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大庆溢泰半导体材料有限公司专利技术
大庆溢泰半导体材料有限公司共有48项专利
一种石英管运输用减震装置制造方法及图纸
本实用新型公开了一种石英管运输用减震装置,具体涉及石英管生产领域,包括底座,底座表面开设有第一滑槽,第一滑槽的内部滑动安装有支撑架,底座底面开设有插装孔,底座的底面固定安装有减震支脚,支撑架的内侧开设有第二滑槽,第二滑槽的内部卡接有放置...
一种石英管用的运输装置制造方法及图纸
本实用新型公开了一种石英管用的运输装置,具体涉及石英管领域,包括第一箱体和第二箱体,所述第二箱体内腔的底部固定安装有套块,所述套块的顶端位于第一箱体内腔的底部固定安装有伸缩管,所述伸缩管内腔的中部活动套装有第一连接杆,所述第一连接杆的顶...
一种用于砷化镓薄片高速切割工艺的晶棒粘接托架制造技术
本实用新型公开了一种用于砷化镓薄片高速切割工艺的晶棒粘接托架,包括底座,底座的顶端两侧设有支撑板,支撑板的顶端设有支撑横梁,支撑横梁的中心处设有倒扣的气缸,气缸的底部设有连接件,连接件的底部设有切割设备,底座的外侧设有电机,电机上设有第...
一种用于砷化镓晶片无蜡抛光工艺中的无蜡垫冲压装置制造方法及图纸
本实用新型公开了一种用于砷化镓晶片无蜡抛光工艺中的无蜡垫冲压装置,包括底座,所述底座横向中轴线上设有滑槽,所述滑槽的底部的中轴线上设有螺母槽,所述滑槽内设有滑动装置,所述滑槽上设有冲压模盒,所述底座的右侧四个拐角处设有矩阵分布的支撑杆,...
一种多温区砷化镓合成装置制造方法及图纸
本实用新型涉及一种合成装置,尤其为一种多温区砷化镓合成装置,包括反应器外壳体、反应器内壳体、第一反应腔、第二反应腔和第三反应腔,所述反应器外壳体的底部固定安装有支撑架,所述支撑架上固定连接有安装板,所述反应器外壳体底部固定安装有三组导出...
砷化镓晶片片盒清洗装置制造方法及图纸
本实用新型涉及一种清洗装置,尤其为砷化镓晶片片盒清洗装置,包括清洗机、砷化镓晶片盒、清洗喷头和铝合金软管,所述清洗机基面固定安装有箱门,所述箱门上镶嵌设置有控制开关,所述清洗机顶部开设有清洗槽,所述清洗槽底部开设有若干组气孔,所述清洗槽...
一种同组份砷化镓多晶大合成量工艺装置制造方法及图纸
本实用新型涉及半导体材料制备技术领域,尤其为一种同组份砷化镓多晶大合成量工艺装置,包括加热炉、加热室和合成仓以及控制箱体,所述加热炉的内部设有加热室,所述加热炉的基面固定安装有控制箱体,所述加热室的内部设有合成仓,所述合成仓的内壁底部固...
抛光布修复装置制造方法及图纸
本实用新型涉及修复装置领域,尤其为抛光布修复装置,包括工作台、驱动电机、抛光布工件、清理装置、喷液板以及修复盘,所述工作台顶部内侧设有安装槽,所述工作台内部底端固定安装有驱动电机,所述驱动电机顶部安装有转轴,所述转轴外部且位于安装槽内侧...
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