清扫装置及清扫系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种清扫装置及清扫系统，用于集成电路制造，所述清扫装置主要由控制单元、吹扫单元以及吸除单元组成，可实现自动清洁功能，大大减少人力清洁成本，能够避免人工搬运和二次污染，具有方便性、安全性、经济性等优势，所述清扫装置及清扫系统可以集成到相应的集成电路晶片加工机台上，以大大提升集成电路晶片加工机台设备的空间可利用率。

Cleaning device and cleaning system

The invention provides a sweeping device and a sweeping system for integrated circuit manufacturing. The sweeping device is mainly composed of a control unit, a sweeping unit and a suction unit, which can realize automatic cleaning function, greatly reduce the cost of human cleaning, avoid manual handling and secondary pollution, and has the advantages of convenience, safety and economy. It can be integrated into the corresponding integrated circuit wafer processing machine to greatly improve the space availability of integrated circuit wafer processing machine equipment.

【技术实现步骤摘要】
清扫装置及清扫系统
本专利技术涉及集成电路制造
，尤其涉及一种清扫装置及清扫系统。
技术介绍
光罩(photomasksorreticles)已经普遍被使用于半导体制造的光刻制程中，一般是将一具有图案的光罩置于晶片的上方，再利用一曝光光源透过光罩射于一晶圆上，之后将此晶圆浸入一显影液中，就可以在晶片上看到光罩的图案了。显然在光刻制程中必须注意到光罩表面是否清洁，若光罩中存在一些颗粒(particle)将直接影响曝光的好坏。因此需要一种能够高效去除光罩表面颗粒的清扫装置及清扫系统，来对光罩表面的颗粒进行自动清洁。
技术实现思路
本专利技术的目的在于一种清扫装置及清扫系统，能够高效去除光罩等产品表面的颗粒等污染物，降低成本。为了实现上述目的，本专利技术提供一种清扫装置，用于集成电路制造，所述清扫装置包括控制单元、吹扫单元以及吸除单元，所述控制单元分别连接吹扫单元以及吸除单元，所述控制单元用于根据一待清洁产品表面上的污染物信息控制所述吹扫单元对所述待清洁产品表面进行吹扫，以及控制所述吸除单元将所述吹扫单元吹起的污染物吸走排出。可选的，所述清扫装置还包括ID读取单元，用于读取所述待清洁产品的ID(identity，身份)信息，并将读取到的所述待清洁产品的ID信息传输至所述控制单元，以使得所述控制单元能够根据所述待清洁产品的ID信息从一表面检测单元处获得所述待清洁产品表面的污染物信息。可选的，所述ID读取单元包括第一移动机构和ID信息阅读器，所述第一移动机构连接所述ID信息阅读器，用于在所述控制单元的控制下将所述ID信息阅读器移动到所述待清洁产品的ID信息所在处，以使所述ID信息阅读器能够读取到所述待清洁产品的ID信息。可选的，所述ID读取单元还包括第一位置传感器，所述第一位置传感器用于监测所述第一移动机构的移动和/或所述ID信息阅读器的位置，并将监测结果反馈至所述控制单元，以使得所述控制单元能够根据所述第一位置传感器的监测结果控制所述第一移动机构的移动。可选的，所述第一移动机构包括往复运动组件以及驱动所述往复运动组件进行往复运动的电磁阀；所述电磁阀用于根据所述控制单元的控制信号控制所述往复运动组件的运动；所述往复运动组件用于在所述电磁阀的驱动下，控制所述ID阅读器从初始位置移动到所述待清洁产品的D信息所在处以及控制所述ID阅读器返回所述初始位置。可选的，所述往复运动组件为双作用气缸，所述电磁阀为分布式直动电磁阀。可选的，所述ID信息为编码或标记。可选的，所述待清洁产品为光罩或者晶片。可选的，所述污染物信息包括污染物颗粒大小和污染物在所述待清洁产品的表面上的分布图。可选的，所述吹扫单元包括相互连接的第二移动机构和气体吹扫机构；所述第二移动机构用于在所述控制单元的控制下带动所述气体吹扫机构在所述待清洁产品的表面上移动；所述气体吹扫机构用于在所述第二移动机构的带动下沿所述待清洁产品的表面移动且在所述移动过程中向所述待清洁产品表面吹气，以吹扫起所述待清洁产品表面的污染物。可选的，所述第二移动机构包括电机驱动板、电机和传动丝杆；所述电机驱动板分别连接所述控制单元和所述电机，并在所述控制单元的控制信号下驱动电机工作；所述传动丝杆连接所述电机以及所述气体吹扫机构，并在所述电机的驱动下带动所述气体吹扫机构在所述待清洁产品的表面上移动。可选的，所述气体吹扫机构包括喷气组件和连接所述喷气组件的气体控制电磁阀；所述喷气组件连接所述第二移动机构，用于在所述第二移动机构的带动下沿所述待清洁产品的表面移动且在所述移动过程中向所述待清洁产品表面吹气；所述气体控制电磁阀用于根据所述控制单元的控制信号控制所述喷气组件向所述待清洁产品的表面吹送的气体流量和流速。可选的，所述喷气组件包括气体压缩机，还包括连接所述气体压缩机的喷气枪或喷气棒，所述气体压缩机用于向所述喷气枪或喷气棒提供高压气体，所述高压气体包括氮气、氢气、稀有气体和空气中的至少一种。可选的，所述吹扫单元还包括第二位置传感器，所述第二位置传感器用于监测所述气体吹扫机构在所述待清洁产品的表面上的位置和/或所述第二移动机构的移动位置，并将监测结果传送至所述控制单元，以使得所述控制单元根据所述第二位置传感器的监测结果控制所述第二移动机构的移动。可选的，所述吸除单元包括抽气机构以及连接所述抽气机构的吸附机构，所述抽气机构用于在所述控制单元的控制下对所述待清洁产品所处环境的气体进行抽吸和排气；所述吸附机构用于将所述抽气机构抽吸气体中的污染物进行吸附。可选的，所述吸附机构包括至少一个带孔吸板，所述至少一个带孔吸板设置于所述待清洁产品的上侧、下侧、左侧、右侧、前侧和后侧中的至少一侧。可选的，所述带孔吸板包括初效过滤层、中效过滤层、高效过滤层、活性炭过滤层、纳米银过滤层、光触媒过滤层、紫光灯杀菌层及负离子清新层中的两种以上。可选的，所述抽气机构包括排风管以及排风电磁气阀；所述排风管用于对所述待清洁产品所处环境的气体进行抽吸和排气，所述排风电磁气阀用于在所述控制单元的控制下控制所述排风管中的气体流量和流速。可选的，所述吸除单元还包括待清洁产品监测传感器，用于监测所述待清洁产品是否放置到位以及是否在清洁完成后离开，并在所述待清洁产品放置到位后以及在所述待清洁产品在清洁完成后离开时进行相应的触发，以使所述控制单元根据所述待清洁产品监测传感器的相应触发信号，来打开或关闭所述抽气机构。可选的，所述清扫装置还包括气体流量监测传感器，用于所述吹扫单元和/或所述吸除单元的气体流量，并将所述气体流量的监测结果反馈至所述控制单元，以使所述控制单元能够根据所述气体流量的监测结果控制所述吹扫单元和/或所述吸除单元的气体流量。本专利技术还提供一种清扫系统，用于集成电路制造，所述清扫系统包括表面检测单元以及上述之一的清扫装置；所表面检测单元用于检测任一产品表面上的污染物信息，并在检测到某一产品上表面的污染物信息超出要求时，将所述产品认定为待清洁产品；所述清扫装置用于从所述表面检测单元处获取所述待清洁产品表面的污染物信息，并根据获取到的所述待清洁产品表面的污染物信息对所述待清洁产品表面上的污染物进行自动清洁。可选的，所述的清扫系统还包括腔体，所述腔体内底部上设有承载待清洁产品的载物盘，所述清扫装置的吹扫单元安装在所述腔体内且位于所述载物盘的一侧，所述清扫装置的吸除单元安装在所述腔体底部且位于所述载物盘下方并与外界连通，所述清扫装置的控制单元安装于所述腔体内侧壁上或者设置在所述腔体外。可选的，所述表面检测单元独立于所述清扫装置之外，为所述待清洁产品的承载机台自带的表面检测单元；或者，所述表面检测单元为独立于所述清扫装置以及所述待清洁产品的承载机台之外的颗粒检测仪；或者，所述表面检测单元集成在所述清扫装置中。可选的，所述清扫装置集成在所述待清洁产品的承载机台上，所述清扫装置的控制单元嵌入式安装到所述待清洁产品的承载机台的主控系统中；或者所述清扫装置与所述待清洁产品的承载机台相互独立。可选的，所述待清洁产品为光罩或者晶片，所述待清洁产品的承载机台为晶片加工机台。可选的，所述晶片加工机台包括光罩传送设备、曝光设备、刻蚀设备和沉积设备中的至少一种。可选的，所述表面检测单元检测的某一产品表面的污染物信息超出要求时，将所述产品认定为待清洁产品，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清扫装置，用于集成电路制造，其特征在于，所述清扫装置包括控制单元、吹扫单元以及吸除单元，所述控制单元分别连接吹扫单元以及吸除单元，所述控制单元用于根据一待清洁产品表面上的污染物信息控制所述吹扫单元对所述待清洁产品表面进行吹扫，以及控制所述吸除单元将所述吹扫单元吹起的污染物吸走排出。

【技术特征摘要】
1.一种清扫装置，用于集成电路制造，其特征在于，所述清扫装置包括控制单元、吹扫单元以及吸除单元，所述控制单元分别连接吹扫单元以及吸除单元，所述控制单元用于根据一待清洁产品表面上的污染物信息控制所述吹扫单元对所述待清洁产品表面进行吹扫，以及控制所述吸除单元将所述吹扫单元吹起的污染物吸走排出。2.如权利要求1所述的清扫装置，其特征在于，所述清扫装置还包括ID读取单元，用于读取所述待清洁产品的ID信息，并将读取到的所述待清洁产品的ID信息传输至所述控制单元，以使得所述控制单元能够根据所述待清洁产品的ID信息从一表面检测单元处获得所述待清洁产品表面的污染物信息。3.如权利要求2所述的清扫装置，其特征在于，所述ID读取单元包括第一第一移动机构和ID信息阅读器，所述第一移动机构连接所述ID信息阅读器，用于在所述控制单元的控制下将所述ID信息阅读器移动到所述待清洁产品的ID信息所在处，以使所述ID信息阅读器能够读取到所述待清洁产品的ID信息。4.如权利要求3所述的清扫装置，其特征在于，所述ID读取单元还包括第一位置传感器，所述第一位置传感器用于监测所述第一移动机构的移动和/或所述ID信息阅读器的位置，并将监测结果反馈至所述控制单元，以使得所述控制单元能够根据所述第一位置传感器的监测结果控制所述第一移动机构的移动。5.如权利要求3所述的清扫装置，其特征在于，所述第一移动机构包括往复运动组件以及驱动所述往复运动组件进行往复运动的电磁阀；所述电磁阀用于根据所述控制单元的控制信号控制所述往复运动组件的运动；所述往复运动组件用于在所述电磁阀的驱动下，控制所述ID阅读器从初始位置移动到所述待清洁产品的D信息所在处以及控制所述ID阅读器返回所述初始位置。6.如权利要求5所述的清扫装置，其特征在于，所述往复运动组件为双作用气缸，所述电磁阀为分布式直动电磁阀。7.如权利要求2至5中任一项所述的清扫装置，其特征在于，所述ID信息为编码或标记。8.如权利要求1所述的清扫装置，其特征在于，所述待清洁产品为光罩或者晶片。9.如权利要求1所述的清扫装置，其特征在于，所述污染物信息包括污染物颗粒大小和污染物在所述待清洁产品的表面上的分布图。10.如权利要求1所述的清扫装置，其特征在于，所述吹扫单元包括相互连接的第二移动机构和气体吹扫机构；所述第二移动机构用于在所述控制单元的控制下带动所述气体吹扫机构在所述待清洁产品的表面上移动；所述气体吹扫机构用于在所述第二移动机构的带动下沿所述待清洁产品的表面移动且在所述移动过程中向所述待清洁产品表面吹气，以吹扫起所述待清洁产品表面的污染物。11.如权利要求10所述的清扫装置，其特征在于，所述第二移动机构包括电机驱动板、电机和传动丝杆；所述电机驱动板分别连接所述控制单元和所述电机，并在所述控制单元的控制信号下驱动电机工作；所述传动丝杆连接所述电机以及所述气体吹扫机构，并在所述电机的驱动下带动所述气体吹扫机构在所述待清洁产品的表面上移动。12.如权利要求10所述的清扫装置，其特征在于，所述气体吹扫机构包括喷气组件和连接所述喷气组件的气体控制电磁阀；所述喷气组件连接所述第二移动机构，用于在所述第二移动机构的带动下沿所述待清洁产品的表面移动且在所述移动过程中向所述待清洁产品表面吹气；所述气体控制电磁阀用于根据所述控制单元的控制信号控制所述喷气组件向所述待清洁产品的表面吹送的气体流量和流速。13.如权利要求12所述的清扫装置，其特征在于，所述喷气组件包括气体压缩机，还包括连接所述气体压缩机的喷气枪或喷气棒，所述气体压缩机用于向所述喷气枪或喷气棒提供高压气体，所述高压气体包括氮气、氢气、稀有气体和空气中的至少一种。14.如权利要求10至13中任一项所述的清扫装置，其特征在于，所述吹扫单元还包括第二位置传感器，所述第二位置传感器用于监测所述气体吹扫机构在所述待清洁产品的表面上的位置和/或所述第二移动机构的...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗曙霖，杨鹏，宋维岗，姚宏忠，张轲，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31