光波导路的检查方法和使用该检查方法的光波导路的制造方法技术

本发明专利技术提供能够简便地检查在光波导路的芯上形成的反光面的弯曲程度(平面形成度)的光波导路的检查方法和使用该检查方法的光波导路的制造方法。在本发明专利技术的光波导路的检查方法中，使来自光源(10)的光(L1)自光波导路W1的芯(7)的第2端部的连接面(7c)入射并在第1端部的反光面(7a、7b)反射，之后自光波导路(W1)射出，利用具有摄像元件的照相机(20)来拍摄该射出光(L1)。然后，通过求出该拍摄到的图像的亮度，从而测量射出光(L1)的亮度。该亮度的测量值越大，能够判断为反光面(7a、7b)的弯曲程度越小。因此，对于上述亮度的测量值大于基准值的光波导路，其反光面(7a、7b)近似于平面，能够将其作为上述检查的合格品。

Method for inspecting optical waveguide and manufacturing method of optical waveguide using the inspection method

The invention provides an inspection method for simply checking the light wave guide path of a reflective surface (plane formation degree) formed on the core of a light wave guide and a method for making a light wave guide using the inspection method. In the method of checking the light wave guide of the present invention, the connection surface (7c) of the light (10) light (10) light (7) core (7) of the light (10) light guide road (7) is incident and reflected on the reflective surface (7a, 7b) of the first end, and then from the optical waveguide path (W1), and the shooting light (L1) is taken using a camera (20) having a camera element. The luminance of the captured image is then measured to measure the luminance of the emitted light (L1). The greater the measurement value of the brightness, the smaller the bending degree of the reflective surface (7a, 7b) can be judged. Therefore, the reflection surface (7a, 7b) of the above luminance is similar to the plane, and can be used as a qualified product for the above inspection.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光波导路的检查方法和使用该检查方法的光波导路的制造方法
本专利技术涉及在光通信、光信息处理以及其它普通光学领域中使用的光波导路的检查方法和使用该检查方法的光波导路的制造方法。
技术介绍
在最近的电子设备等中，随着传输信息量的增加，除了电布线之外，还采用光布线。作为这样的结构，例如，提出一种光电混载基板，如图7所示那样，其由具有电布线52的电路基板E和具有芯(光布线)57的光波导路W层叠而成，在上述电路基板E的与该光波导路W的两端部相对应的部分安装有发光元件11和受光元件12(例如参照专利文献1)。在该光电混载基板中，上述电路基板E在绝缘层51的表面形成有电布线52。另外，上述光波导路W的芯(光布线)57被第1包层56和第2包层58夹持。并且，上述光波导路W的第1包层56接触于上述电路基板E的绝缘层51的背面(绝缘层51的与形成有电布线52的面相反的那一侧的面)。另外，上述光波导路W的与上述发光元件11和上述受光元件12相对应的两端部形成为相对于上述芯57的长度方向(光传播的方向)倾斜45°的倾斜面，芯57的位于该倾斜面的部分成为反光面57a、57b。并且，在上述绝缘层51的与上述发光元件11和上述受光元件12相对应的部分形成有光路用通孔55，光L能够经由该光路用通孔55在上述发光元件11与第1端部(图7中为左端部)的反光面57a之间传播、以及在上述受光元件12与第2端部(图7中为右端部)的反光面57b之间传播。上述光电混载基板中的光L的传播是如下那样进行的。首先，光L自发光元件11朝向第1端部的反光面57a发出。该光L在通过形成于上述绝缘层51的光路用通孔55之后，穿过第1包层56，在芯57的第1端部的反光面57a反射(光路变换90°)，在芯57内沿长度方向前进。然后，在该芯57内传播的光L在芯57的第2端部的反光面57b反射(光路变换90°)，朝向受光元件12前进。接着，该光L穿过第1包层56而射出，并在通过形成于上述绝缘层51的光路用通孔55之后，被受光元件12接收。在上述光电混载基板中，重要的是，在芯57的第2端部的反光面57b反射的光L能够被受光元件12适当地接收。因此，以往，提供一种方法，即，检查上述反光面57b的倾斜角度，并仅将具有适当的倾斜角度的反光面57b的光电混载基板作为合格品(例如参照专利文献2、3)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009－288341号公报专利文献2：日本特开平7－234118号公报专利文献3：日本特开2014－199229号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，即使上述反光面57b的倾斜角度适当，也会因个体的不同，而存在受光元件12所接收到的光量较少的光电混载基板。因此，本专利技术人等研究其原因，结果发现，在受光元件12所接收到的光量较少的光电混载基板中，上述芯57的两端部的反光面57a、57b弯曲而平面形成度较小。因此，在该反光面57a、57b反射的光L未按照设计的方向反射，而是发生散射，到达受光元件12的受光部的光L的量变少。即，本专利技术人等查明了，不仅是反光面57a、57b的倾斜角度对光传播有影响，反光面57a、57b的弯曲程度(平面形成度)也对光传播有较大影响。对于上述反光面57a、57b的弯曲程度，用激光扫描该反光面57a、57b而得到该反光面57a、57b的图像，并通过分析该图像，从而能够检查上述反光面57a、57b的弯曲程度。但是，该检查并不简便。以往未提出简便地检查上述反光面57a、57b的弯曲程度的方法。本专利技术是鉴于这样的情况而做出的，提供能够简便地检查在光波导路的芯上形成的反光面的弯曲程度(平面形成度)的光波导路的检查方法和使用该检查方法的光波导路的制造方法。用于解决问题的方案为了实现上述目的，本专利技术的第1技术方案提供一种光波导路的检查方法，该光波导路的检查方法包括：准备光波导路的工序，该光波导路具有光路用的线状的芯且在该芯的第1端部形成有光路变换用的反光面；以及测量亮度的工序，在该测量亮度的工序中，使光自上述芯的第2端部入射到该芯内，使该光在上述反光面反射，之后自上述光波导路射出，对该射出来的射出光的亮度进行测量，其中，根据上述亮度的测量值来检查上述反光面的弯曲程度。另外，本专利技术的第2技术方案提供一种光波导路的制造方法，该光波导路的制造方法包括：形成芯的工序；使该芯的第1端部形成为反光面的工序；以及利用上述光波导路的检查方法来检查该反光面的弯曲程度的工序，其中，根据该检查的结果，将符合基准的光波导路作为合格品。为了能够对在光波导路的芯上形成的反光面的弯曲程度简便地进行检查，本专利技术人等对在上述反光面反射之后自上述光波导路射出的射出光反复进行了研究。其结果，查明了上述反光面的弯曲程度与上述射出光的亮度的大小存在相关性。即，上述反光面的弯曲程度越大(平面形成度越小)，在该反光面反射的光的扩散程度越大，因此，来自上述光波导路的射出光的亮度越小。相反地，上述反光面的弯曲程度越小(反光面越近似于平面)，在该反光面反射的光的扩散程度越小，因此，来自上述光波导路的射出光的亮度越大。因此，本专利技术人等发现了，若测量来自上述光波导路的射出光的亮度的大小，则能够根据该亮度的测量值来简便地检查上述反光面的弯曲程度。专利技术的效果在本专利技术的光波导路的检查方法中，使光在光波导路的芯上形成的反光面反射，之后自上述光波导路射出，测量了该射出光的亮度。并且，由于上述反光面的弯曲程度(平面形成度)和上述射出光的亮度的大小存在相关性，因此，若测量来自上述光波导路的射出光的亮度，则能够根据该亮度的测量值来简便地检查上述反光面的弯曲程度(平面形成度)。尤其是，在利用上述亮度的测量值来检查反光面的弯曲的过程中，在预先设定亮度的基准值，且对该基准值和上述亮度的测量值进行比较的情况下，容易判断上述亮度的测量值是大于还是小于上述基准值，因此，能够更简便地检查上述反光面的弯曲程度。并且，在上述亮度的测量工序中，以如下方式测量上述亮度，即，使用具有摄像元件的照相机，在使该照相机的焦点对准于上述反光面的一部分的状态下(也称作聚焦状态)，利用上述摄像元件拍摄来自上述光波导路的射出光，求出该拍摄到的图像的亮度，在该情况下，利用上述摄像元件拍摄的来自上述光波导路的射出光的图像较清晰，该图像的面积较小。另外，在上述亮度的测量工序中，以如下方式测量上述亮度，即，使用具有摄像元件的照相机，在使该照相机的焦点偏离上述反光面的状态下(也称作散焦状态)，利用上述摄像元件拍摄来自上述光波导路的射出光，求出该拍摄到的图像的亮度，在该情况下，利用上述摄像元件拍摄的来自上述光波导路的射出光的图像较模糊，该图像的面积较大。由此，与在上述聚焦状态下进行测量的情况相比，在上述散焦状态下测量的、在弯曲程度较大的反光面反射的上述射出光的亮度的测量值与上述亮度的基准值之间的差较大。因此，容易确认出反光面的弯曲程度较大。并且，在本专利技术的光波导路的制造方法中，在使芯的第1端部形成为反光面之后，利用上述光波导路的检查方法来检查该反光面的弯曲程度，因此能够排除反光面的弯曲程度较大的光波导路，从而能够仅将符合基准的合格品作为商品出厂。其结果，能够提高光波导路的品质的可靠性。附图说明图1是示意性表示具有成为本专利技术的光波导路的检查方法的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光波导路的检查方法，该光波导路的检查方法的特征在于，该光波导路的检查方法包括：准备光波导路的工序，该光波导路具有光路用的线状的芯且在该芯的第1端部形成有光路变换用的反光面；以及测量亮度的工序，在该测量亮度的工序中，使光自上述芯的第2端部入射到该芯内，使该光在上述反光面反射，之后自上述光波导路射出，对该射出来的射出光的亮度进行测量，根据上述亮度的测量值来检查上述反光面的弯曲程度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.17 JP 2015-2461201.一种光波导路的检查方法，该光波导路的检查方法的特征在于，该光波导路的检查方法包括：准备光波导路的工序，该光波导路具有光路用的线状的芯且在该芯的第1端部形成有光路变换用的反光面；以及测量亮度的工序，在该测量亮度的工序中，使光自上述芯的第2端部入射到该芯内，使该光在上述反光面反射，之后自上述光波导路射出，对该射出来的射出光的亮度进行测量，根据上述亮度的测量值来检查上述反光面的弯曲程度。2.根据权利要求1所述的光波导路的检查方法，其特征在于，在根据上述亮度的测量值来检查反光面的弯曲的过程中，预先设定亮度的基准值，对该基准值和上述亮度的测量值进行比较，从而检查上述反光面的弯曲程度。3.根据权利要求1或2所述的光波导路的检查方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：小泽博纪，辻田雄一，有马明，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP