温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开一种彩膜基板的制造方法，包括：减反射薄膜设置步骤、底面曝光步骤、顶面曝光步骤、显影步骤、以及导电聚合物薄膜设置步骤。本发明彩膜基板的制造方法通过在所述基板与导电聚合物薄膜之间设置负型减反射材料层，且负型减反射材料层的折射率大于基板...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。