彩膜基板的制造方法技术

本发明专利技术公开一种彩膜基板的制造方法，包括：减反射薄膜设置步骤、底面曝光步骤、顶面曝光步骤、显影步骤、以及导电聚合物薄膜设置步骤。本发明专利技术彩膜基板的制造方法通过在所述基板与导电聚合物薄膜之间设置负型减反射材料层，且负型减反射材料层的折射率大于基板的折射率且小于导电聚合物薄膜的折射率，利用光从光疏进入光密介质形成半波损失减少反射光能量，降低液晶显示装置光线的反射率，改善视觉效果。

Manufacturing Method of Color Film Substrate

The invention discloses a method for manufacturing a color film substrate, which comprises the setting steps of an antireflective film, a bottom exposure step, a top exposure step, a developing step and a conductive polymer film setting step. The manufacturing method of the color film substrate of the invention is to set a negative antireflective material layer between the substrate and the conductive polymer film, and the refractive index of the negative antireflective material layer is larger than that of the substrate and smaller than that of the conductive polymer film. The reflection energy is reduced by half-wave loss when light enters the light-dense medium from light sparseness, and the reflectivity of the light of the liquid crystal display device is reduced. Improve visual effects.

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板的制造方法
本专利技术是有关于一种彩膜基板的制造方法，其适用于黑色矩阵(BlackMatrixonArray,BOA)技术。
技术介绍
黑色矩阵(BlackMatrixonArray,BOA)技术是一种将彩膜层及遮光层直接制作在阵列基板上的一种集成技术，它能够有效解决成盒工艺中因对位偏差造成的漏光问题，并能显著提升显示像素开口率及减少寄生电容，有望成为主流技术。然而，此种显示屏由于没有彩膜层的过滤作用，白光可直接穿透玻璃、液晶直接射到阵列基板，从而在玻璃、彩膜透明导电膜、液晶、阵列透明导电膜等各个表面形成反射面，反光效果加剧，在暗态时表现更为明显，影响视觉效果。为了降低反射率，目前的方案是在玻璃表面粘贴一层反射率更低的偏光片(价格更高)，然而，额外的偏光片导致制造成本的增加。故，有必要提供一种彩膜基板的制造方法，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种彩膜基板的制造方法，以解决现有采用黑色矩阵(BlackMatrixonArray,BOA)技术的显示屏必须采用偏光片导致制造成本的增加的技术问题。本专利技术的主要目的在于提供一种彩膜基板的制造方法，包括：减反射薄膜设置步骤，包括涂布一负型减反射材料层到一透明的基板的上表面上；底面曝光步骤，包括从所述基板的下表面对所述负型减反射材料层进行背面曝光，曝光光线穿过所述基板照射而到所述负型减反射材料层上，使所述负型减反射材料层邻接所述基板的底面部分固化而形成一固化层；顶面曝光步骤，包括通过一半色调光罩，从所述基板的所述上表面对所述负型减反射材料层进行正面曝光，使所述负型减反射材料层的顶面部分固化而形成多个固化部；显影步骤，包括对所述负型减反射材料层进行显影，将所述负型减反射材料层上未固化的部分去除，以使所述固化层形成一减反射薄膜层，并使所述多个固化部分别形成位于所述减反射薄膜层上的多个彩膜隔垫物；以及导电聚合物薄膜设置步骤，包括涂布一导电聚合物薄膜到所述减反射薄膜层以及所述多个彩膜隔垫物上。于本专利技术较佳实施例中，所述负型减反射材料层的厚度大于或等于2um。于本专利技术较佳实施例中，所述半色调光罩包括遮光区、多个半透光区及多个全透光区，所述固化部是经由所述半透光区及所述全透光区而形成，通过所述半透光区所形成的所述固化部的尺寸小于通过所述全透光区所形成的所述固化部的尺寸。于本专利技术较佳实施例中，各所述彩膜隔垫物为倒梯形而具有一宽顶部以及一窄底部，所述窄底部连接所述减反射薄膜层；在所述导电聚合物薄膜设置步骤中，通过呈倒梯形的所述彩膜隔垫物，使得所述导电聚合物薄膜位于彩膜隔垫物的宽顶部的较上部分与所述导电聚合物薄膜位于所述减反射薄膜层的顶面的较下部分相互分离。于本专利技术较佳实施例中，各所述彩膜隔垫物的宽顶部高于所述减反射薄膜层的顶面。于本专利技术较佳实施例中，所述减反射薄膜层的折射率大于基板的折射率，且小于所述导电聚合物薄膜的折射率。于本专利技术较佳实施例中，在所述底面曝光步骤中，控制曝光能量使所述负型减反射材料层的厚度e满足e＝(λ/4n)(2k+1)，其中λ为所需要增透的光的光波长，n为所述负型减反射材料层的折射率，k为自然数。于本专利技术较佳实施例中，λ为绿光波长，且n满足n1<n<n2，其中n1和n2分别为所述基板和所述导电聚合物薄膜的折射率，n满足n＝(n1·n2)1/2。于本专利技术较佳实施例中，所述基板以玻璃制造，所述导电聚合物薄膜以聚3,4-乙撑二氧噻吩(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene),PEDOT)制造，所述负型减反射材料层以聚酯类材料制造。本专利技术的另一目的在于提供一种彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述彩膜基板的制造方法，包括：减反射薄膜设置步骤，包括涂布一负型减反射材料层到一透明的基板的上表面上；底面曝光步骤，包括从所述基板的下表面对所述负型减反射材料层进行背面曝光，曝光光线穿过所述基板而照射到所述负型减反射材料层上，使所述负型减反射材料层邻接所述基板的底面部分固化而形成一固化层；顶面曝光步骤，包括通过一半色调光罩，从所述基板的所述上表面对所述负型减反射材料层进行正面曝光，使所述负型减反射材料层的顶面部分固化而形成多个固化部；显影步骤，包括对所述负型减反射材料层进行显影，将所述负型减反射材料层上未固化的部分去除，以使所述固化层形成一减反射薄膜层，并使所述多个固化部分别形成位于所述减反射薄膜层上的多个彩膜隔垫物；以及导电聚合物薄膜设置步骤，包括涂布一导电聚合物薄膜到所述减反射薄膜层以及所述多个彩膜隔垫物上；其中，所述减反射薄膜层的折射率大于所述基板的折射率，且小于所述导电聚合物薄膜的折射率；其中，所述基板以玻璃制造，所述导电聚合物薄膜以聚3,4-乙撑二氧噻吩(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene),PEDOT)制造，所述负型减反射材料层以聚酯类材料制造。与现有技术相比较，本专利技术彩膜基板的制造方法通过在所述基板与导电聚合物薄膜之间设置负型减反射材料层，且负型减反射材料层的折射率大于所述基板的折射率且小于导电聚合物薄膜的折射率，利用光从光疏进入光密介质形成半波损失减少反射光能量，降低液晶显示装置光线的反射率，改善视觉效果；且负型减反射材料层与彩膜隔垫物仅需一道制程，大大简化了工艺流程，降低成本并缩短生产周期；另外，整张彩膜基板均为有机材料，柔韧性及材料层间接合性更好，有利于开发柔性显示面板。为让本专利技术的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：附图说明图1是一本专利技术实施例彩膜基板的制造方法的步骤流程图。图2是本专利技术实施例对应彩膜基板的制造方法中的减反射薄膜设置步骤的彩膜基板半成品的侧面剖视图。图3是本专利技术实施例对应彩膜基板的制造方法中的底面曝光步骤的彩膜基板半成品的侧面剖视图。图4是本专利技术实施例对应彩膜基板的制造方法中的顶面曝光步骤的彩膜基板半成品的侧面剖视图。图5是本专利技术实施例对应彩膜基板的制造方法中的显影步骤的彩膜基板半成品的侧面剖视图。图6是本专利技术实施例对应彩膜基板的制造方法中的导电聚合物薄膜设置步骤的彩膜基板半成品的侧面剖视图。具体实施方式请参照图1，本专利技术实施例彩膜基板的制造方法包括：减反射薄膜设置步骤S01、底面曝光步骤S02、顶面曝光步骤S03、显影步骤S04、以及导电聚合物薄膜设置步骤S05。请参照图2，所述减反射薄膜设置步骤S01，包括涂布一负型减反射材料层20到一透明的基板10的上表面11上。于本专利技术较佳实施例中，所述负型减反射材料层20的厚度大于或等于2um。于本专利技术较佳实施例中，所述基板10以玻璃制造。请参照图3，所述底面曝光步骤S02，包括从所述基板10的下表面12对所述负型减反射材料层20进行背面曝光，曝光光线穿过基板10照射到所述负型减反射材料层20上，使所述负型减反射材料层20邻接所述基板10的底面部分固化而形成一固化层25。于本专利技术较佳实施例中，在所述底面曝光步骤S02中，控制曝光能量使所述负型减反射材料层20的厚度e满足e＝(λ/4n)(2k+1)，其中λ为所需要增透的光的光波长，n为所述负型减反射材料层20的折射率，k为自然数。于本专利技术较佳实施例中，λ为绿光波长，约550nm，绿光是对人视觉较为敏感，且n满足n1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述彩膜基板的制造方法，包括：减反射薄膜设置步骤，包括涂布一负型减反射材料层到一透明的基板的上表面上；底面曝光步骤，包括从所述基板的下表面对所述负型减反射材料层进行背面曝光，曝光光线穿过所述基板而照射到所述负型减反射材料层上，使所述负型减反射材料层邻接所述基板的底面部分固化而形成一固化层；顶面曝光步骤，包括通过一半色调光罩，从所述基板的所述上表面对所述负型减反射材料层进行正面曝光，使所述负型减反射材料层的顶面部分固化而形成多个固化部；显影步骤，包括对所述负型减反射材料层进行显影，将所述负型减反射材料层上未固化的部分去除，以使所述固化层形成一减反射薄膜层，并使所述多个固化部分别形成位于所述减反射薄膜层上的多个彩膜隔垫物；以及导电聚合物薄膜设置步骤，包括涂布一导电聚合物薄膜到所述减反射薄膜层以及所述多个彩膜隔垫物上。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述彩膜基板的制造方法，包括：减反射薄膜设置步骤，包括涂布一负型减反射材料层到一透明的基板的上表面上；底面曝光步骤，包括从所述基板的下表面对所述负型减反射材料层进行背面曝光，曝光光线穿过所述基板而照射到所述负型减反射材料层上，使所述负型减反射材料层邻接所述基板的底面部分固化而形成一固化层；顶面曝光步骤，包括通过一半色调光罩，从所述基板的所述上表面对所述负型减反射材料层进行正面曝光，使所述负型减反射材料层的顶面部分固化而形成多个固化部；显影步骤，包括对所述负型减反射材料层进行显影，将所述负型减反射材料层上未固化的部分去除，以使所述固化层形成一减反射薄膜层，并使所述多个固化部分别形成位于所述减反射薄膜层上的多个彩膜隔垫物；以及导电聚合物薄膜设置步骤，包括涂布一导电聚合物薄膜到所述减反射薄膜层以及所述多个彩膜隔垫物上。2.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述负型减反射材料层的厚度大于或等于2um。3.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述半色调光罩包括遮光区、多个半透光区及多个全透光区，所述固化部是经由所述半透光区及所述全透光区而形成，通过所述半透光区所形成的所述固化部的尺寸小于通过所述全透光区所形成的所述固化部的尺寸。4.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：各所述彩膜隔垫物为倒梯形而具有一宽顶部以及一窄底部，所述窄底部连接所述减反射薄膜层；在所述导电聚合物薄膜设置步骤中，通过呈倒梯形的所述彩膜隔垫物，使得所述导电聚合物薄膜位于彩膜隔垫物的宽顶部的较上部分与所述导电聚合物薄膜位于所述减反射薄膜层的顶面的较下部分相互分离。5.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：各所述彩膜隔垫物的宽顶部高于所述减反射薄膜层的顶面。6.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述减反射薄膜层的折射率大于所述基板的折射率，且小于所述导电聚合物薄膜的折射率。7.如权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：莫超德，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44