【技术实现步骤摘要】
用于准备吸附性基底的工艺以及用于基底的集成处理系统本申请是申请日为2012年7月30日、国际申请号为PCT/US2012/048850、国家申请号为201280046662.1、专利技术名称为“用于准备吸附性基底的工艺以及用于基底的集成处理系统”的专利技术专利申请的分案申请。相关申请的交叉引用本申请要求了2011年8月1日申请的美国非临时专利申请13/195,100的优先权及权益,其全部内容通过引用合并在此。
技术介绍
本专利
本专利技术涉及一种吸附性基底。尤其,本专利技术涉及一种处理与包装用于污染控制的吸附性基底的集成工艺以及用于准备在洁净室环境中使用的擦拭物的集成系统。本专利
中的技术在各种环境中使用洁净室。这些环境包括半导体晶圆厂、制药与医疗设备制造场所、航空航天实验室、以及相似的空间,其需要极度清洁。将洁净室保持在建筑物的隔离区。在这方面,洁净室典型地具有高度专业化的空气冷却、通风与过滤系统,以防止空气传播颗粒进入。进入洁净室的个人将穿着专用衣服与手套。这种个人还可以使用专门的笔记本与书写工具。期望的是,使用吸附性基底清洁洁净室中的设备。例如,在半导体制造洁净室中,必须频繁擦拭表面。这样做时,使用专门的擦子(或擦拭物)与清洁剂,从而防止污染。对于这种应用,擦拭物本身还必须异常地(exceptionally)无颗粒,并且应该具有高度的湿强度与结构完整性。这样,当用于擦拭表面时,甚至被清洗液弄湿或充满清洗液,擦拭物基底也不破裂。在例如半导体制造洁净室与药品制造场所的敏感区域中使用的产品被仔细选择以满足某些特性。这些特性包括颗粒排放水平,离子污染物 ...
【技术保护点】
1.一种用于处理吸附性材料的工艺,所述工艺包括:将吸附性材料的卷退卷为基底进入清洁系统中,所述吸附性材料的卷的宽度在大约4英寸(10.16cm)至18英寸(45.72cm)之间;将所述基底移动通过所述清洁系统中的声能清洗段,其中,所述基底的正面与背面中的每一个直接暴露至来自清洗液槽中的声能发生器的能量脉冲,从而产生经清洁的吸附性材料以用于擦拭清洁环境中的表面,所述声能清洗段中的所述声能发生器中的至少一个是以大约20kHZ和80kHZ之间的频率工作的管状谐振器;以及进一步将所述基底移动通过所述清洁系统中的烘干段,其中,经HEPA过滤的并且经加热的空气被应用以产生经清洁的和经干燥的吸附性材料;并且其中,经清洁的和经干燥的所述吸附性材料均匀地具有每平方米小于150个长度大于100微米的污染物纤维。
【技术特征摘要】
2011.08.01 US 13/195,1001.一种用于处理吸附性材料的工艺,所述工艺包括:将吸附性材料的卷退卷为基底进入清洁系统中,所述吸附性材料的卷的宽度在大约4英寸(10.16cm)至18英寸(45.72cm)之间;将所述基底移动通过所述清洁系统中的声能清洗段,其中,所述基底的正面与背面中的每一个直接暴露至来自清洗液槽中的声能发生器的能量脉冲,从而产生经清洁的吸附性材料以用于擦拭清洁环境中的表面,所述声能清洗段中的所述声能发生器中的至少一个是以大约20kHZ和80kHZ之间的频率工作的管状谐振器;以及进一步将所述基底移动通过所述清洁系统中的烘干段,其中,经HEPA过滤的并且经加热的空气被应用以产生经清洁的和经干燥的吸附性材料;并且其中,经清洁的和经干燥的所述吸附性材料均匀地具有每平方米小于150个长度大于100微米的污染物纤维。2.根据权利要求1所述的工艺,其中,所述吸附性材料包括合成材料。3.根据权利要求2所述的工艺,其中,所述吸附性材料主要包括聚酯。4.根据权利要求1所述的工艺,其中,所述吸附性材料为吸收性材料。5.根据权利要求4所述的工艺,其中,所述吸收性材料具有在大约300毫升/平方米至650毫升/平方米之间的吸收性能。6.根据权利要求2所述的工艺,所述工艺进一步包括:将所述基底移动通过所述清洁系统中的预清洗段,其中,在将所述基底移动通过所述声能清洗段之前,将预备流体喷射到所述吸附性材料之上。7.根据权利要求6所述的工艺,其中,所述预清洗段中的所述预备流体为(i)主要包括去离子水的液体,(ii)包括二氧化碳、水蒸气、臭氧或其混合物的气态流体,或(iii)其组合;所述基底在所述预清洗段中移动通过流体容器上方的一系列辊子;以及将所述预备流体喷射到所述基底的所述正面和所述背面上。8.根据权利要求7所述的工艺,其中,将所述基底移动通过所述预清洗段、所述声能清洗段、以及所述烘干段是连续的。9.根据权利要求8所述的工艺,进一步包括:在将所述基底移动通过所述烘干段后,将所述基底切成段以形成多个擦拭物;将所述擦拭物放入袋中;以及密封所述袋。10.根据权利要求9所述的工艺,其中,将所述基底切成段并且将所述擦拭物放入袋中基本在人的手不接触所述吸附性材料的情况下进行。11.根据权利要求10所述的工艺,其中,将所述基底切成段通过使用激光切割器、声波刀或声波喇叭来进行。12.根据权利要求9所述的工艺,其中,每个擦拭物均仅具有(i)每平方米大约30000至70000个之间的长度大约在5.0至100微米之间的污染物纤维,(ii)每平方米0.5×106至5.0×106个之间的长度在大约0.5至5.0微米之间的污染物纤维,或(iii)两者都有。13.根据权利要求9所述的工艺,其中,每个擦拭物均具有小于大约0.06ppm的钾,小于大约0.05ppm的氯化物,小于大约0.05ppm的镁,小于大约0.20ppm的钙,以及小于大约0.30ppm的钠。14.根据权利要求6所述的工艺,其中:所述声能清洗段包括第一声能洗涤器,所述第一声能洗涤器具有作为第一水槽的所述槽,所述基底在清洁期间移动通过所述第一水槽,所述第一水槽保存一定体积的去离子水与表面活性剂;所述第一声能洗涤器具有第一组辊子,所述第一组辊子用于引导所述基底围绕第一换能器,以将所述基底的所述正面直接暴露至来自所述第一换能器的超声能;所述第一声能洗涤器还具有第二组辊子,所述第二组辊子用于引导所述基底围绕第二换能器,以将所述基底的所述背面也直接暴露至来自所述第二换能器的超声能;以及所述第一水槽还容纳作为所述第一换能器或所述第二换能器的所述管状谐振器。15.根据权利要求14所述的工艺,其中:所述声能清洗段进一步包括第二声能洗涤器,所述第二声能洗涤器包括保存一定体积的去离子水与表面活性剂的第二...
【专利技术属性】
技术研发人员:丹尼斯·H·布拉伊斯,劳伦特·H·塞内,格雷戈里·T·霍尔,兰迪·H·惠廷顿,
申请(专利权)人:伊利诺斯工具制品有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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