The utility model relates to a reaction device for chemical vapor deposition, comprising a reaction cavity shell and an upper cover of the reaction chamber, wherein the bottom of the reaction chamber is buckled with an isolating cover, and the reaction chamber is divided into two spaces through an isolation cover. The present invention through the shield effect reaction chamber is divided into two chambers, the reaction gas and the heating element is positioned in a chamber, a heating resistance wire in another chamber, the resistance wire and the reactive gas separated from the reaction gas so as to avoid the effects of resistance wire resistance wire and the life of the space inside the cover, isolation in connection with an inert gas inlet and an inert gas through the exhaust port, both with a dynamic airflow.
【技术实现步骤摘要】
一种化学气相沉积用的反应装置
本专利技术涉及一种薄膜材料领域,尤其是涉及一种化学气相沉积用的反应装置。
技术介绍
随着微电子与薄膜材料领域的发展,CVD法薄膜制备技术已经成为一种日趋流行的技术。按照CVD设备供气方式进行分类,CVD设备可以分为水平式和垂直式两种。水平式即气体流动方向和样品表面水平,垂直式的气体流动方式和样品表面垂直。垂直式由于其供气方式使气体被利用的效率更好,升温降温速度更快,因此垂直式CVD目前日益得到科技人员的重视。垂直式CVD中有一类应用最为广泛,即加热丝内置式CVD,即加热丝位于反应腔的内部。目前使用的加热丝内置式垂直CVD,多通过钨、钼、铼等金属或者合金加热丝进行加热。现有技术的缺点是,CVD生长过程中某些气体会对金属或者金属合金有损伤作用。例如生长气体甲烷,在高温生长过程中,会将碳掺入金属中,使金属机械性能下降,影响使用寿命。CVD过程大部分情况需要使用真空氛围,真空高温下,加速了金属原子的升华,不仅降低了加热丝的使用寿命,同时有可能在薄膜材料中引入金属原子,降低了材料生长的质量。加热丝如不外加任何装置,由于反应室内气流的流动和加热丝的热辐射,会使反应室内温度场较为复杂,降低所生长材料的均匀度。
技术实现思路
本专利技术的目的是为解决现有技术中电阻丝容易被反应气体损伤破坏的问题,提供一种化学气相沉积用的反应装置。本专利技术为解决上述技术问题的不足,所采用的技术方案是:一种化学气相沉积用的反应装置,包括反应腔壳体和反应腔上盖,反应腔上盖盖设在反应腔壳体上构成密封的反应腔,反应腔上盖上设置有为反应腔供入反应气体的反应腔进气口,反应腔壳 ...
【技术保护点】
一种化学气相沉积用的反应装置,包括反应腔壳体和反应腔上盖(107),反应腔上盖(107)盖设在反应腔壳体上构成密封的反应腔,反应腔上盖(107)上设置有为反应腔供入反应气体的反应腔进气口(108),反应腔壳体上加工有反应腔出气口(106),其特征在于:所述的反应腔底部倒扣有隔离罩(102)通过隔离罩(102)将反应腔分成两个空间,隔离罩(102)内部空间中设置有电极柱(104),电极柱(104)上连接有电阻丝(103),隔离罩(102)内部空间中连接有惰性气体进气口(105),隔离罩(102)侧壁上开设有惰性气体排气口(109),通过惰性气体进气口(105)和惰性气体排气口(109)配合为隔离罩(102)内部空间中通入动态流动的惰性气体,以便于通过动态流动的惰性气体填充隔离罩内部空间,并通过动态流动的惰性气体阻止反应腔内气体进入隔离罩内部空间中与电阻丝(103)反应,通过电极柱(104)与电阻丝(103)相互配合的方式加热隔离罩内部空间中的惰性气体,加热后的电阻丝(103)配合隔离罩内部空间中加热后的惰性气体构成一个热源,隔离罩(102)远离反应腔底部的一端上支撑有导热垫(101),待 ...
【技术特征摘要】
1.一种化学气相沉积用的反应装置,包括反应腔壳体和反应腔上盖(107),反应腔上盖(107)盖设在反应腔壳体上构成密封的反应腔,反应腔上盖(107)上设置有为反应腔供入反应气体的反应腔进气口(108),反应腔壳体上加工有反应腔出气口(106),其特征在于:所述的反应腔底部倒扣有隔离罩(102)通过隔离罩(102)将反应腔分成两个空间,隔离罩(102)内部空间中设置有电极柱(104),电极柱(104)上连接有电阻丝(103),隔离罩(102)内部空间中连接有惰性气体进气口(105),隔离罩(102)侧壁上开设有惰性气体排气口(109),通过惰性气体进气口(105)和惰性气体排气口(109)配合为隔离罩(102)内部空间中通入动态流动的惰性气体,以便于通过动态流动的惰性气体填充隔离罩内部空间,并通过动态流动的惰性气体阻止反应腔内气体进入隔离罩内部空间中与电阻丝(103)反应,通过电极柱(104)与电阻丝(103)相互配合的方...
【专利技术属性】
技术研发人员:许坤,曾凡光,麻华丽,杜银霄,付林杰,霍海波,陈雷明,王玉梅,李艳,
申请(专利权)人:郑州航空工业管理学院,
类型:发明
国别省市:河南,41
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