在此公开了一种使用能够提高加工速度的激光器加工脆性基底的设备。所述脆性基底加工设备包括激光产生单元，其发射激光束；反射镜，其反射从激光产生单元发射的激光束并且改变激光束行进的方向；扩束器，其改变被所述反射镜反射的激光束的光通量；以及多焦...

在此公开了一种使用多个激光器加工脆性基底的设备。所述设备包括皮秒激光器，其产生具有皮秒级脉冲宽度的第一激光脉冲；飞秒激光器，其产生具有飞秒级脉冲宽度的第二激光脉冲；激光控制器，其计算在所述第一激光脉冲和所述第二激光脉冲之间的时间差，根据...

本发明提供一种校正平台标尺的方法，其包含：测量平台标尺的一端的变形量和另一端的变形量，其中从一端朝向另一端沿纵向方向出现扩张或收缩；通过使用一端和另一端的变形量计算将要应用于平台的移动量计算的标度因子；以及通过应用计算出的标度因子计算平...

本发明提供一种校正光束图案化的方向和位置的方法，所述方法包含：将衬底装载到处理腔室中；基于表示作为变形前衬底的非变形衬底的形状的非变形衬底形状信息创建虚拟非变形衬底模型；检查装载到处理腔室中的衬底的变形水平且创建虚拟变形衬底模型；计算作...

本发明提供一种处理衬底的方法，其包含：将第一衬底对齐以具有第一衬底起始位置，从而允许在第一衬底上形成的对齐标记与预设参考点匹配；将激光束辐射到第一衬底的结晶目标区域并且在第一衬底往复运动的同时形成结晶图案；取决于第一衬底的结晶图案的边缘...

本发明涉及一种用于清洁光掩模的设备和方法。该设备适合用于从光掩模去除残胶，其包括：光掩模，其设置为使得残胶遗留在其上的表面指向下；金属板，其被形成为邻近所述残胶；以及激光发生器，其用于照射激光在所述金属板上使得所述残胶被从所述金属板生成...

本发明提供一种分配器。所述分配器包含：注射器，所述注射器具有用于容纳涂层材料的内部空间和用于排放所述涂层材料的排放孔；喷嘴，所述喷嘴往下与所述注射器间隔开以排放所述涂层材料；以及排放调整部分，所述排放调整部分可滑动地设置在所述注射器与所...

本发明提供一种横梁和一种衬底处理设备。所述横梁包含：棱柱结构，所述棱柱结构具有正四方柱形状且由金属材料形成，所述棱柱结构通过将多个板形产品耦接而制造；以及碳纤维增强材料，所述碳纤维增强材料绕着所述棱柱结构的外侧缠绕若干次且重复地堆叠。

本发明提供一种检测温度的装置和方法以及用于处理衬底的装置，通过高温计以非接触方式检测温度。其中，检测温度的装置包含：湿度传感器，用以测量湿度值；温度补偿数据库，用以存储每一湿度值的温度补偿值；以及高温计，假设包含作为由于湿度而具有小于第...

本发明揭示一种校准设备，其用于除去高温计的测量偏差，且更特定来说涉及一种用于校准高温计的设备，其校准参考值以便除去在高温计中测得的温度中的偏差。所述用于校准高温计的设备包含：黑体，其包含辐射空间，辐射能量从所述辐射空间辐射；主体外壳，其...

本发明揭示一种校准设备，其用于除去高温计的测量偏差，且更特定来说，涉及一种用于校准高温计的设备，其校准参考值用以除去在高温计中测得的温度中的偏差。所述用于校准高温计的设备包含：黑体，其包含辐射空间，辐射能量从所述辐射空间辐射；主体外壳，...

本发明提供一种包括磁控管的磁控管溅射设备。所述磁控管包括支撑板以及磁体，所述磁体设置成从垂直于所述支撑板的表面的旋转中心轴线朝向边缘扩展的螺旋形状。所述磁体被划分为多个扇形区，且在相应的扇形区中以均等间隔形成弧，以及所述多个扇形区中的仅...

本发明提供一种衬底支撑模块，包括：平台，用于在上面安放衬底；支撑物，经安装从而使得支撑物的至少一部分垂直地穿过平台，并且支撑物经配置以通过升高和降低运动在平台上装载和卸载衬底；下部旋转机构，放置在平台内部，并且具有面向彼此安装的第一和第...

本发明提供一种基底传送设备以及一种基底加工设备，且更确切地说，涉及一种基底加工设备，其中当基底进行加工时，通过传送基底而使薄膜结晶于基底上。基底传送设备包含：通过空气轴承滑动的传送台；以及围绕空气轴承的吸收器，用来吸收从空气轴承喷射出之...

本发明提供一种激光热处理设备。所述设备包含：反应腔室，允许晶片支撑件位于其内部空间中且包括设置在其顶面上的窗口；部分除氧模块(OPDM)，位于窗口与晶片支撑件之间且包括注射狭缝，惰性气体经由注射狭缝而注入；惰性气体注射管，插入到圆筒中且...

本发明提供一种透光设备及具有所述透光设备的退火设备，所述透光设备包括：光可穿透的透射窗；提供于所述透射窗的边缘上的框架；以及多个夹钳，其用于将压力施加到所述框架以紧密地固定所述透射窗；其中所述夹钳包括本体、插入于所述本体中的弹性部件及经...

本发明涉及冷却水处理装置和处理方法以及适用了该处理装置和处理方法的基板处理装置，尤其涉及在更换靶材时冷却水不会外漏的冷却水处理装置和冷却水处理方法以及适用了该冷却水处理装置的基板处理装置。本发明实施方式的冷却水处理装置，包括：冷却器，向...

本发明涉及加热块和衬底处理设备，且更明确地说，涉及对衬底执行热处理的加热块和具有所述加热块的衬底处理设备。根据本发明的实施例，提供一种用于衬底处理设备的加热块，所述加热块在其一侧上具有加热灯以将热传递到经受热处理的目标，所述加热灯在所述...

本文提供一种激光处理装置及其控制方法，其能够仅对衬底的待进行激光处理的部分选择性地进行激光处理，并且能够防止由于其中产生的振动而造成的故障。该激光处理装置包括：反应室，包括上面放置衬底的平台；激光发生单元，发射激光束并包括激光束阻挡单元...

本文提供一种激光处理装置及其控制方法，该激光处理装置能够仅对衬底的待进行激光处理的部分选择性地进行激光处理，简化用于激光处理的衬底对准，并且在后续处理中不用在执行处理时使用单独的测量仪器就可使衬底对准。所述激光处理装置包括反应室，其内容...