The formation of the mask with a filter plate, filter plate, manufacturing method, display device, the mask includes a substrate, the substrate side is greater than length of filter plate; in the pattern layer on the substrate, the opening area of the shading pattern of the graphics filter layer contains at least 3 formed on the LCD panel the shading area and open area, define; the graphics layer is divided into the central area and the surrounding area, the opening area is located in the area around the width of at least 1 of the liquid crystal panel and is located in the central region of the liquid crystal panel opening area of the linewidth is not equal. The technical scheme of uniform mask by gravity bending, large exposure machine intensity and the distance distribution of large developing machine especially inhomogeneity of external factors such as the tilt type developing machine itself on the shading pattern line width uniformity influenced by the correction, make use of the mask is formed on the shading pattern filter plate the technical proposal, the linewidth is basically the same shading pattern of the central region and the surrounding area.
【技术实现步骤摘要】
制造滤光板用的掩模板、滤光板的形成方法、显示装置
本专利技术涉及液晶显示器领域,尤其涉及一种掩模板、滤光板的形成方法、显示装置。
技术介绍
近年来,随着信息通讯领域的迅速发展,对各种类型的显示设备的需求越来越大。目前主流的显示装置主要有:液晶显示器(LCD),等离子体显示器(PDP),电致发光显示器(ELD)和真空荧光显示器(VFD)等。由于液晶显示装置具有:轻、薄、体积小、耗电小、辐射低等优点,被广泛应用于各种数据处理设备中,例如电视、笔记本电脑、移动电话、个人数字助理等。液晶显示器主要包括:TFT阵列基板、彩色滤光板、TFT阵列基板和彩色滤光板之间的液晶层。图1为现有技术的液晶显示器中彩色滤光板的剖面结构示意图,参考图1,目前用于液晶显示器中彩色滤光板10主要包括:透明玻璃基板11、遮光图案层(BM层)12、彩色像素层(RBG层)13、公共电极层(ITO层)14、间隔柱(PhotoSpacer,PS)15。随着液晶显示器生产行业的发展,大尺寸基板投入应用,目前最大尺寸为10代线。随着基板的尺寸逐步增大,在彩色滤光板生产领域普遍使用的近接式曝光机所需要的曝光掩模板(Mask)、曝光平台以及显影机的尺寸也随之增大。滤光板和TFT阵列基板进行贴合后制成液晶显示器时,要求滤光板遮光图案面内分布呈现高度均匀性,否则由于遮光图案线宽波动出现漏光以及漏黑的现象,最终造成液晶显示器件报废,这种情况随着基板尺寸、掩模板尺寸和产线尺寸增大而发生的几率迅速增加,如大尺寸掩模板曝光时由于重力发生的弯曲,大型曝光机本身的光强和间距分布均匀性,大型显影机特别是倾斜式显影机本身的不 ...
【技术保护点】
一种制造液晶显示装置用滤光板时使用的掩模板,其特征在于,包括:基板,所述基板的边长大于所述滤光板的边长;位于所述基板上的图形层,所述图形层包含开口区以及开口区界定出的遮光区,用来形成至少3个液晶面板的滤光板上的遮光图案;对应所有液晶面板的所述图形层分为中央区域和周边区域,位于周边区域至少1个液晶面板的开口区的线宽与位于中央区域液晶面板开口区的线宽不相等。
【技术特征摘要】
1.一种制造液晶显示装置用滤光板时使用的掩模板,其特征在于,包括:基板,所述基板的边长大于所述滤光板的边长;位于所述基板上的图形层,所述图形层包含开口区以及开口区界定出的遮光区,用来形成至少3个液晶面板的滤光板上的遮光图案;对应所有液晶面板的所述图形层分为中央区域和周边区域,位于周边区域至少1个液晶面板的开口区的线宽与位于中央区域液晶面板开口区的线宽不相等。2.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述位于周边区域至少1个液晶面板的开口区线宽大于中央区域液晶面板的开口区的线宽。3.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述位于周边区域至少1个液晶面板的开口区线宽小于中央区域液晶面板的开口区的线宽。4.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述周边区域每一个液晶面板的开口区线宽与中央区域液晶面板的开口区的线宽均不同。5.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,中央区域的液晶面板的图形层完全位于所述中央区域,周边区域的液晶面板的图形层完全位于所述周边区域。6....
【专利技术属性】
技术研发人员:张莉,陈颖明,王菁晶,唐文静,
申请(专利权)人:上海仪电显示材料有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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