巴斯夫欧洲公司专利技术

巴斯夫欧洲公司共有8950项专利

  • 本发明涉及包含式(I)的重复单元的聚合物和式(VIII)或(IX)的化合物,其中Y、Y15、Y16和Y17彼此独立地为式(I)的基团,及其在有机电子器件,尤其是有机光伏器件和光电二极管,或在含有二极管和/或有机场效应晶体管的器件中作为有...
  • 除草的苯并噁嗪酮类。本发明涉及式V的乙酰胺,其中各变量如说明书所定义。
  • 本发明涉及一种含水透明的水包油乳液,其含有浓度为0.025-2000ppm的乳化的类胡萝卜素。一些权利要求涉及包括以下步骤的方法:a)制备溶液,其含有改性淀粉和/或至少一种表面活性蛋白以及水,b)通过将至少一种类胡萝卜素混合在三酰基甘油...
  • 本发明涉及生产式(I)A-F的氟代芳族化合物的方法,所述方法包括:步骤a):将式(II)氨基芳族化合物在无水HF中用重氮化剂水溶液重氮化;其后步骤b):将由步骤a)产生的式(III)重氮盐热分解;其中变量根据说明书定义。
  • 提高蛋白质在微生物发酵过程中的成品收率。这通过这样一种方法达到,其中在短小芽胞杆菌种微生物中引入包含启动子和编码蛋白质的核酸的表达构建体,蛋白质在所述表达构建体中表达。
  • 公开了一种通过使式(II)的1,4-丁二醇(BDO)与氨在氢气和含金属的负载型催化剂存在下反应而生产式(I)的吡咯烷的方法,其特征在于该催化剂的催化活性物质在其用氢气还原之前含有铝、铜、镍和钴的含氧化合物以及以SnO计算为0.2-5.0...
  • 本发明提供了用于使涂覆于半导体基板的光阻剂显影的包含季铵化合物的组合物。还提供了制造集成电路装置、光学装置、微机械及机械精密装置的方法。通过使用所述改良组合物来防止光阻剂膨胀可以避免图案塌陷。(I)  (IIa)-X-Y2(IIb)。
  • 本发明涉及取代的噻二唑类及其N-氧化物和盐以及这些化合物在防治植物病原性真菌中的用途,涉及涂有至少一种该化合物的种子。
  • 本发明涉及一种生产pH为5-8的硫酸钴水溶液的方法,其特征在于(a)在低氧气氛、氢气或惰性气体中将金属钴溶于硫酸水溶液中,以及(b)在离子交换剂中提纯如此生产的酸性硫酸钴溶液。
  • 生产硫酸钴水溶液的方法
    本发明涉及一种生产pH为至少4的硫酸钴水溶液的方法,其特征在于(a)在低氧气氛、氢气或惰性气体的气氛中将金属钴溶于硫酸水溶液中,以及(b)用氧气、含氧气体或可以在含水介质中释放氧气的物质处理如此生产的酸性硫酸钴溶液。
  • 本发明涉及水性混合粘合剂,其包含水性聚合物分散体(PD)以及0.01重量%-5重量%的光引发剂;还涉及水性醇酸树脂体系,其包含水溶性醇酸树脂或水性醇酸或聚氨酯乳液或分散体以及0.01重量%-5重量%的光引发剂;以及涉及其在涂料组合物中的...
  • 烷氧基化非离子表面活性剂在含水膜清洁组合物中作为添加剂的用途
    本发明的目的涉及支化烷氧基化非离子表面活性剂作为含水膜清洁组合物的添加剂的用途,其中该表面活性剂具有的HLBd值为9-12.5且平均支化度Bs≥1.5以及其中该表面活性剂具有下式(I),其中-R为C8-C18线性或支化烃链,-X为O或N...
  • 本发明涉及式(I-1)化合物:其中n为1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24或25;R1、R2、R3、R4、R5、R’1、R’2、R’3、R’4和R’...
  • 式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。本发明涉及式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。在所述式(I)中,B表示N或CH,而R、R1、R2、R...
  • 本发明提供了双子型添加剂在用于半导体基材处理的组合物中的用途。所述组合物可用于制备集成电路装置、光学装置、微机械和精密机械装置,尤其是光致抗蚀剂显影和蚀刻后移除残余物以避免图案崩坏的工艺中。
  • 本发明涉及一种包含阴离子农药和碱的高度浓缩的含水配制剂。本发明涉及一种包含至少200g/l阴离子农药和至少50g/l无机碱的含水组合物。还涉及一种制备该组合物的方法,包括使阴离子农药和无机碱接触的步骤;一种防治有害昆虫和/或植物病原性真...
  • 用于在气相中进行放热反应的反应器
    本发明涉及一种用于在气相中进行放热反应的反应器,其包含具有由金属材料组成的外壁(13)的容器,其中内壳(17)提供于反应器(1)的内部且内壳(17)距离外壁(13)的内侧至少50mm。
  • 提出使用含有由烯键式不饱和化合物形成的至少一个接枝侧链的明胶基共聚物作为防粘附添加剂用于水基钻井液在地下矿物油和天然气矿床的开发、开采和完井中以及在深井中的用途。这些共聚物是水溶性的,且具有良好的可生物降解性。
  • 本发明涉及一种具有下述组成的聚合物混合物的完全厌氧消化的方法:a)25-95重量%的多羟基链烷酸酯,其选自聚-4-羟基丁酸酯、聚-3-羟基丁酸酯、聚(3-羟基丁酸酯-共-3-羟基戊酸酯)、聚(3-羟基丁酸酯-共-3-羟基己酸酯)和聚(3...
  • 包含非离子性表面活性剂及含有至少一个酸基团的芳族化合物的化学机械抛光(CMP)组合物
    本发明涉及一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q),其包含(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物,其中所述颗粒呈茧形,(B)非离子性表面活性剂,(C)包含至少一个酸基团(Y)的芳香化合物或其盐,及(M)水性介质。