一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法，涉及有机溶液成膜技术领域，为解决现有的真空干燥装置在干燥后，像素界定层的像素区域内所形成的膜层的厚度均匀性较差的问题而发明专利技术。该真空干燥室，包括真空腔以及设置于所述真空腔内的载台，所述载台具有放置面，所述放置面用于放置所述基板，还包括超声波发射单元，所述超声波发射单元用于向所述真空腔内发射超声波。本发明专利技术可用于有机膜层等的干燥。

【技术实现步骤摘要】
一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法
本专利技术涉及有机溶液成膜
，尤其涉及一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法。
技术介绍
随着显示技术的发展与进步，对于现有的显示装置而言，有机电致发光器件(OrganicLightEmittingDiode，简称OLED)作为一种电流型发光器件，因其相对于液晶显示器(LCD；全称LiquidCrystalDisplay)而言具有自发光、快速响应、宽视角，以及高亮度、色彩艳丽、体积轻薄等优点，越来越多地被应用于高性能显示领域当中。为了提高材料的利用率和制作效率，目前是采用喷墨打印(inkjetprinting，简称IJP)薄膜制备技术来制作OLED，例如，在制作OLED的过程中，需要在基板的电极上制作像素界定层(PDL)，然后再将有机发光材料的墨滴打印至像素界定层中指定的R/G/B像素坑中，以完成有机发光膜层的制作。在OLED的有机发光层制作完成后，需要对其进行真空干燥处理，以将膜层中的溶剂去除，其中，膜层的真空干燥是在真空干燥室中完成的，真空干燥室结构设计的是否合理直接关系着膜层真空干燥的效果。现有的一种真空干燥室，如图1所示，包括真空腔01以及在真空腔01内相对设置的载台02和冷凝板03，载台02用于承载待干燥基板04。在真空干燥时，将待干燥基板04放置在载台02上，待干燥基板04的待干燥膜层表面朝向冷凝板03设置，然后，抽取真空腔01中的空气，以降低真空腔01内的气压，膜层内的有机溶剂的熔点和沸点都会随着环境真空度的提高而降低，从而使得有机溶剂能够较快的由膜层中蒸发分离。现有的这种真空干燥室在真空干燥的过程中，随着真空腔01中的真空度的提高，如图2所示，位于像素界定层的像素坑05中的有机发光材料的墨滴06中的溶剂不断蒸发，最后墨滴06中的有机发光材料保留在像素坑05中以形成有机发光材料膜层。由于墨滴06中的溶质(也就是有机发光材料)通常分布是不均匀的，这样会使干燥完成后所形成的膜层的厚度不均匀；同时，在墨滴06的真空干燥过程中，当墨滴06的高度降低至像素坑05口以下时，由于像素坑05的坑壁绝大多数具有一定的亲液性(由于像素界定层里的氟原子会上浮，导致像素界定层只有顶部表面具有一定的疏液性，理想的坑壁要求是ITO上方表面50～200nm具有亲液性，其余都具有疏液性)这样会导致墨滴06会沿着像素坑05的坑壁向坑口攀爬，使墨滴06在靠近坑壁处分布较多，在像素坑05的中心区域分布较少，这样在真空干燥完成后，如图2所示，墨滴06中的一部分有机发光材料会附着在坑壁上，而且在坑底靠近坑壁的膜层较厚，位于坑底中心区域的膜层较薄，从而进一步导致在膜层在像素坑05内分布不均匀，而这种不均匀的膜层容易导致器件像素内发光不均匀，进而会影响显示器件的寿命；同时，不均匀的膜层导致膜层厚度不能够准确地被确定，从而使打印机的喷出的墨滴体积无法准确估算和重复。另外，在打印过程墨滴06与有机膜层，墨滴06与ITO之间存在润湿不充分的问题，导致墨滴06无法均匀地铺展开，这样墨滴06在真空干燥后会导致膜层厚度的不均匀。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法，用于解决现有的真空干燥装置在干燥后，像素界定层的像素区域内所形成的膜层的厚度均匀性较差的问题。为达到上述目的，第一方面，本专利技术实施例提供了一种真空干燥室，包括真空腔以及设置于所述真空腔内的载台，所述载台具有放置面，所述放置面用于放置所述基板，还包括超声波发射单元，所述超声波发射单元用于向所述真空腔内发射超声波。进一步地，所述超声波发射单元位于所述真空腔内并且所述超声波发射单元的发射口朝向所述放置面设置。更进一步地，所述放置面上开设有放置孔，所述超声波发射单元设置于所述放置孔内，并且所述超声波发射单元的发射口朝向所述放置孔位于所述放置面上的孔口设置。更进一步地，所述超声波发射单元的发射口与所述放置面相平齐。更进一步地，所述放置孔的数目为多个，多个所述放置孔均匀开设于所述放置面上，每个所述放置孔中均设置所述超声波发射单元，并且每个所述超声波发射单元的发射口均朝向该超声波发射单元所对应的所述放置孔位于所述放置面上的孔口设置。进一步地，所述载台活动连接有多个基板支撑杆，沿垂直于所述放置面的方向多个所述基板支撑杆在所述载台上的投影分布于所述放置面内并且每个所述基板支撑杆均可相对所述放置面移动。进一步地，所述真空腔内还设有真空传感器。更进一步地，还包括设置于所述真空腔内的冷凝装置，所述冷凝装置与所述放置面相隔且相对设置；所述真空传感器设置于所述放置面与所述冷凝装置之间。第二方面，本专利技术实施例提供了一种真空干燥装置，包括真空抽取装置以及第一方面中所述的真空干燥室，所述真空抽取装置的抽气口与所述真空干燥室的真空腔相连通。第三方面，本专利技术实施例提供了一种真空干燥方法，包括：在对基板上的待干燥膜层进行真空干燥的过程中，对所述待干燥膜层进行超声处理。本专利技术实施例提供的真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法，由于还包括超声波发射单元，超声波发射单元用于向真空腔内发射超声波，这样，在真空干燥的过程中，超声波所产生的超声震动会促进墨滴中的溶质均匀地溶解在墨滴的溶剂中，这样在干燥完成后，有利于保证成膜厚度的均匀性；比如在OLED有机发光层的制作过程中，当墨滴的高度降低至像素坑口以下时，超声波所产生的超声震动会使墨滴溶液处于平稳状态，促进墨滴在像素坑内均匀分布，抑制墨滴沿像素坑的坑壁向坑口攀爬，从而促进墨滴中的有机发光材料在墨滴中均匀溶解在墨滴溶剂中，避免有机发光材料在坑壁上残留，进而保证在真空干燥后像素坑中的膜层厚度的均匀性和膜厚的准确性和重复度，提高打印墨滴的体积的精确度，而像素坑中厚度均匀的膜层可以保证导致器件发光均匀，从而有利于提高显示器件的寿命；同时，通过超声波发射单元所发出超声波的超声震动，可以使墨滴与有机膜层，墨滴与ITO表面润湿充分，保证墨滴的充分铺展开，从而使墨滴在真空干燥后保证膜层厚度的均匀性。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有的一种真空干燥装置的真空干燥室的结构示意图；图2为现有这种真空干燥装置对膜层进行真空干燥前后的对比图；图3为本专利技术的一种实施例中的真空干燥装置的真空干燥室的结构示意图；图4为本专利技术实施例中的真空干燥装置对膜层进行真空干燥前后的对比图；图5为本专利技术另一种实施例中真空干燥装置的载台的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空干燥室，包括真空腔以及设置于所述真空腔内的载台，所述载台具有放置面，所述放置面用于放置所述基板，其特征在于，还包括超声波发射单元，所述超声波发射单元用于向所述真空腔内发射超声波。

【技术特征摘要】
1.一种真空干燥室，包括真空腔以及设置于所述真空腔内的载台，所述载台具有放置面，所述放置面用于放置所述基板，其特征在于，还包括超声波发射单元，所述超声波发射单元用于向所述真空腔内发射超声波。2.根据权利要求1所述的真空干燥室，其特征在于，所述超声波发射单元位于所述真空腔内并且所述超声波发射单元的发射口朝向所述放置面设置。3.根据权利要求2所述的真空干燥室，其特征在于，所述放置面上开设有放置孔，所述超声波发射单元设置于所述放置孔内，并且所述超声波发射单元的发射口朝向所述放置孔位于所述放置面上的孔口设置。4.根据权利要求3所述的真空干燥室，其特征在于，所述超声波发射单元的发射口与所述放置面相平齐。5.根据权利要求3所述的真空干燥室，其特征在于，所述放置孔的数目为多个，多个所述放置孔均匀开设于所述放置面上，每个所述放置孔中均设置所述超声波发射单元，并且每个所述超声波发射单元的发射口均朝向该超声波...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾文斌，孙力，廖金龙，许名宏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11