光波导元件制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种光波导元件，其有效地使蓄积在基板内的电荷扩散，抑制了直流漂移和温度漂移。其具有：基板，具有电光效应；光波导，形成于该基板上；缓冲层(BF层)，形成于该基板上；以及调制电极(信号电极、接地电极)，形成于该缓冲层上，对在该光波导传播的光波进行调制，其特征在于，在该基板与该缓冲层之间形成使在该基板产生的电荷扩散的电荷扩散层，该电荷扩散层与构成该调制电极的接地电极电连接。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术的目的在于提供一种光波导元件，其有效地使蓄积在基板内的电荷扩散，抑制了直流漂移和温度漂移。其具有：基板，具有电光效应；光波导，形成于该基板上；缓冲层(BF层)，形成于该基板上；以及调制电极(信号电极、接地电极)，形成于该缓冲层上，对在该光波导传播的光波进行调制，其特征在于，在该基板与该缓冲层之间形成使在该基板产生的电荷扩散的电荷扩散层，该电荷扩散层与构成该调制电极的接地电极电连接。【专利说明】光波导元件
本专利技术涉及光波导元件，特别涉及到在具有电光效应的基板上形成光波导、缓冲层以及调制电极的光波导元件。
技术介绍
在光通信领域和光计量领域中，广泛使用在铌酸锂(LN)等具有电光效应的基板上形成有光波导和调制电极的光强度调制器等光波导元件。 具有电光效应的基板通过蓄积因极化产生的电荷、与从外部施加的电场对应地在基板内部产生的电荷，从而产生光波导元件的驱动电压发生变动的所谓直流漂移(DC K V^卜)现象。而且，还存在因基板的温度变化而产生的温度漂移现象。 另一方面，为了在基板上形成光波导，将调制电极也配置在该基板上，需要抑制在光波导传播的光波被该调制电极吸收、散射的情况。因此，进行在形成光波导的基板与调制电极之间配置S12等缓冲层的处理。 在专利文献I中，公开了下述技术:为了抑制直流漂移和温度漂移，在基板上依次层叠第一缓冲层、导电层、第二缓冲层以及中心导体。 然而，在缓冲层的表面形成有作为电荷分散膜的导电膜的情况下，难以将在基板与缓冲层之间蓄积的电荷有效地分散。因此，产生了因蓄积的电荷而使产品的工作点变动等问题。 而且，在专利文献I中，公开了存在于第一缓冲层和第二缓冲层之间的导电层与具有电光效应的基板接触的结构。然而，具有这样的结构的导电层除了具有倾斜结构之外，还需要在光波导上调制电极形成的电场作用的所谓相互作用部区域制造。 因此，均质地制造这样的倾斜结构、和控制第一和第二缓冲层以及导电层的各膜厚分别导致制造工序上的困难度。而且，具有存在于相互作用部区域附近的倾斜结构的导电层成为得到的光调制器的特性的偏差产生的原因。 现有技术文献 专利文献 专利文献1:日本特开2006-317550号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 本专利技术提供一种光波导元件，消除了上述的问题，有效地将蓄积在基板内的电荷扩散，抑制了直流漂移和温度漂移。 用于解决课题的方案 为了解决上述课题，技术方案I涉及的专利技术为一种光波导元件，具有:基板，具有电光效应；光波导，形成于该基板上；缓冲层，形成于该基板上；以及调制电极，形成于该缓冲层上，对在该光波导传播的光波进行调制，其特征在于，在该基板与该缓冲层之间形成使在该基板产生的电荷扩散的电荷扩散层，该电荷扩散层与构成该调制电极的接地电极电连接。 技术方案2涉及的专利技术的特征在于，在技术方案I所述的光波导元件中，该电荷扩散层为导电膜或半导体膜。 技术方案3涉及的专利技术的特征在于，在技术方案I或2所述的光波导元件中，该电荷扩散层由具有比光波导低的折射率的材料构成。 技术方案4涉及的专利技术的特征在于，在技术方案2或3所述的光波导元件中，该电荷扩散层的膜厚为0.05?0.6 μ m。 技术方案5涉及的专利技术的特征在于，在技术方案I至4的任意一项所述的光波导元件中，该电荷扩散层与该接地电极的电连接由贯通该缓冲层的通孔连接、设于基板侧面的导电膜、或者除去缓冲层的一部分而配置的连接层中的任意一方构成。 技术方案6涉及的专利技术的特征在于，在技术方案I所述的光波导元件中，该电荷扩散层由具有比该光波导低的折射率的低折射率材料和半导体材料构成，由所述低折射率材料构成的电荷扩散层至少在包括构成该调制电极的信号电极下的与光波导的相互作用区域及其附近的区域、以及包括该接地电极下的与光波导的相互作用区域及其附近的区域分离形成，由所述半导体材料构成的电荷扩散层将所述信号电极下的由低折射率材料构成的电荷扩散层与所述接地电极下的由低折射率材料构成的电荷扩散层电连接。 技术方案7涉及的专利技术的特征在于，在技术方案I所述的光波导元件中，该电荷扩散层由具有比该光波导低的折射率的低折射率材料构成，由所述低折射率材料构成的电荷扩散层存在膜厚不同且电阻值不同的区域，所述低折射率材料的电荷扩散层的膜厚厚且电阻值低的区域至少存在于包括构成该调制电极的信号电极下的与光波导的相互作用区域及其附近的区域、以及包括该接地电极下的与光波导的相互作用区域及其附近的区域，所述信号电极下的膜厚厚且电阻值低的电荷扩散层与所述接地电极下的膜厚厚且电阻值低的电荷扩散层彼此分离形成，两者由该低折射率材料的电荷扩散层的膜厚薄且电阻值高的区域电连接。 技术方案8涉及的专利技术的特征在于，在技术方案I所述的光波导元件中，该电荷扩散层由具有比该光波导低的折射率的低折射率材料构成，由所述低折射率材料构成的电荷扩散层存在于包括构成该调制电极的信号电极下的与光波导的相互作用区域及其附近的区域、以及包括该接地电极下的与光波导的相互作用区域及其附近的区域，所述信号电极下的电荷扩散层与所述接地电极下的电荷扩散层彼此分离形成，两者由电阻值比该电荷扩散层高的部件电连接。 专利技术效果 根据技术方案I的专利技术，能够提供一种光波导兀件，具有:基板，具有电光效应；光波导，形成于该基板上；缓冲层，形成于该基板上；以及调制电极，形成于该缓冲层上，对在该光波导传播的光波进行调制，其中，在该基板与该缓冲层之间形成有使在该基板产生的电荷扩散的电荷扩散层，该电荷扩散层与构成该调制电极的接地电极电连接，因此，有效地使在该基板内产生的电荷扩散，抑制了直流漂移和温度漂移。特别地，由于以直接与基板接触的方式配置电荷扩散层，因此能够高效地使在基板内产生的电荷扩散，并且通过将电荷扩散层与接地电极电连接，能够有效地发挥电荷的扩散功能，能够长期地维持电荷扩散效果O 根据技术方案2涉及的专利技术，电荷扩散层是导电膜或半导体膜，因此能够高效地使在基板内产生的电荷扩散。 根据技术方案3涉及的专利技术，电荷扩散层由具有比光波导低的折射率的材料构成，因此即使将电荷扩散层形成在光波导的正上方，也能够抑制在光波导传播的光波的损失。 根据技术方案4涉及的专利技术，电荷扩散层的膜厚为0.05?0.6 μ m,因此能够作为连续膜形成，并且能够构成得比缓冲层的厚度薄。由此，在维持电荷的扩散效果的同时，由于电荷扩散层的存在，不会发生基板与调制电极的距离远离，而驱动电压增加等不良情况。 根据技术方案5涉及的专利技术，电荷扩散层与接地电极的电连接由贯通缓冲层的通孔连接、设于基板侧面的导电膜、或者除去缓冲层的一部分而配置的连接层中的任意一方构成，因此能够更可靠地进行电荷扩散层与接地电极的电连接。 根据技术方案6涉及的专利技术，电荷扩散层由具有比光波导低的折射率的低折射率材料和半导体材料构成，由所述低折射率材料构成的电荷扩散层至少在包括构成调制电极的信号电极下的与光波导的相互作用区域及其附近的区域、以及包括接地电极下的与光波导的相互作用区域及其附近的区域分离形成，由所述半导体材料构成的电荷扩散层将所述信号电极下的由低折射率材料构成的电荷扩散层与所述接地电极下的由低折射率材料构成的电荷扩散本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光波导元件，具有：基板，具有电光效应；光波导，形成于该基板上；缓冲层，形成于该基板上；以及调制电极，形成于该缓冲层上，对在该光波导传播的光波进行调制，其特征在于，在该基板与该缓冲层之间形成使在该基板产生的电荷扩散的电荷扩散层，该电荷扩散层与构成该调制电极的接地电极电连接。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：竹村基弘，栗原雅尚，藤野哲也，
申请(专利权)人：住友大阪水泥股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP