制造滤光板用的掩模板、滤光板的形成方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:15943409 阅读:190 留言:0更新日期:2017-08-08 05:58
一种制造滤光板用的掩模板、滤光板的形成方法、显示装置,掩模板包括:基板,基板的边长大于滤光板的边长;位于所述基板上的图形层,所述图形层包含形成至少3个液晶面板的滤光板上的遮光图案的开口区,以及开口区界定出的遮光区;所述图形层分为中央区域和周边区域,位于周边区域至少1个液晶面板的开口区的线宽与位于中央区域液晶面板开口区的线宽不相等。本技术方案对掩模板由于重力作用而弯曲、大型曝光机本身的光强和间距分布均匀性,大型显影机特别是倾斜式显影机本身的不均匀性等外部原因对遮光图案线宽均匀性造成的影响进行校正,使利用本技术方案的掩模板形成滤光板上的遮光图案时,中央区域和周边区域的遮光图案的线宽基本相等。

Mask plate for manufacturing filter plate, method for forming filter plate and display device

The formation of the mask with a filter plate, filter plate, manufacturing method, display device, the mask includes a substrate, the substrate side is greater than length of filter plate; in the pattern layer on the substrate, the opening area of the shading pattern of the graphics filter layer contains at least 3 formed on the LCD panel the shading area and open area, define; the graphics layer is divided into the central area and the surrounding area, the opening area is located in the area around the width of at least 1 of the liquid crystal panel and is located in the central region of the liquid crystal panel opening area of the linewidth is not equal. The technical scheme of uniform mask by gravity bending, large exposure machine intensity and the distance distribution of large developing machine especially inhomogeneity of external factors such as the tilt type developing machine itself on the shading pattern line width uniformity influenced by the correction, make use of the mask is formed on the shading pattern filter plate the technical proposal, the linewidth is basically the same shading pattern of the central region and the surrounding area.

【技术实现步骤摘要】
制造滤光板用的掩模板、滤光板的形成方法、显示装置
本专利技术涉及液晶显示器领域,尤其涉及一种掩模板、滤光板的形成方法、显示装置。
技术介绍
近年来,随着信息通讯领域的迅速发展,对各种类型的显示设备的需求越来越大。目前主流的显示装置主要有:液晶显示器(LCD),等离子体显示器(PDP),电致发光显示器(ELD)和真空荧光显示器(VFD)等。由于液晶显示装置具有:轻、薄、体积小、耗电小、辐射低等优点,被广泛应用于各种数据处理设备中,例如电视、笔记本电脑、移动电话、个人数字助理等。液晶显示器主要包括:TFT阵列基板、彩色滤光板、TFT阵列基板和彩色滤光板之间的液晶层。图1为现有技术的液晶显示器中彩色滤光板的剖面结构示意图,参考图1,目前用于液晶显示器中彩色滤光板10主要包括:透明玻璃基板11、遮光图案层(BM层)12、彩色像素层(RBG层)13、公共电极层(ITO层)14、间隔柱(PhotoSpacer,PS)15。随着液晶显示器生产行业的发展,大尺寸基板投入应用,目前最大尺寸为10代线。随着基板的尺寸逐步增大,在彩色滤光板生产领域普遍使用的近接式曝光机所需要的曝光掩模板(Mask)、曝光平台以及显影机的尺寸也随之增大。滤光板和TFT阵列基板进行贴合后制成液晶显示器时,要求滤光板遮光图案面内分布呈现高度均匀性,否则由于遮光图案线宽波动出现漏光以及漏黑的现象,最终造成液晶显示器件报废,这种情况随着基板尺寸、掩模板尺寸和产线尺寸增大而发生的几率迅速增加,如大尺寸掩模板曝光时由于重力发生的弯曲,大型曝光机本身的光强和间距分布均匀性,大型显影机特别是倾斜式显影机本身的不均匀性都成为了影响滤光板遮光图案线宽的因素。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是现有技术的液晶显示装置在基板尺寸越来越大时,容易出现漏光以及漏黑的现象。为解决上述问题,本专利技术提供一种制造液晶面板用滤光板时使用的掩模板,包括:基板,所述基板的边长大于所述滤光板的边长;位于所述基板上的图形层,所述图形层包含形成至少3个液晶面板的滤光板上的遮光图案的开口区,以及开口区界定出的遮光区;所述图形层分为中央区域和周边区域,位于周边区域至少1个液晶面板的开口区的线宽与位于中央区域液晶面板的开口区的线宽不相等。可选的,所述位于周边区域至少1个液晶面板的开口区线宽大于中央区域液晶面板的开口区的线宽。可选的,所述位于周边区域至少1个液晶面板的开口区线宽小于中央区域液晶面板的开口区的线宽。可选的,所述周边区域每一个液晶面板的开口区线宽与中央区域液晶面板的开口区的线宽均不同。可选的,每一个液晶面板的图形层完全位于所述中央区域或所述周边区域。可选的,位于周边区域的液晶面板的开口区与位于中央区域液晶面板的开口区的线宽差为0.3微米至1.5微米。本专利技术还提供一种形成滤光板的方法,包括:提供基底;在所述基底上形成遮光层;利用所述的掩模板对所述遮光层进行曝光,形成遮光图案。可选的,所述曝光采用的曝光机为近接式曝光机或者投射式曝光机。可选的,形成遮光图案后,还包括:在所述遮光图案上形成滤光层、公共电极层;或者,在形成遮光图案之前,还包括:在所述基底上形成滤光层、公共电极层;或者,在形成遮光图案之前,在所述基底上形成滤光层,在形成遮光图案之后,在遮光图案上形成公共电极层;或者,在形成遮光图案之前,在所述基底上形成公共电极层,在形成遮光图案之后,在遮光图案上形成滤光层。本专利技术还提供一种显示装置,包括:利用所述方法形成的滤光板。与现有技术相比,本专利技术具有以下优点:本技术方案的掩模板周边区域至少1个液晶面板开口区的线宽和中央区域液晶面板开口区的线宽不相等。当重力作用造成中央区域弯曲时,设计成中央区域液晶面板开口区的线宽大于周边区域液晶面板开口区的线宽;当重力作用造成周边区域弯曲时,设计成中央区域液晶面板开口区的线宽小于周边区域液晶面板开口区的线宽。这样相对于现有技术中,中央区域和周边区域中开口区的线宽相等而言,对掩模板由于重力作用而弯曲对遮光图案造成的影响进行校正,使利用本技术方案的掩模板形成遮光图案时,中央区域和周边区域的遮光图案的线宽基本相等,从而解决现有技术中液晶显示装置在基板尺寸越来越大时,容易出现漏光以及漏黑的现象。或者,由于基板尺寸增大,当大型曝光机由于其自身曝光光强、曝光间距分布不均匀性严重影响到滤光板的遮光图案线宽时,在设计掩模板时,可以根据需要,以中央区域的液晶面板为基准,调整周边区域液晶面板开口区的线宽,对由于曝光机自身不均匀性对遮光图案造成的影响进行校正,使利用本技术方案的掩模板形成遮光图案时,中央区域和周边区域的遮光图案的线宽基本相等,从而解决现有技术中液晶显示装置在基板尺寸越来越大时,容易出现漏光以及漏黑的现象。或者,由于大型显影机,特别是倾斜式显影机,由于其自身喷嘴设置,显影压力等分布不均匀性严重影响到滤光板的遮光图案线宽时,可以根据需要,以中央区域的液晶面板为基准,调整周边区域液晶面板开口区的线宽,对由于大型显影机分布不均匀性对遮光图案造成的影响进行校正,使利用本技术方案的掩模板形成遮光图案时,中央区域和周边区域的遮光图案的线宽基本相等,从而解决现有技术中液晶显示装置在基板尺寸越来越大时,容易出现漏光以及漏黑的现象。本技术方案的滤光板采用本专利技术的掩模板形成遮光图案时,不会出现由于以上出现以上情况而造成遮光图案线宽变化的问题。本技术方案的显示装置,由于滤光板上遮光图案线宽没有发生变化,因此显示装置不会出现漏光、漏黑现象。附图说明图1为现有技术中的液晶显示器中的彩色滤光板的剖面结构示意图;图2为利用掩模板对遮光层进行曝光的示意图;图3为本专利技术具体实施例的掩模板的平面示意图;图4为图3所示的掩模板在A-A、B-B、C-C方向的剖面结构示意图。具体实施方式专利技术人经过分析发现,造成现有技术中遮光图案线宽波动出现漏光以及漏黑的现象的原因主要为:如大尺寸掩模板曝光时由于重力发生的弯曲,大型曝光机本身的光强和间距分布不均匀性,大型显影机特别是倾斜式显影机本身的不均匀性。下面以大尺寸掩模板曝光时由于重力发生的弯曲为例详述本专利技术。图2为利用掩模板对遮光层进行曝光的示意图,参考图2,现有技术中,形成滤光板上的遮光图案的方法通常为:首先将液态黑色矩阵(BM)光阻涂布在玻璃基板11表面形成遮光层;然后将光源20发出的光线经掩模板30后照射玻璃基板11上的遮光层,对遮光层进行曝光,之后再经过显影及烘烤过程形成遮光图案12。现有技术中,整个掩模板上的开口区的线宽相等,遮光区的线宽相等。而,当曝光掩模板被安置在曝光机上进行曝光时,掩模板四角被支撑架固定。此时,因为掩模板的重量,使得掩模板中央区域产生弯曲。掩模板的重量与尺寸成正比,掩模板的尺寸越大,此种弯曲就越明显。随着液晶显示器生产行业的发展,大尺寸基板投入应用,尽管现有技术对曝光机进行了改进,采用在掩模板中央加设吸真空的方式以减少弯曲,但在G5以上等产线中,此种弯曲仍不能完全消除,参考图2,并会造成滤光板周边液晶面板遮光图案的线宽b2与中央液晶面板遮光图案的线宽b1不相等,滤光板和TFT阵列基板进行贴合后制成液晶显示器后,经常由于遮光图案线宽波动出现漏光以及漏黑的现象,最终造成液晶显示器件报废,这种情况随着基板尺寸增大而发生的几率迅速增加本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种制造液晶显示装置用滤光板时使用的掩模板,其特征在于,包括:基板,所述基板的边长大于所述滤光板的边长;位于所述基板上的图形层,所述图形层包含开口区以及开口区界定出的遮光区,用来形成至少3个液晶面板的滤光板上的遮光图案;对应所有液晶面板的所述图形层分为中央区域和周边区域,位于周边区域至少1个液晶面板的开口区的线宽与位于中央区域液晶面板开口区的线宽不相等。

【技术特征摘要】
1.一种制造液晶显示装置用滤光板时使用的掩模板,其特征在于,包括:基板,所述基板的边长大于所述滤光板的边长;位于所述基板上的图形层,所述图形层包含开口区以及开口区界定出的遮光区,用来形成至少3个液晶面板的滤光板上的遮光图案;对应所有液晶面板的所述图形层分为中央区域和周边区域,位于周边区域至少1个液晶面板的开口区的线宽与位于中央区域液晶面板开口区的线宽不相等。2.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述位于周边区域至少1个液晶面板的开口区线宽大于中央区域液晶面板的开口区的线宽。3.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述位于周边区域至少1个液晶面板的开口区线宽小于中央区域液晶面板的开口区的线宽。4.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述周边区域每一个液晶面板的开口区线宽与中央区域液晶面板的开口区的线宽均不同。5.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,中央区域的液晶面板的图形层完全位于所述中央区域,周边区域的液晶面板的图形层完全位于所述周边区域。6....

【专利技术属性】
技术研发人员:张莉陈颖明王菁晶唐文静
申请(专利权)人:上海仪电显示材料有限公司
类型:发明
国别省市:上海,31

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