一种具有双真空室的真空灭弧室结构制造技术

本发明专利技术公开了一种双真空室真空灭弧室，包括外真空室（1）和内真空室（2），内真空室（2）设在外真空室（1）中；还包括静端件（3）和的动端件（4），静端件（3）由下至上依次穿过外真空室（1）和内真空室（2），动端件（4）由上至下依次穿过外真空室（1）和内真空室（2）。本发明专利技术具有两个真空室的灭弧室，可降低出现漏气时或低真空问题的概率，提高产品的可靠性，避免真空灭弧室的开断能力受影响，大幅提高了真空灭弧室的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种具有双真空室的真空灭弧室结构
本专利技术涉及一种电力元件，特别是一种具有双真空室的真空灭弧室结构。
技术介绍
真空灭弧室，又名真空开关管，是中高压电力开关的核心部件，其主要作用是，利用管内高真空作灭弧绝缘介质，使中高压电路切断电源后能迅速熄弧并抑制电流，避免事故和意外的发生。真空灭弧室作为真空开关不可缺少的元件，是真空开关的心脏，它的设计结构和设计质量决定着真空开关的主要性能。常规生产的真空灭弧室是有一个陶瓷绝缘外壳按照设计结构要求保证动、静端件在确定的位置上，并与波纹管及动、静盖板共同作用构成密封的内部空间，即真空室，确保在有效时间内的真空度符合规定要求。真空具有高绝缘强度并能够熄灭电弧，真空灭弧室在固定电极间的距离，间隙的绝缘强度随着真空度的升高而增加，达到一定的真空度时，绝缘强度呈饱和状态；在开断电流时，交流电流电弧过零熄灭后，真空介质获得很高的初始恢复强度，保证真空开关的正常开断。若真空灭弧室出现漏气时或低“真空”问题时，真空度达不到规定要求，则该灭弧室必须做报废处理，否则会影响真空开关的开断性能，从而造成损失甚至危险。因此，现有的真空灭弧室存在真空室易漏气，导致真空灭弧室的开断能力受影响，真空灭弧室的使用寿命较短的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种具有双真空室的真空灭弧室结构。本专利技术具有两个真空室的灭弧室，可降低出现漏气时或低真空问题的概率，提高产品的可靠性，避免真空灭弧室的开断能力受影响，大幅提高了真空灭弧室的使用寿命。本专利技术的技术方案：一种具有双真空室的真空灭弧室结构，包括外真空室和内真空室，内真空室设在外真空室中；还包括静端件和动端件，静端件由下至上依次穿过外真空室和内真空室，动端件由上至下依次穿过外真空室和内真空室。前述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构中，所述内真空室包括陶瓷绝缘外壳Ⅰ，陶瓷绝缘外壳Ⅰ下端设有静盖板Ⅱ，陶瓷绝缘外壳Ⅰ上端设有动盖板Ⅰ，动盖板Ⅰ和静盖板Ⅱ分别与陶瓷绝缘外壳Ⅰ真空焊接。前述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构中，所述外真空室包括陶瓷绝缘外壳Ⅱ，陶瓷绝缘外壳Ⅱ下端设有静盖板Ⅰ、陶瓷绝缘外壳Ⅱ上端设有动盖板Ⅱ，静盖板Ⅰ和动盖板Ⅱ分别与陶瓷绝缘外壳Ⅱ真空焊接。前述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构中，所述静端件设在外真空室下端部，静端件依次通过静盖板Ⅰ和静盖板Ⅱ穿过外真空室和内真空室，静端件分别与静盖板Ⅰ和静盖板Ⅱ真空焊接。前述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构中，所述动端件设在外真空室上端部，动端件中间部位通过波纹管Ⅰ与动盖板Ⅰ真空焊接，动端件顶部通过波纹管Ⅱ与动盖板Ⅱ真空焊接。前述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构中，所述外真空室和内真空室均为密封的真空内部空间。与现有技术相比，采用陶瓷绝缘嵌套式结构，设计、制造具有两个真空室的灭弧室，通过增加一个真空室，设计出具有2个真空室的灭弧室；静端件与静盖板Ⅰ、Ⅱ真空焊接，动端件通过波纹管Ⅰ与动盖板Ⅰ焊接，将静盖板Ⅱ、动盖板Ⅰ与陶瓷绝缘外壳Ⅰ进行真空焊接，从而构成密封的真空内部空间，即内真空室；所述外真空室是内真空室焊接完成后，将动端组件Ⅱ通过波纹管Ⅱ与动盖板Ⅱ焊接，将静盖板Ⅰ、动盖板Ⅱ与陶瓷绝缘外壳Ⅱ进行真空焊接，从而构成密封的真空内部空间，即外真空室。通过利用陶瓷绝缘外壳嵌套陶瓷绝缘外壳的结构，解决内、外任意一个真空室出现漏气时或低“真空”问题时，所带来的对真空灭弧室的开断能力、使用寿命的影响的问题，本专利技术有效保证了出现以上问题时，仍有一个真空室可以保持灭弧室内的真空度，使真空灭弧室仍能正常工作，提高了灭弧室的可靠性；根据常规生产控制，一个真空室漏气率在1‱，两个嵌套式真空室漏气率为1‱×1‱=1ppm；达到产品可靠性性能。综上所述，本专利技术具有两个真空室的灭弧室，可降低出现漏气时或低真空问题的概率，提高产品的可靠性，避免真空灭弧室的开断能力受影响，大幅提高了真空灭弧室的使用寿命。附图说明图1是本专利技术的结构示意图A；图2是本专利技术的结构示意图B；附图中的标记为：1-外真空室，2-内真空室，3-静端件，4-动端件，5-陶瓷绝缘外壳Ⅰ，6-静盖板Ⅱ，7-动盖板Ⅰ，8-陶瓷绝缘外壳Ⅱ，9-静盖板Ⅰ，10-动盖板Ⅱ，11-波纹管Ⅰ，12-波纹管Ⅱ，13-断口。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的说明，但并不作为对本专利技术限制的依据。实施例。一种具有双真空室的真空灭弧室结构，如图1和图2所示，包括外真空室1和内真空室2，内真空室2设在外真空室1中；还包括静端件3和动端件4，静端件3由下至上依次穿过外真空室1和内真空室2，动端件4由上至下依次穿过外真空室1和内真空室2。所述内真空室2包括陶瓷绝缘外壳Ⅰ5，陶瓷绝缘外壳Ⅰ5下端设有静盖板Ⅱ6，陶瓷绝缘外壳Ⅰ5上端设有动盖板Ⅰ7，动盖板Ⅰ7和静盖板Ⅱ6分别与陶瓷绝缘外壳Ⅰ5真空焊接；所述外真空室1包括陶瓷绝缘外壳Ⅱ8，陶瓷绝缘外壳Ⅱ8下端设有静盖板Ⅰ9、陶瓷绝缘外壳Ⅱ8上端设有动盖板Ⅱ10，静盖板Ⅰ9和动盖板Ⅱ10分别与陶瓷绝缘外壳Ⅱ8真空焊接；所述静端件3设在外真空室1下端部，静端件3依次通过静盖板Ⅰ9和静盖板Ⅱ6穿过外真空室1和内真空室2，静端件3分别与静盖板Ⅰ9和静盖板Ⅱ6真空焊接；所述动端件4设在外真空室1上端部，动端件4中间部位通过波纹管Ⅰ11与动盖板Ⅰ7真空焊接，动端件4顶部通过波纹管Ⅱ12与动盖板Ⅱ10真空焊接；所述外真空室1和内真空室2均为密封的真空内部空间。工作原理：真空开关工作时，真空灭弧室内部波纹管Ⅰ11、Ⅱ被压缩，动端件4被拉开（拉开距离为该产品的断口13），通过内真空室2内的动端件4、静端件3达到开断的目的。该双真空室真空灭弧室，通过设置内、外真空室1，使得灭弧室具有两个相对独立的真空环境，在长期使用时，如果单一个真空室发生漏气，仍有另一个真空室可以保证灭弧室的真空度不会受到影响，保证了整个真空灭弧室的性能，提高了真空灭弧室的可靠性。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：包括外真空室（1）和内真空室（2），内真空室（2）设在外真空室（1）中；还包括静端件（3）和动端件（4），静端件（3）由下至上依次穿过外真空室（1）和内真空室（2），动端件（4）由上至下依次穿过外真空室（1）和内真空室（2）。

【技术特征摘要】
1.一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：包括外真空室（1）和内真空室（2），内真空室（2）设在外真空室（1）中；还包括静端件（3）和动端件（4），静端件（3）由下至上依次穿过外真空室（1）和内真空室（2），动端件（4）由上至下依次穿过外真空室（1）和内真空室（2）。2.根据权利要求1所述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：所述内真空室（2）包括陶瓷绝缘外壳Ⅰ（5），陶瓷绝缘外壳Ⅰ（5）下端设有静盖板Ⅱ（6），陶瓷绝缘外壳Ⅰ（5）上端设有动盖板Ⅰ（7），动盖板Ⅰ（7）和静盖板Ⅱ（6）分别与陶瓷绝缘外壳Ⅰ（5）真空焊接。3.根据权利要求1所述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：所述外真空室（1）包括陶瓷绝缘外壳Ⅱ（8），陶瓷绝缘外壳Ⅱ（8）下端设有静盖板Ⅰ（9）、陶瓷绝缘外壳Ⅱ（8...

【专利技术属性】
技术研发人员：张毅，冉园园，高春晖，甘巍，
申请(专利权)人：中国振华电子集团宇光电工有限公司国营第七七一厂，
类型：发明
国别省市：贵州,52