膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统。该膜层处理方法包括步骤：S1，将墨水设置在基底上，形成待干燥膜层，其中，墨水包括第一溶剂和溶质；S3，在待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴，其中，小液滴为第二溶剂经过超声振动形成，第二溶剂对溶质的溶解性大于第一溶剂对溶质的溶解性，至少部分小液滴进入待干燥膜层。该膜层处理方法减缓了待干燥膜层的干燥成膜的速率，增加了溶剂的挥发均匀性，并且有效地提高了喷墨打印制作的膜层的均匀性，解决了现有技术中各个子像素的膜层中溶剂挥发速率不同或太快而导致薄膜的形貌不均匀的问题。

Film layer, light-emitting device, film processing method, device and system

The invention provides a film layer, a light-emitting device, a film processing method, a device and a system. The film treatment method comprises the following steps: S1, the ink is placed on the substrate to form a film to be dried, wherein the ink includes the first solvent and solute; S3, a small second solvent droplet scattered above the surface of the film to be dried, in which the small droplet is formed by ultrasonic vibration of the second solvent and the second solvent pair is formed. The solubility of the solute is greater than that of the first solvent. At least some small droplets enter the film to be dried. The film treatment method slows down the drying rate of the film to be dried, increases the volatilization uniformity of the solvent, and effectively improves the uniformity of the film produced by inkjet printing. It solves the problem of the uneven appearance of the film caused by the different or too fast volatilization rate of the solvent in the film of each sub-pixel in the prior art. Question.

【技术实现步骤摘要】
膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统
本专利技术涉及膜层制备
，具体而言，涉及一种膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统。
技术介绍
在PLED(英文：PolymerLight-EmittingDiode，高分子发光二极管)、OLED(有机发光二极管)以及QLED(量子点发光二极管)显示或照明器件的制备中，通常采用喷墨打印技术，形成红、绿、蓝三基色发光像素。即将预先进行ITO(IndiumTinOxide，氧化铟锡)图案化的基板吸附在打印基台上，将溶解在溶剂中的各种材料(包括，功能层材料，以及红、绿、蓝三色发光材料)的溶液喷涂在该基板上的子像素坑中，形成红、绿、蓝三基色发光像素。然后通过后续的干燥工艺(如低压烘箱干燥工艺)去除膜层中的多余溶剂。目前的生产过程中，在将溶液喷墨至基板子像素坑后，溶液是以很小的墨滴形式分布在像素坑的像素区域中(通常200×50um，甚至更小)，并不能很好的流淌并铺展整个像素坑，并且在后续的真空干燥过程中，因为墨滴体积很小，在像素坑中形成的厚度只有几十到几百纳米，墨滴中的溶剂快速干燥，以致会出现像素坑中的墨滴未均匀覆盖整个像素坑就已经固化的现象，或者溶剂在边缘挥发速度快，带动溶质向边缘运动形成咖啡环(即墨滴的溶质在像素坑边缘堆积)最后导致器件的发光不均的现象。由上可知，利用喷墨打印机制作好像素后，再传递至低压烘箱干燥进行干燥，而在传递和等待干燥的过程中，制作好的像素会由于时间和环境的关系，出现部分提前干燥的情况，导致形成的像素不均匀，易出现像素中间凸起或“咖啡环”等现象，影响器件性能，因此上述问题亟需解决。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统，以解决现有技术中各个子像素的膜层中溶剂挥发速率不同或太快而导致薄膜的形貌不均匀的问题。为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种膜层处理方法，所述方法包括步骤：S1，将墨水设置在基底上，形成待干燥膜层，其中，所述墨水包括第一溶剂和溶质；S3，在所述待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴，其中，所述小液滴为第二溶剂经过超声振动形成，所述第二溶剂对所述溶质的溶解性大于所述第一溶剂对所述溶质的溶解性，至少部分所述小液滴进入所述待干燥膜层。进一步地，所述步骤S1包括：将墨水设置在基底上的至少一个像素区域中，形成待干燥膜层，其中，所述基底上设置多个像素隔离结构，所述像素隔离结构形成多个相互隔离的像素区域。进一步地，在所述步骤S1之后，所述方法还包括步骤：S2，将所述待干燥膜层放置在一个腔室的预设环境中，其中，所述预设环境为所述腔室中分散着所述第二溶剂的蒸汽，且所述预设环境的气压小于标准大气压强。进一步地，所述预设环境的气压为所述第二溶剂的饱和蒸气压。进一步地，在所述步骤S3之后，所述方法还包括步骤：S4，采用红外光照射所述基底远离所述待干燥膜层的一侧表面，以使所述待干燥膜层干燥，其中，所述照射方式包括整面照射或扫描照射。进一步地，所述超声振动的方向为平行所述基底的方向。进一步地，所述溶质为量子点、有机发光材料或功能材料，所述功能材料包括用于电子传输、电子注入、空穴传输、空穴注入或导电的材料，所述第一溶剂和所述第二溶剂分别独立地选自苯、甲苯、氯苯、对二甲苯、丙酮、已烷、环已烷、二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、长链烷基酸、烷基胺或长链醇。进一步地，所述第二溶剂的沸点大于所述第一溶剂的沸点。进一步地，所述步骤S3包括：对所述第二溶剂进行超声振动处理；将经所述处理后的第二溶剂通过喷墨打印或喷涂的方式，在所述待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴。进一步地，在所述步骤S3中，相对于所述基底，所述像素区域中的待干燥膜层和所述第二溶剂的总高度小于等于所述像素隔离结构的高度，优选所述总高度在1μm至5μm之间。进一步地，在所述步骤S3之后，所述方法还包括：对进入待干燥膜层中的所述第二溶剂进行超声振动处理。进一步地，所述第一溶剂在所述步骤S3之前部分挥发或者完全挥发。根据本专利技术的另一方面，还提供了一种膜层，所述膜层由上述任一项所述的膜层处理方法制备而成。根据本专利技术的第三个方面，还提供了一种发光器件，所述发光器件中包括上述的膜层。根据本专利技术的第四个方面，还提供了一种膜层处理装置，用于处理待干燥膜层，其中，形成所述待干燥膜层的墨水包括第一溶剂和溶质，所述装置包括：超声波震荡器，用于超声振动第二溶剂和所述待干燥膜层，其中，所述第二溶剂对所述溶质的溶解性大于所述第一溶剂对所述溶质的溶解性；喷射装置，与所述超声波震荡器连接，包括溶剂入口和喷头，用于喷射所述第二溶剂，得到分散的第二溶剂小液滴，并使所述第二溶剂小液滴设置在所述待干燥膜层所在平面上方。进一步地，所述装置还包括：红外光照射装置，设置在所述喷射装置的所述喷头相对侧，用于红外光照射所述基底的远离所述待干燥膜层的表面，以干燥所述待干燥膜层，其中，所述照射的方式包括整面照射或扫描照射。进一步地，所述装置还包括：真空吸附平台，设置在所述喷射装置的所述喷头相对侧，用于吸附所述基底。进一步地，所述装置还包括：移动单元，配置成使所述喷射装置的喷头或所述真空吸附平台中的至少之一相对于另一个移动。根据本专利技术的第五个方面，还提供了一种膜层处理系统，所述系统包括：上述任一项所述的膜层处理装置；低压腔室，具有可放置所述膜层处理装置的内部空间、腔室门、以及用于连接真空泵的接口；机械手臂，用于将待干燥膜层移放至所述膜层处理装置的喷射装置下方。应用本专利技术的技术方案，提供了一种膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统，采用该膜层处理方法，先将含有溶质和第一溶剂的墨水设置在基底上，以形成待干燥膜层，然后将第二溶剂的小液滴设置在上述待干燥膜层上方，至少部分小液滴进入待干燥膜层，由于该第二溶剂对溶质的溶解性大于第一溶剂，待干燥膜层中的溶质会随着第一溶剂的挥发，而重新溶解在第二溶剂中，从而相对于的现有技术来说，避免了待干燥膜层的部分提前干燥的现象出现，减缓了待干燥膜层的干燥成膜的速率，增加了溶剂的挥发均匀性，并且采用超声振动处理第二溶剂，分散的第二溶剂小液滴进入待干燥膜层后可以带动溶质铺展均匀，进而有效地提高了喷墨打印制作的膜层的均匀性，解决了现有技术中各个子像素的膜层中溶剂挥发速率不同或太快而导致薄膜的形貌不均匀的问题。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本专利技术还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本专利技术作进一步详细的说明。附图说明构成本专利技术的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1示出了本专利技术所提供的一种可选的膜层处理方法的流程图；图2示出了本专利技术所提供的一种可选的膜层处理装置的示意图；图3示出了本专利技术所提供的一种可选的膜层处理装置的实物图；以及图4示出了本专利技术所提供的另一种可选的膜层处理系统的实物图。其中，上述附图包括以下附图标记：1、超声波震荡器；2、喷射装置；21、溶剂入口；23、喷头；3、红外光照射装置；4、真空吸附平台；5、移动单元；11、膜层处理装置；12、低压腔室；13、机械手臂。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术中的实施例及实施例中的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种膜层处理方法，其特征在于，所述方法包括步骤：S1，将墨水设置在基底上，形成待干燥膜层，其中，所述墨水包括第一溶剂和溶质；S3，在所述待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴，其中，所述小液滴为第二溶剂经过超声振动形成，所述第二溶剂对所述溶质的溶解性大于所述第一溶剂对所述溶质的溶解性，至少部分所述小液滴进入所述待干燥膜层。

【技术特征摘要】
1.一种膜层处理方法，其特征在于，所述方法包括步骤：S1，将墨水设置在基底上，形成待干燥膜层，其中，所述墨水包括第一溶剂和溶质；S3，在所述待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴，其中，所述小液滴为第二溶剂经过超声振动形成，所述第二溶剂对所述溶质的溶解性大于所述第一溶剂对所述溶质的溶解性，至少部分所述小液滴进入所述待干燥膜层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S1包括：将墨水设置在基底上的至少一个像素区域中，形成待干燥膜层，其中，所述基底上设置多个像素隔离结构，所述像素隔离结构形成多个相互隔离的像素区域。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步骤S1之后，所述方法还包括步骤：S2，将所述待干燥膜层放置在一个腔室的预设环境中，其中，所述预设环境为所述腔室中分散着所述第二溶剂的蒸汽，且所述预设环境的气压小于标准大气压强。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述预设环境的气压为所述第二溶剂的饱和蒸气压。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，在所述步骤S3之后，所述方法还包括步骤：S4，采用红外光照射所述基底远离所述待干燥膜层的一侧表面，以使所述待干燥膜层干燥，其中，所述照射方式包括整面照射或扫描照射。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述超声振动的方向为平行所述基底的方向。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶质为量子点、有机发光材料或功能材料，所述功能材料包括用于电子传输、电子注入、空穴传输、空穴注入或导电的材料，所述第一溶剂和所述第二溶剂分别独立地选自苯、甲苯、氯苯、对二甲苯、丙酮、已烷、环已烷、二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、长链烷基酸、烷基胺或长链醇。8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二溶剂的沸点大于所述第一溶剂的沸点。9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S3包括：对所述第二溶剂进行超声振动处理；将经所述处理后的第二溶剂通过喷墨打印或喷涂的方式，在所述待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴。10.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述步骤S3中，相对于...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜勇，杨驰，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33