北京航空航天大学专利技术

北京航空航天大学共有36481项专利

  • 本发明公开了一种适用于钛及钛合金阳极氧化的基体前处理工艺,是在无氟处理液中进行的电化学抛光处理。本发明处理液解决了现有处理液中含有剧毒、强刺激性气味物质的缺陷,采用本发明处理液对钛及钛合金基体进行抛光处理,可以避免在阳极氧化前处理过程中...
  • 本发明公开了一种电镀碱性锌镍合金的方法,通过配备碱洗液和酸洗液;配制电镀锌镍合金镀液;机械打磨,有机溶剂或水基清洗剂除油和碱洗、酸洗、电镀步骤,提供了一种性能稳定的电镀液配方以及完整的电镀工艺方法,经过试验验证,经本发明方法得到的镀层具...
  • 本发明公开了一种复合粘结层材料及其采用电镀与电子束物理气相沉积组合制备复合粘结层的方法,该组合方法制得的复合粘结层具有四层结构,所述复合粘结层由RuAl层和NiAlHf层构成;所述RuAl层中Al含量为30at%~50at%,余量为Ru...
  • 本发明公开了一种基于抗坏血酸体系的钛合金阳极氧化工艺,该工艺包括有下列工艺步骤:阳极氧化前验收步骤1→有机溶剂或水基清洗剂除油步骤2→装挂步骤3→除油步骤4→流动热水洗步骤5→流动冷水洗步骤6→基于抗坏血酸体系的阳极氧化步骤51→流动冷...
  • 一种采用电沉积法制备氧化钴材料的方法,其特征在于:    第一步:配制电沉积溶液;    以水溶液为电解液,主盐成分为Co(NO↓[3])↓[2]、钴的硫酸盐,浓度在0.01~5mol;    导电剂为活性碳,活性碳重量为总重量的0.0...
  • 本发明公开了一种去除热障涂层中陶瓷层的方法,采用将热障涂层试件置入580℃~800℃熔融状态氢氧化钾(KOH)+氢氧化钠(NaOH)溶液中浸泡3~20min来去除陶瓷层。该方法去除陶瓷层完全,对热障涂层试件无损害,对所需实验设备要求较低...
  • 本发明公开了一种采用浸入-自组装制备超疏水改性SiO↓[2]-聚氨酯复合涂层的方法,该方法通过在SiO↓[2]表面利用硅烷偶联剂进行修饰后,使其带有活性基团(-NH↓[2]),制得改性SiO↓[2]-二甲苯液;然后在基体上制备一层阿罗丁...
  • 本发明公开了一种用于退除钛及钛合金阳极氧化膜的退膜液及其退膜方法,退膜液由30%浓度的双氧水H↓[2]O↓[2]和碱性物质组成,所述碱性物质是氢氧化钠NaOH和/或氢氧化钾KOH。用量为:100L退膜液中所需双氧水1~20L、所需碱性物...
  • 一种医用镍钛记忆合金表面原位除镍制备纳米氧化钛膜的方法,它提供一种在不溶解镍钛记忆合金中钛的条件下,快速溶解镍,同时生成具有纳米多孔网架结构的氧化钛膜的方法,包括如下步骤:将镍钛记忆合金经过机械抛光去掉表面原始氧化层,依次用丙酮、无水乙...
  • 一种碳/碳复合材料新型磷酸盐防氧化涂层的制备方法,其制备方法如下:(1)C/C材料的制备:用C/C复合材料的预制体为长纤维针刺毡,并采用化学气相沉积法制备而成;(2)涂层的界面设计和成分配比:分别选用磷酸锰、磷酸锌、磷酸铝、磷酸铬等磷酸...
  • 一种ZnO∶Zn薄膜的制备方法,将ZnO粉末装在氧化铝或石英舟内,置于管式炉中煅烧,管式炉内填充N↓[2]和H↓[2]混合的弱还原性气体,管内的温度调节在700~800℃之间。在管式炉的排气端保温区边缘,放置一装置,此装置能够夹持基片,...
  • 制备非晶态及纳米微晶态薄膜的基片低温冷却装置,包括:基片冷却腔、基片冷却腔液氮注入管、液氮瓶口密封橡胶塞装置、液氮瓶氮气注入管、数字化气体流量控制器、流量显示仪、高压氮气瓶,冷却腔液氮排出口位于溅射室外,冷却腔液氮注入管的一端从溅射室外...
  • 本发明公开了一种采用低压等离子喷涂制备Al-Si-Cr涂层的方法,通过采用低压30~40×10↑[3]pa等离子喷涂工艺在Nb-24Ti-16Si-6Al-6Cr-2Hf基体上制备了Al-Si-Cr涂层,使得基体与涂层之间形成5~15μ...
  • 本发明公开了一种采用空心化制备微生物约束成型的空心微纳米金属材料的方法,该方法将微生物形体外表包覆有微纳米金属材料的预成型体,采用在高温300~600℃环境下将微生物形体分解成二氧化碳、水等小分子气体,使得干燥后的预成型体的中部形成一个...
  • 本发明公开了一种碳掺杂氧化钛薄膜的制备方法,用四异丙醇钛(TTIP)作为前驱物,以大气开放式MOCVD方法在玻璃基片上沉积出5~20μm的碳掺杂氧化钛薄膜。本发明的工艺通过控制载气流速和基片与喷嘴之间的距离,使得在玻璃基片上沉积的碳掺杂...
  • 一种利用激光表面处理制备高硬度Cu基非晶合金涂层的方法。该方法利用180W低功率Nd:YAG脉冲激光在Cu基合金表面形成约120~230μm厚度的非晶层,表面无裂纹,涂层与基体结合良好,并且非晶涂层的厚度可以通过调节激光工艺参数进行控制...
  • 本发明公开了一种基于物理气相沉积的碲纳米线阵列的制备方法,通过调节交流电源输出电流的大小、以及玻璃基板与钨舟的距离,在真空室内,通过热蒸发碲原料,直接在玻璃基板上沉积出具有碲纳米线阵列结构的薄膜。整个沉积工艺过程简单,成本低廉,易于规模...
  • 本发明一种压气机榫接抗微动损伤NiTi形状记忆合金涂层制备的方法,该方法有两大步骤:步骤一:NiTi涂层的溅射沉积;步骤二:对溅射沉积件实施晶化退火。本发明利用NiTi涂层独特的伪弹性、抗磨损性及其高阻尼特性,对压气机榫头表面采用物理气...
  • 一种制备炭/炭构件的新型液相气化渗透沉积装置,其包括炉底上固定炉体,炉体上装配可开闭的炉盖,炉盖上安装了冷却回流系统,上述结构组成沉积装置的主体;感应线圈安装在炉体内,并连接感应加热电源系统,感应加热电源系统连接控制系统,石墨发热体和炭...
  • 本实用新型一种制备炭/炭构件的温度梯度定向流动气相沉积炉,其是由炉盖、石墨坩埚盖、石墨盖板、保温层、圆盘形预制体、石墨坩埚、石墨发热体、保温毡、炉壁、石墨托物台、坩埚支架、铜电极、炉底、进气孔、热电偶、抽气孔组成;其中进气孔设置在炉底上...