【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】组合物、固化物及固化物的制造方法
本专利技术涉及组合物。
技术介绍
为了提高固化性组合物的耐光性、耐热性等耐久性,已知添加紫外线吸收剂、抗氧化剂等使其稳定化的方法(专利文献1~3)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2011-048382号公报专利文献2:US2016016919A1专利文献3:日本特开2015-108649号公报
技术实现思路
然而,即使在添加上述抗氧化剂的情况下,有时也无法得到具有充分的耐久性的固化物。对于这样的问题,本专利技术人等发现:酚系抗氧化剂具有捕获对聚合物的劣化有很大影响的自由基的作用;为了具有这样的作用而在聚合体系内添加酚系抗氧化剂时,通常作为所谓的阻聚剂发挥作用,有时产生固化阻碍。针对这样的问题,已知在聚合体系内上述作用被不活性化、在固化后能够活性化的潜伏性抗氧化剂、潜伏性紫外线吸收剂等潜伏性添加剂。然而,即使在使用潜伏性添加剂的情况下,也存在无法得到具有充分的耐久性的固化物的情况及固化物的制造困难的情况。本专利技术是鉴于上述问题点而完成的,其主要目的在于提供例如能够制造具有耐久性的固化物、且固化物的制造容易的组合物。本专利技术人等为了解决上述课题进行了深入研究,结果发现:通过将酚性羟基被保护基保护、在保护基的脱离后显示抗氧化能力的化合物及在保护基的脱离后显示出紫外线吸收能力的化合物这两者并用,能够得到具有优异的耐久性的固化物;以及固化物的制造变得容易,从而完成了本专利技 ...
【技术保护点】
1.一种组合物,其包含:下述通式(A1)、(A2)或(A3)所示的化合物A、和下述通式(B)所示的化合物B,/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171004 JP 2017-1946791.一种组合物,其包含:下述通式(A1)、(A2)或(A3)所示的化合物A、和下述通式(B)所示的化合物B,
式中,R1及R2各自独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数1~40的烷基、碳原子数6~20的芳基、碳原子数7~20的芳基烷基、碳原子数2~20的含杂环基或-O-R9,
R1及R2中的至少一者为所述-O-R9,
R3及R4各自独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数1~40的烷基、碳原子数6~20的芳基、碳原子数7~20的芳基烷基或碳原子数2~20的含杂环基,
R9表示碳原子数1~20的烷基、碳原子数2~20的烯基、碳原子数6~20的芳基、碳原子数7~20的芳基烷基、碳原子数2~20的含杂环基或三烷基甲硅烷基,所述烷基、芳基、芳基烷基、含杂环基及三烷基甲硅烷基中的亚甲基可被碳-碳双键、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-NR'-、>P=O、-S-S-、-SO2-或它们的组合置换,
所述烷基、芳基、芳基烷基、含杂环基及三烷基甲硅烷基可以具有取代基,
R’表示氢原子或碳原子数1~8的烷基,
多个R3彼此及多个R4彼此可以分别键合而形成苯环或萘环,
多个R3及多个R4可以各自相同,也可以各自不同,
m1表示1~10的整数,
a1表示0~4的整数,
a2表示0~2的整数,
Xa1表示直接键合或m1价的原子或键合基,
式中,R1’及R2’各自独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数1~40的烷基、碳原子数6~20的芳基、碳原子数7~20的芳基烷基、碳原子数2~20的含杂环基或-O-R9,
R1’及R2’中的至少一者为所述-O-R9,
R5及R6各自独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数1~40的烷基、碳原子数6~20的芳基、碳原子数7~20的芳基烷基或碳原子数2~20的含杂环基,
R9与式(A1)含义相同,
所述烷基、芳基、芳基烷基、含杂环基及三烷基甲硅烷基中的亚甲基可被碳-碳双键、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-NR'-、>P=O、-S-S-、-SO2-或它们的组合置换,
所述烷基、芳基、芳基烷基、含杂环基及三烷基甲硅烷基可以具有取代基,
R’表示氢原子或碳原子数1~8的烷基,
多个R5彼此及多个R6彼此可以分别键合而形成苯环或萘环,
多个R5及多个R6可以各自相同,也可以各自不同,
m2表示1~10的整数,
a3表示0~4的整数,
a4表示0~3的整数,
Xa2表示直接键合或m2价的原子或键合基,
式中,R1”及...
【专利技术属性】
技术研发人员:金原有希子,冈田光裕,中屋敷哲千,
申请(专利权)人:株式会社艾迪科,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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