选地0.1g/l至12g/l、更优选地0.5g/l至10g/l、甚至更优选地1.0g/l至8g/l、最优选地1.5g/l至6g/l、甚至最优选地1.9g/l至4g/l的范围内的总量存在。

7.根据前述权利要求中任一权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:B·厄兹卡亚P·库尔坎普O·叶夫图申科M·约纳特P·瓦赫特
申请(专利权)人:德国艾托特克有限两合公司
类型:发明
国别省市:

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