压印装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术介绍了一种压印装置及方法。本发明专利技术的压印装置包括：表面改性部，其对形成有图案的模的表面进行等离子处理；结合部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，结合所述模和所述基板；以及分离部，其分离被结合的所述模和所述基板。

Embossing device and method

The invention introduces a kind of imprinting device and method. The embossing device of the present invention comprises a surface modification section, which is plasma treated to the surface of a patterned mold, and a combination part that enables the pattern of the plasma treated die to be stamped on the substrate, combined with the mold and the substrate, and the separation section, which separates the mode and the combination of the moulds. The substrate is described.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】压印装置及方法
本专利技术涉及一种用模加压被涂覆于基板表面的树脂来转印图案的压印装置及方法。
技术介绍
纳米压印光刻工程是一种既经济又能够有效地制作纳米结构物(nano-structure)的技术，是在基材(substrate)上旋涂(spin-coating)或点涂(dispensing)树脂，并将形成有图案的模压于树脂表面来转印(transfer)图案的技术。纳米压印光刻工程大体可以分为加热式(thermal-type)和紫外线照射方式。加热式工程被称为热转印(HotEmbossing)或热压印光刻(ThermalImprintLithography)，是一种使模与形成有高分子层的基材接触后，加热而向高分子层提供流动性，并施加压力来在高分子层上制作出期望的图案的方法。这种加热式工程存在因热变形而难以进行多层对齐的问题，且由于为了压印粘度较大的树脂而需要较高的压力，因而存在图案易碎的问题。为改善这种加热式工程的问题而开发的紫外线照射方式的纳米压印光刻工程是一种使用低粘度光硬化性树脂和用于硬化其的紫外线的方法，由于能够以常温低压执行工程，因而适宜进行多层化和大量生产。以往的紫外线照射方式的纳米压印光刻工程中，若先在基板上涂覆紫外线硬化用树脂后，利用模施压，则硬化用树脂将填补模的图案之间。此时，由于粘度低，即使在较低的压力下也能用树脂容易填补模的图案之间。之后，若由UV光源通过透明的模对树脂进行感光，则树脂被硬化。之后，若摘下模，则图案之间将残留有残余层，通过氧灰化去除该残余层来完成工程。在上述以往的紫外线照射方式的工程中，也会在模的表面涂覆自组装单分子膜来改善脱模性，但存在所需涂覆处理时间较长、产品的生产性下降的问题。此外，在对模进行另外的涂覆处理的情况下，存在价格竞争力下降，且另外形成的涂覆层在基板与模的分离时会粘染使得模难以再使用的缺点。进一步地，由于模的再使用性下降，需要只向一方向移送模，因而生产性下降，而树脂涂覆过程等在另外的场所或装备中进行导致无法进行连续性的工程，因而存在需要较多的作业空间，且需要较多的作业时间的问题。作为上述
技术介绍
所说明的事项只用于增进对本专利技术的背景的理解，不能理解为认同属于对本领域的一般的技术人员已公知的现有技术。现有技术文献专利文献1：KR10-2012-0127731(2012.11.23)
技术实现思路
技术问题本专利技术的目的在于提供一种改善了脱模性且能够再使用模的压印装置及方法。技术方案用于达成这种目的的本专利技术的压印装置包括：表面改性部，其对形成有图案的模的表面进行等离子处理；结合部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，结合所述模和所述基板；以及分离部，其分离被结合的所述模和所述基板。所述压印装置的特征在于，所述等离子是对包括空气、氩气、氧气以及氮气中的一个以上的气体施加RF而产生的。所述压印装置的特征在于，还包括移送部，其移送所述模，所述移送部将在所述分离部分离的所述模移送至所述表面改性部，以能够对所述模进行等离子处理而再使用所述模。所述压印装置还包括控制部，其对所述模与所述基板的结合或分离次数进行计数，并根据所设定的次数控制所述移送部将所述模更换为新的模。所述压印装置还包括控制部，其检查在所述分离部分离的模的表面状态，根据所述表面状态控制所述移送部将所述模更换为新的模。所述压印装置的特征在于，所述表面改性部、结合部以及分离部相互间隔规定间距而沿所述模的移送方向依次排列。所述压印装置的特征在于，所述结合部、表面改性部以及分离部相互间隔规定间距而沿所述模的移送方向依次排列。所述模包括相互间隔规定间距而设置于所述移送部上的第一模和第二模，所述表面改性部包括隔着所述结合部分别间隔规定间距而设置的第一表面改性部和第二表面改性部，所述分离部包括隔着所述结合部和所述表面改性部分别间隔规定间距而设置的第一分离部和第二分离部，所述移送部将在所述第一、第二分离部中的任一个分离的所述第一或第二模移送至所述第一、第二表面改性部中的任一个。所述压印装置还包括涂覆部，其用树脂涂覆所述基板上部。所述涂覆部包括：旋涂部，其在所述基板上部涂覆液体树脂；以及干燥部，其干燥所述树脂。所述结合部包括：腔室，其维持低真空状态，以能够防止异物流入；以及硬化部，其使所述基板上的树脂硬化。所述压印装置的特征在于，所述移送部包括：PET膜；第一辊，其供所述PET膜的一端结合而卷绕；以及第二辊，其供所述PET膜的另一端结合而卷绕且与所述第一辊间隔规定间距而配置，所述模形成于所述PET膜上。所述压印装置包括：表面改性部，其对形成有图案的模的表面进行等离子处理；以及工作部，其将所述模冲压于所述基板，以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板，并从所述基板松释所述模。一种压印方法，包括：进行等离子处理以对形成有图案的模的表面进行改性的过程；将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于基板的过程；以及从被冲压的所述基板松释所述模的过程。所述压印方法的特征在于，执行所述等离子处理的过程，以能够再使用经所述松释的过程的所述模。所述压印方法还包括将经所述松释的过程的模中执行了所设定的冲压或松释次数的模更换为新的模的过程。一种压印方法，其特征在于，包括：进行等离子处理以对形成有图案的模的表面进行改性的过程；向一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于基板的过程；向一方向移送所述模而从被冲压的所述基板松释所述模的过程；向另一方向移送所述模而进行等离子处理以对被松释的所述模的表面进行改性的过程；向一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于新的基板的过程；以及向一方向移送所述模而从被冲压的所述新的基板松释所述模的过程，所述的各个过程被反复而连续地进行。一种压印方法，其特征在于，包括：进行等离子处理以对形成有图案的模的表面进行改性的过程；向另一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于基板的过程；向一方向移送所述模而从被冲压的所述基板松释所述模的过程；向另一方向移送所述模而对被松释的所述模的表面进行等离子处理的过程；向另一方向移送所述模而将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于新的基板的过程；以及向一方向移送所述模而从被冲压的所述新的基板松释所述模的过程，所述的各个过程被反复而连续地进行。一种压印方法，利用形成有图案的第一、第二模冲压两个以上的基板，所述压印方法的特征在于，进行等离子处理以对所述第一模的表面进行改性而将所述第一模冲压于第一基板，并进行等离子处理以对所述第二模的表面进行改性后，从所述第一基板松释被冲压的所述第一模的同时，将进行了等离子处理的所述第二模冲压于第二基板。所述压印方法的特征在于，包括：进行等离子处理以对所述第一模的表面进行改性的过程；向一方向移送所述第一模而将进行了等离子处理的所述第一模的图案冲压于第一基板的过程；向一方向移送所述第一、第二模而进行等离子处理以对所述第二模的表面进行改性的过程；向一方向移送所述第一、第二模而从被冲压的所述基板松释所述第一模的同时，将进行了等离子处理的所述第二模的图案冲压于第二基板的过程；向另一方向移送所述第一、第二模而进行等离子处理以对被松释的所述第一模的表面进行改性的过程；以及向另一方向移送所述第一、第二模本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种压印装置，其特征在于，包括：表面改性部，其对形成有图案的模表面进行等离子处理；结合部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，结合所述模和所述基板；以及分离部，其分离被结合的所述模和所述基板。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.08 KR 10-2015-0174416;2015.12.08 KR 10-2011.一种压印装置，其特征在于，包括：表面改性部，其对形成有图案的模表面进行等离子处理；结合部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，结合所述模和所述基板；以及分离部，其分离被结合的所述模和所述基板。2.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，所述等离子是对包括空气、氩气、氧气以及氮气中的一个以上的气体施加RF而产生的。3.根据权利要求1所述的压印装置，其特征在于，还包括移送部，其移送所述模，所述移送部将在所述分离部分离的所述模移送至所述表面改性部，以能够对所述模进行等离子处理而再使用所述模。4.根据权利要求3所述的压印装置，其特征在于，还包括控制部，其对所述模与所述基板的结合或分离次数进行计数，并根据所设定的次数控制所述移送部将所述模更换为新的模。5.根据权利要求3所述的压印装置，其特征在于，还包括控制部，其检查在所述分离部分离的模表面状态，根据所述表面状态控制所述移送部将所述模更换为新的模。6.根据权利要求3所述的压印装置，其特征在于，所述表面改性部、结合部以及分离部相互间隔规定间距而沿所述模的移送方向依次排列。7.根据权利要求3所述的压印装置，其特征在于，所述结合部、表面改性部以及分离部相互间隔规定间距而沿所述模的移送方向依次排列。8.根据权利要求3所述的压印装置，其特征在于，所述模包括相互间隔规定间距而设置于所述移送部上的第一模和第二模，所述表面改性部包括隔着所述结合部分别间隔规定间距而设置的第一表面改性部和第二表面改性部，所述分离部包括隔着所述结合部和所述表面改性部分别间隔规定间距而设置的第一分离部和第二分离部，所述移送部将在所述第一、第二分离部中的任一个分离的所述第一或第二模移送至所述第一、第二表面改性部中的任一个。9.根据权利要求3所述的压印装置，其特征在于，还包括涂覆部，其用树脂涂覆所述基板上部。10.根据权利要求9所述的压印装置，其特征在于，所述涂覆部包括：旋涂部，其在所述基板上部涂覆液体树脂；以及干燥部，其干燥所述树脂。11.根据权利要求3所述的压印装置，其特征在于，所述结合部包括：腔室，其维持低真空状态，以能够防止异物流入；以及硬化部，其使所述基板上的树脂硬化。12.根据权利要求11所述的压印装置，其特征在于，所述移送部包括：PET膜；第一辊，其供所述PET膜的一端结合而卷绕；以及第二辊，其供所述PET膜的另一端结合而卷绕且与所述第一辊间隔规定间距而配置，所述模形成于所述PET膜上。13.一种压印装置，其特征在于，包括：表面改性部，其对形成有图案的模表面进行等离子处理；以及工作部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，将所述模冲压于所述基板，并从所述基板松释所述模。14.一种压印方法，其特征在于，包括：进行等离子处理以对形成有图案的模的表面进行改性的过程；将进行了等离子处理的所述模的图案冲压于基板的过程；以及从被冲压的所述基板松释所述模的过程。15.根据权利要求14所述的压印方法，其特征在于，执行所述等离子处理的过程，以能够再使用经所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：具滋鹏，李眩雨，李南植，丘璜燮，金铉济，郑熙锡，
申请(专利权)人：吉佳蓝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR