用等离子化学沉积系统制备纳米硅薄膜的方法，首先启动抽真空系统将反应室内真空度达到２×１０↑［－３］乇，打开电炉加热，衬底温升到一定温度，将纯度为９９. ９９９％的氢气注入反应室内，打开Ｒ. Ｆ交流电源，保持反应室内为２×１０↑［－３］乇...

一种ＰＣＶＤ复合渗镀表面硬化方法。利用等离子化学气相沉积（Ｐｌａｓｍａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｕｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ－ＰＣＶＤ）设备，在工、模具表面制备复合渗镀层，其中渗层为离子氮化层，镀层为（Ｔｉ、Ｓｉ）Ｎ系镀层。表面硬...

一种形状记忆合金表面原位制备绝缘膜，其制备方法和步骤如下：（１）将镍钛形状记忆合金试样材料用细砂纸去除表面氧化层并进行抛光处理；（２）将配置好的反应液和试件放到不锈钢反应釜中，并将反应釜的盖子拧紧；（３）将反应釜放入加热炉中，在１６０～...

本发明等离子化学气相沉积镀膜方法和设备包括：传统的可抽成真空的炉体；将汽化的、含有金属氯化物的和其它工作气体通入所述真空炉体内的装置；放置在真空炉体中的被镀工件与电极阴极相连，将炉体与阳极相连，阳极接地，阴极施加负电压，将电压升高到一定...

本发明公开了一种化学镀镍的配方，以解决目前在化学镀镍技术中存在的镀速偏低、镀液稳定性差、镀液的成本高等问题；本发明的配方包括硫酸镍、次亚磷酸钠、醋酸钠、有机羧酸、六个碳原子以下的氨基酸、碘化钾或碘酸钾，ｐＨ为４．４－５．２；本发明的沉积...

本发明公开了一种异种合金超塑扩散连接工艺。它基本上包括以下步骤：一种异种合金超塑扩散连接工艺，它基本上包括以下步骤：（１）、对合金拟连接表面进行激光快速熔凝处理或激光熔覆合金化处理；（２）、对处理后的拟连接表面进行超塑扩散连接。所述预连...

一种电子束物理气相沉积制备软磁与陶瓷纳米复合薄膜，采用双蒸发源、双电子束技术蒸发金属与陶瓷料棒，通过调节基板转速以及金属与陶瓷的蒸发速率，获得不同成分比的纳米复合膜。具体来说，在铁硅合金以及铁镍合金料棒之上放置３０－１５０克的铌（Ｎｂ）...

本发明公开了一种以微生物细胞为模板的空心金属微粒及其制备方法，它是利用不同几何外形的微生物细胞为模板，通过化学镀方法在其表面沉积金属层或合金镀层，来制备成轻质空心金属微粒。采用本发明制备方法制成的导电或磁性微粒，尺寸小，形状多样，在保持...

一种提高ＴｉＡｌ合金抗高温氧化的铬改性铝化物涂层的制备，该涂层由铝６７、钛２５和铬８组成，其制备工艺采用包埋渗的方法制备，其方法是：先按量准确称取渗剂，渗剂的配比按重量百分比为：８－１２％铝，２５－３５％铬，１－３％氯化钠，２－４％氯化...

一种钛合金表面抗氧化的铝－铜－铁－铬（Ａｌ－Ｃｕ－Ｆｅ－Ｃｒ）准晶涂层的制备，是采用下列技术方案来实现的，其成分及配比：该准晶涂层由Ａｌ＃－［７１］Ｃｕ＃－［１０］Ｆｅ＃－［８．５］Ｃｒ＃－［１０．５］组成（原子百分比），喷涂所采用的铝...

一种Ｔｉ－Ｎｉ－Ｓｉ三元金属硅化物合金涂层材料，其特征在于：包含Ｔｉ、Ｎｉ、Ｓｉ元素，其化学成分Ｔｉ为２８～５８ｗｔ％、Ｎｉ为２８～６０ｗｔ％、Ｓｉ为４～１６ｗｔ％，其组织组成相为Ｔｉ↓［２］Ｎｉ↓［３］Ｓｉ、Ｔｉ↓［５］Ｓｉ↓［３］、...

本发明公开了一种适用于高Ｍｏ含量镍基高温合金的热障涂层，是采用电子束物理气相沉积的方法在高Ｍｏ含量镍基高温合金与陶瓷层之间制备含硅（Ｓｉ）元素的粘结层Ⅰ以及不含硅（Ｓｉ）元素的粘结层Ⅱ的复合双层粘结层，有效地抑制高钼（Ｍｏ）含量镍基高温...

本发明公开了一种具有高热稳定性、抗高温烧结、低热导率的热障涂层，是采用电子束物理气相沉积方法在镍基高温合金基体表面镀上一层粘结层材料和陶瓷层材料。粘结层材料为ＭＣｒＡｌＹ，Ｍ可以是Ｎｉ合金元素，Ｃｏ合金元素或者Ｎｉ＋Ｃｏ混合合金元素；陶...

本发明公开了一种抗海洋性气氛腐蚀热障涂层，是采用电子束物理气相沉积的方法在陶瓷层的表层上制备α氧化铝（α－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］）薄层来有效地控制作为陶瓷层的氧化钇（Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］）稳定的氧化锆（ＺｒＯ↓［２］）中的氧化钇（Ｙ↓［...

固态搅拌材料制备及改性方法，通过摩擦搅拌头对块体原料的快速摩擦、搅拌所产生的热量，使摩擦区域的原材料处于热塑性状态，并通过高速旋转的搅拌针使处于热塑性状态的原材料发生大的塑性变形并伴随晶粒破碎、细化，同时破碎的原材料在搅拌头的作用下不断...

本发明公开了一种适用于镁合金基体表面机械镀锌锡复合镀层的工艺，该工艺包括镁合金试样的前处理工艺、机械镀镀液配方、施镀工艺部分。镁合金试样前处理包括除油、浸蚀、活化、浸锌步骤；工艺中提供的机械镀镀液由基础镀液和分散剂组成；施镀中使用的金属...

本发明涉及微颗粒表面真空镀金属膜工艺及其设备，其特征是采用样品架连接设有超声波或机械振动发生器的镀金属膜设备，进行微颗粒表面真空镀金属膜步骤如下：首先备好各种微颗粒材料；选用金属溅射靶材银、铜、铝、钴、镍之一置于溅射靶架上；把装入微颗粒...

本发明公开了一种采用包埋渗硅工艺制备高硅电工钢的方法，该方法将含硅量为０．３～１．０ｗｔ％的低硅钢片包埋在渗硅剂中，通过控制化学热处理的工艺参数，从而获得具有低损耗、低磁滞伸缩系数、低矫顽力的含硅量为６．５％左右的高硅电工钢。其工艺步骤...

本发明公开了一种抗高温氧化的铬改性硅化物涂层及其涂层的制备方法，所述铬改性硅化物涂层具有两层结构，其涂层内层的成分为Ｎｂ↓［Ｘ］Ｓｉ↓［１～Ｘ］，Ｘ的原子用量为２８～３５；其涂层外层为两相铬硅共渗层，第一相铬硅共渗层的成分为Ｃｒ↓［５６...

本发明公开了一种用电子束物理气相沉积多孔树枝晶陶瓷层的热障涂层方法，它是在镍基高温合金基体表面依次沉积一层粘结层材料和具有微孔多孔树枝晶结构的陶瓷层材料。该制备方法通过控制两个不同组分料棒Ａ和料棒Ｂ的蒸发沉积工艺参数使陶瓷层具有较低的导...