【技术实现步骤摘要】
一种酚醛树脂及其制备方法和应用
[0001]本专利技术属于高分子材料
,具体涉及一种酚醛树脂及其制备方法和 应用。
技术介绍
[0002]光刻技术和光致抗蚀剂是微电子技术中的核心技术和关键材料。近年来, 微电子加工工艺的创新和提高带动了光刻胶在行业中的应用深度,在半导体芯 片加工过程和液晶显示器FPD制造过程中,光刻胶用于产生细微的电路图形, 通过蚀刻将细微电路形成于基材上;其中TFT-LCD、TN/STN、LED生产中使 用的正性光刻胶大多以酚醛树脂体系的光刻胶为主。
[0003]酚醛树脂-重氮萘醌正性光刻胶是由线型酚醛树脂、重氮萘醌型感光剂、添 加剂以及溶剂组成,曝光时,重氮萘醌基团转变为烯酮,与水接触后进一步生 成茚羧酸,从而使曝光区在用碱水显影时洗掉,显影后得到与掩膜版上图形一 致的刻蚀图像。基于光刻胶本身对线性酚醛树脂的性能要求和线性酚醛树脂化 学结构的影响,此类型的光刻胶在高温烘烤时会产生软化变形的情况,使分辨 率变差,光刻胶性能劣化,从而无法实现高精度的微电子加工。目前,伴随电 路图案的精细化的发展,要求光刻胶的感光度和分辨率的进一步提高,同时要 求作为成膜树脂的酚醛树脂具有更好的耐高温性能和碱溶性加工性能。
[0004]现有技术公开了一种改性羟基萘酚醛清漆树脂、改性羟基萘酚醛清漆树脂 的制造方法、感光性组合物、抗蚀材料及涂膜,所述改性羟基萘酚醛清漆树脂 以1-萘酚和2,7-二羟基萘为酚单体,与甲醛反应得到萘酚酚醛树脂,然后使用 改性剂将一部分酚羟基中的氢取代,得到部分羟基被封端的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种酚醛树脂,其特征在于,所述酚醛树脂结构中羟基/芳环的比值在1.05以上。2.根据权利要求1所述酚醛树脂,其特征在于,所述酚醛树脂结构中羟基/芳环的比值大于1.1。3.根据权利要求1所述的酚醛树脂,其特征在于,所述酚醛树脂中二聚体组分的含量小于5%。4.根据权利要求1所述酚醛树脂,其特征在于,所述酚醛树脂具有如式I所示结构:R
01
、R
03
选自取代或非取代的单羟基苯酚基、多羟基酚基或萘酚基,R
02
选自H、取代或非取代的单羟基苯酚基、多羟基酚基或萘酚基,R
04
选自H、卤素、C1~C
30
非环或环烷基、C1~C
30
非环或环烯基、C1~C
30
非环或环炔基、取代或非取代的C6~C
30
芳基;所述取代包括单取代或多取代,所述多取代数目为2~3;n为0~350的整数;所述取代的取代基包括卤素、羟基、C1~C
30
直链或支链烷基、C1~C
30
直链或支链烯基、C1~C
30
直链或支链炔基、C1~C
30
烷氧基或C6~C
30
芳烃基;优选为卤素、C1~C
10
直链或支链烷基、C1~C
10
直链或支链烯基、C1~C
10
直链或支链炔基、C1~C
10
烷氧基或C6~C
10
芳烃基;更优选为卤素、C1~C6直链或支链烷基、C1~C6直链或支链烯基、C1~C6直链或支链炔基、C1~C6烷氧基或C6~C
10
芳烃基。5.根据权利要求4所述酚醛树脂,其特征在于,R
01
、R
02
、R
03
相同或者不同,且所述酚醛树脂结构同时包括取代或非取代的多羟基酚基和萘酚基。6.根据权利要求5所述酚醛树脂,其特征在于,所述的酚醛树脂其中n=1组分占据的比例是0-5%;n=2、3、4、5、6所占的比例之和是5-30%,n≥7的组分所占的比例是65-95%。7.根据权利要求6所述酚醛树脂,其特征在于,n=2、3、4、5、6所占的比例之和是10-20%,n≥7的组分所占的比例是70-90%。8.一种酚醛树脂,其特征在于,所述酚醛树脂具有如下至少一者所示结构:其中,P1、P2、P3、P4各自独立地选自H、卤素、取代或非取代的单羟基苯酚基、多羟基酚基或萘酚基、C1~C
30
非环或环烷基、C1~C
30
非环或环烯基、C1~C
30
非环或环炔基、取代或非取代的C6~C
30
芳基,且至少一个选自取代或非取代的多羟基酚基;其中,K1选自1~5的整数,K2选自1~5的整数,K1、K2之和不大于6,K3选自1~3的整数;m1、m2为1~350的整数,且m1+m2不大于350,优选不大于150;或,
其中,P5、P6、P7、P8各自独立地选自H、卤素、取代或非取代的单羟基苯酚基、多羟基酚基或萘酚基、C1~C
30
...
【专利技术属性】
技术研发人员:唐地源,刘耀,唐磊,李枝芳,张茂利,罗华星,
申请(专利权)人:山东圣泉新材料股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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