用于真空沉积配置的辊装置、具有辊的真空沉积配置及用于操作辊的方法制造方法及图纸

描述了一种用于在基板(110；640)上沉积材料的沉积配置(100；600)。该沉积配置包括：真空腔室(120)；辊装置(200；300；400；500；604)，该辊装置位于所述真空腔室(120)内；以及电加热装置(61；220；320；420；520)，该电加热装置位于该辊装置(200；300；400；500；604)内，其中该加热装置包括第一末端(250)和第二末端(260)，并且其中该加热装置被保持在该第一末端和该第二末端处。此外，描述了一种用于在真空沉积配置中加热基板的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的实施例涉及一种具有辊装置的真空沉积设备。本专利技术的实施例具体地涉及一种具有用于涂布柔性基板的辊配置的真空沉积设备，尤其涉及用于在真空沉积工艺期间引导柔性基板的导辊配置。本专利技术的实施例还涉及一种用于在真空沉积配置中操作辊配置的方法。
技术介绍
在包装产业、半导体产业和其他产业中对柔性基板(诸如塑料薄膜或箔)的处理有很高需求。处理可由以下步骤组成：用所需材料(诸如金属(具体地铝)、半导体以及电介质材料)涂布柔性基板，蚀刻，以及在用于所需应用的基板上进行的其它处理步骤。执行这个任务的系统通常包括处理滚筒(例如，圆柱形辊)，所述处理滚筒耦接到处理系统以用于传送基板，并且在所述处理滚筒上处理基板的至少一部分。另外的辊装置可帮助引导和指向待在沉积腔室中涂布的基板。通常，蒸发工艺(例如热蒸发工艺)可被用于沉积可被金属化到柔性基板上的金属薄层。卷对卷(Roll-to-Roll)沉积系统也正在经历显示器行业和光伏(PY)行业中需求的强劲增长。例如，触控面板元件、柔性显示器和柔性PY模块导致对用于在卷对卷涂布机中尤其以低制造成本沉积合适层的需求不断增长。待涂布的柔性基板(诸如用合成物质如PET、HC-PET、TaC等等制造出的基板)可包括相当量的湿气。在高真空条件下的涂布工艺期间湿气的除气对层性质(诸如层粘附性、光学均匀性、TCO电阻率以及其他期望的层品质)有消极影响。一种用于在沉积前对基板除气的方法为使用加热的导辊。在已知系统中，使用由传热介质(诸如油或水/醇类混合物)加热的导辊。此类辊的缺点为其需要真空紧密密封用于使传热介质经由管道的旋转馈通件。这导致了高摩擦力问题。此外，需要用于水/醇类混合物或油的专门加热和冷却装置来调节温度。鉴于上述，本专利技术的目的为提供一种包括辊装置的沉积配置及一种用于在真空沉积配置中操作辊装置的方法，以克服本领域中的这些问题中的至少一些。
技术实现思路
鉴于上述，提供了根据独立权利要求的辊配置、真空沉积配置以及用于在真空沉积配置中加热基板的方法。本专利技术的其他方面、优点和特征从从属权利要求、说明书以及附图是显而易见的。根据一个实施例，提供了一种用于将材料沉积在基板上的沉积配置。该沉积配置包括：真空腔室；位于所述真空腔室内的辊装置；以及位于所述辊装置内的电加热装置，其中所述加热装置包括第一末端和第二末端，并且其中所述加热装置被保持在第一末端和第二末端处。根据又一实施例，提供了用于在真空沉积配置中加热基板的方法。所述方法包括：使用真空腔室中的辊装置在所述真空腔室中引导基板；在电加热装置的两个末端处将电加热装置保持在辊装置中；以及由辊装置中的加热装置电加热所述辊装置。各实施例还针对用于执行所公开方法的设备并且包括用于执行每个所描述的方法步骤的设备零件。这些方法步骤可经由硬件部件、由适当软件编程的计算机、这两者的任意组合或以任何其他方式来执行。此外，根据本专利技术的实施例还针对所描述的设备操作的方法。所述方法包括用于执行所述设备的每一功能的方法步骤。附图说明为了可详细理解本专利技术的以上详述特征的方式，可通过参照实施例对简要概述于上的本专利技术进行更具体的描述。附图涉及本专利技术的实施例并且描述如下：图1示出了根据本文所描述的实施例的沉积配置的示意图；图2示出了根据本文所描述的实施例的辊装置和加热装置的示意图；图3a示出了根据本文所描述的实施例的辊装置和加热装置的示意性局部视图；图3b示出了根据本文所描述的实施例的辊装置和加热装置的示意性局部视图；图4示出了根据本文所描述的实施例的辊装置和加热装置的示意图；图5示出了图4中所示的辊装置和加热装置的示意性截面图；图6示出了图5的辊装置和加热装置的示意性横截面图；图7示出了根据本文所描述的实施例的加热装置的示意性详细横截面图；图8示出了根据本文所描述的实施例的辊装置和加热装置的示意图；图9示出了根据本文所描述的实施例的辊装置和加热装置的示意图；图10示出了根据本文所描述的实施例的沉积配置的示意图；图11示出了根据本文所描述的实施例的用于加热基板的方法的流程图。具体实施方式现将详细参照本专利技术的各种实施例，所述实施例的一个或多个示例图示于诸图中。在以下附图的描述中，相同附图标记代表相同部件。一般而言，仅描述了各实施方式的差异。各示例以解释说明本专利技术的方式提供，而并非意欲限制本专利技术。此外，示出或描述为一个实施例的一部分的特征可用于其它实施例或与其它实施例一起使用以产生又一实施例。所述描述意欲包括这种修改和变型。此外，在以下描述中，辊装置可被理解为以下这种装置，所述装置提供在沉积配置(诸如沉积设备或者沉积腔室)中存在基板期间基板(或者基板的一部分)可接触的表面。辊装置的至少一部分可包括类圆形形状以用于接触基板。在一些实施例中，辊装置可具有基本上圆柱形的形状。基本上圆柱形的形状可围绕直的纵轴形成或者可围绕弯曲的纵轴形成。根据一些实施例，如本文所描述的辊装置可被适配成与柔性基板接触。如本文所提及的辊装置可为导辊，所述导辊适配成在涂布基板(或者涂布基板的一部分)时或者在沉积配置中存在基板时引导基板；展阔(spreader)辊，所述展阔辊适配用于给待涂布的基板提供定义的张力；偏转辊，用于根据定义的行进路径使基板偏转；处理辊，所述处理辊用于在沉积期间支持基板，诸如涂布辊或者涂布滚筒；调整辊等等。如本文所描述的辊装置可包含金属。在一个实施例中，待与基板接触的辊装置的表面可被适配用于相应的待涂布的基板。如本文所描述的电加热装置应被理解为用于加热辊装置的加热装置，所述加热装置布置在所述辊装置中。根据一些实施例，电加热装置可为电磁地加热表面的加热装置。例如，加热装置可为辐射加热装置，诸如红外线加热装置、感应加热装置等等。根据一些实施例，电加热装置为非接触式加热装置。非接触式加热装置可能够在不与辊装置或者辊装置的表面接触的情况下，尤其是在不出于加热目的与其接触的情况下，使辊装置或者辊装置的表面达到定义温度。应当理解的是，加热装置可仍然具有与辊的限定的接触面积，例如用于在辊装置中被支撑。在一些实施例中，辊装置可具有将由加热装置加热的特定加热长度并且加热装置在所述加热长度上不与辊装置接触。根据一些实施例，加热装置可提供两个末端并且被适配成被支撑、保持或固定在这两个末端处。在一个实施例中，加热装置可具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在基板(110；640)上沉积材料的沉积配置(100；600)，包括：真空腔室(120)；辊装置(200；300；400；500；604)，所述辊装置位于所述真空腔室(120)内；以及电加热装置(61；220；320；420；520)，所述电加热装置位于所述辊装置(200；300；400；500；604)内，其中所述加热装置包括第一末端(250)和第二末端(260)，并且其中所述加热装置被保持在所述第一末端和所述第二末端处。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.10.18 EP 13189388.51.一种用于在基板(110；640)上沉积材料的沉积配置(100；600)，包
括：
真空腔室(120)；
辊装置(200；300；400；500；604)，所述辊装置位于所述真空腔室(120)
内；以及
电加热装置(61；220；320；420；520)，所述电加热装置位于所述辊装
置(200；300；400；500；604)内，其中所述加热装置包括第一末端(250)
和第二末端(260)，并且其中所述加热装置被保持在所述第一末端和所述第
二末端处。
2.根据权利要求1所述的沉积配置，其特征在于，所述加热装置(61；220；
320；420；520)在所述真空腔室(120)中被固定在所述第一末端(250)和
所述第二末端(260)处。
3.根据权利要求1至2中任一项所述的沉积配置，其特征在于，所述加热
装置(61；220；320；420；520)在所述第一末端(250)和所述第二末端(260)
中的每一者处由保持装置(271；272)保持，并且其中所述辊装置(200；300；
400；500；604)被可旋转地提供在所述保持装置(271；272)上，或者其中
所述加热装置(61；220；320；420；520)和所述辊装置(200；300；400；
500；604)彼此独立地支撑在所述真空腔室(120)中。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的沉积配置，其特征在于，所述辊装
置(200；300；400；500；604)被被动驱动，具体地其中所述辊装置仅由所
述基板(110；640)驱动。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的沉积配置，其特征在于，所述沉积
配置(100；600)进一步包括真空产生配置，所述真空产生配置用于在所述真

\t空腔室(120)中所述辊装置外以及在所述辊装置(61；220；320；420；520)
内提供相同的真空条件。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的沉积配置，其特征在于，所述加热
装置(61；220；320；420；520)被适配成在真空沉积期间将所述加热装置的
外表面提供为基本上处于与所述辊装置(200；300；400；500；604)相同的
电势，具体地其中所述加热装置(61；220；320；420；520)的外表面的电势
从所述辊装置(200；300；400；500；604)的电势偏离小于所述辊装置的电
势的15％。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的沉积配置，其特征在于，所述辊装
置(200；300；400；500；604)和所述加热装置(61；220；320；420；520)
的电势为地电势。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的沉积配置，其特征在于，所述加热
装置(61；220；320；420；520)被适配成在所述沉积配置(100；600)中的
真空沉积期间在所述加热装置的至少一部分内具有基本上大气...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·索尔，J·亨里奇，T·德皮施，D·瓦格纳，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US