显示基板及制备方法、显示装置制造方法及图纸

本公开提供了一种显示基板及制备方法、显示装置，该制备方法包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上形成像素界定层；对所述像素界定层进行氧化处理，其中，所述像素界定层的远离所述衬底基板的一侧被部分氧化，由此使得所述像素界定层包括靠近所述衬底基板的主体层和远离所述衬底基板的氧化层；对所述像素界定层进行固化成型处理，并对所述像素界定层进行构图工艺以形成像素界定层图案。像素界定层图案通过一次成膜工艺和构图工艺形成，简化了其制备工艺并降低了制备成本，且形成的像素界定层图案内部不存在界面问题，可提高像素界定层图案结构的稳定性。

Display substrate, method for producing the same, and display device

The invention provides a display substrate and a preparation method thereof, display device, the preparation method comprises: providing a substrate; the pixel defining layer is formed on the substrate; oxidation treatment of the pixel defining layer wherein the pixel defining layer on one side of the substrate from the substrate is partial oxidation, thus making the pixel defining layer includes a body layer near the substrate and the oxide layer from the substrate; for curing treatment on the pixel defining layer, and the pixel defining layer to form a layer of pattern definition imaging element composition process. The pixel defining layer pattern through a film forming process and patterning process, simplifies the preparation process and the manufacturing cost is reduced, and the formation of pixel definition layer pattern does not exist within the interface, can improve the stability of the structure of the pixel defining layer pattern.

【技术实现步骤摘要】
显示基板及制备方法、显示装置
本公开的实施例涉及一种显示基板及制备方法、显示装置。
技术介绍
在使用喷墨打印制备显示基板(例如AMOLED显示基板)的过程中，像素界定层用来界定像素的形状并储存墨水。为防止相邻像素之间的墨水混合，像素界定层表面必须有较强的疏液性质，同时要使微量偏移的下落墨滴(例如滴落在像素内边缘上的墨滴)滚落到像素坑内，则像素界定层需要设置为下层亲液、上层疏液的结构。传统的像素界定层制备需要两步,步骤繁琐，且需要投入不同的设备，成本较高。例如，一种有机薄膜电致发光器件制备方法中，像素界定层(PDL)采用两层浸润性不同的材料形成，用于使有机电致发光材料的溶液精准地喷墨打印和形成厚度均一的有机电致发光材料薄膜；在制备像素界定层时需要先做无机亲液性材料层，在无机亲液性材料层上制备有机疏液性材料层，再将两层材料通过构图工艺制成像素界定层。又例如，一种在基底上形成两层结构的像素界定层的方法通过使用等离子体处理，使第一层(下层)具有高表面能(亲液性材料)而第二层(上层)具有低表面能(疏液性材料)，虽然该方法也能满足精确地喷墨打印和薄膜均一性的需求，如上述方法一样，所得到的像素界定层的两层结构(亲液部分和疏液部分)之间存在界面问题，彼此间易发生分层。
技术实现思路
本公开至少一实施例提供了一种显示基板及制备方法、显示装置。在本公开的实施例中，在显示基板的制备过程中，显示基板所包括的像素界定层通过一次成膜由亲液材料形成，通过对其表层进行氧化处理，被氧化部分转变为疏液材料，如此可简化像素界定层及相应显示基板、显示装置的制备工艺并降低成本，且此方法形成的像素界定层的内部不存在界面问题，不易发生分层，可提高像素界定层的稳定性。本公开至少一实施例提供一种显示基板，其包括：衬底基板；像素界定层图案，其设置于所述衬底基板上，其中，所述像素界定层图案包括靠近所述衬底基板的本体层和远离所述衬底基板的氧化层，所述本体层和所述氧化层通过对制备所述像素界定层图案的材料层进行部分氧化得到。例如，在本公开实施例提供的显示基板中，制备所述像素界定层图案的材料包括硅氧烷类有机材料，所述硅氧烷类有机材料包括羟基化的聚二甲基硅氧烷或聚苯乙烯嵌段的聚二甲基硅氧烷。例如，在本公开实施例提供的显示基板中，所述像素界定层图案被氧化部分的厚度为像素界定层总厚度的30～80％。例如，本公开实施例提供的显示基板还可以包括设置于所述像素界定层图案所限定的像素区域中的有机发光器件。例如，在本公开实施例提供的显示基板中，所述有机发光器件包括位于所述衬底基板上的第一电极、设置在所述第一电极上的有机发光层和设置在所述有机发光层上的第二电极。本公开至少一实施例还提供一种显示装置，包括上述任一的显示基板。本公开至少一实施例还提供一种显示基板的制备方法，包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上形成像素界定层；对所述像素界定层进行氧化处理，其中，所述像素界定层的远离所述衬底基板的一侧被部分氧化，由此使得所述像素界定层包括靠近所述衬底基板的主体层和远离所述衬底基板的氧化层；对所述像素界定层进行固化成型处理，并对所述像素界定层进行构图工艺以形成像素界定层图案。例如，在本公开实施例提供的制备方法中，所述像素界定层图案的材料包括硅氧烷类有机材料，所述硅氧烷类有机材料包括羟基化的聚二甲基硅氧烷或聚苯乙烯嵌段的聚二甲基硅氧烷。例如，在本公开实施例提供的制备方法中，使用紫外线或臭氧对所述像素界定层进行部分氧化。例如，在本公开实施例提供的制备方法中，所述像素界定层图案被氧化部分的厚度为像素界定层总厚度的30～80％。例如，在本公开实施例提供的制备方法中，对所述像素界定层进行固化成型处理的温度范围为25～100℃。例如，在本公开实施例提供的制备方法中，对所述像素界定层进行固化成型处理的时间范围为0.5～6小时。例如，在本公开实施例提供的制备方法中，在所述像素界定层图案所限定的像素区域中形成有机发光器件。例如，在本公开实施例提供的制备方法中，形成所述有机发光器件可以包括：在所述衬底基板上形成第一电极；在所述第一电极上形成有机发光层；和在所述有机发光层上形成第二电极。例如，在本公开实施例提供的制备方法中，使用喷墨打印形成所述有机发光层。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本专利技术的一些实施例，而非对本专利技术的限制。图1为本公开一实施例提供的一种显示基板结构示意图；图2a-2g为本公开一实施例提供的一种显示基板制备方法的过程图。附图标记：101-衬底基板；102-第一电极；103-像素界定层；1031-亲液层；1032-疏液层；104-像素界定层图案；1041-本体层；1042-氧化层；105-有机发光层；106-第二电极；107-像素电路层。具体实施方式为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。在当前的显示基板制造过程中，两层结构的像素界定层制备要通过两步完成，步骤繁琐，需要投入不同的设备，尤其是制备无机亲性材料时要用到等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺，所使用的设备昂贵。此外，由于有机材料和无机材料之间存在界面问题，彼此间易发生分层。本公开的实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置。该显示基板包括衬底基板和像素界定层图案，其中，该像素界定层通过改性的硅氧烷类材料例如羟基化的PDMS(或聚苯乙烯嵌段的聚二甲基硅氧烷及其衍生物等)形成，再将其表面进行氧化处理，在进行氧化处理方向的一侧形成一层具有疏液性质的薄膜层，例如二氧化硅薄膜层，像素界定层的表层被氧化处理部分转变为具有疏液性质的氧化层，靠近衬底基板的未氧化部分仍然为具有亲液性质的本体层，然后对所形成的像素界定层构图得到像素界定层图案，通过该像素界定层图案进行显示基板的后续制备工艺步骤。从而可以简单的工艺制备像素界定层、显示基板和显示装置。本公开实施例提供了一种显示基板，图1为该显示基板结构示意图。例如，如图1所示，该显示基板包括衬底基板101和形成在衬底基板101之上的像素界定层图案104。该像素界定层图案104可由亲液的材料层通过一次成膜以及构图工艺形成，制备工艺简单；使用具有亲液性质的材料制备了像素界定层之后本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板，包括：衬底基板；像素界定层图案，其设置于所述衬底基板上，其中，所述像素界定层图案包括靠近所述衬底基板的本体层和远离所述衬底基板的氧化层，所述本体层和所述氧化层通过对制备所述像素界定层图案的材料层进行部分氧化得到。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括：衬底基板；像素界定层图案，其设置于所述衬底基板上，其中，所述像素界定层图案包括靠近所述衬底基板的本体层和远离所述衬底基板的氧化层，所述本体层和所述氧化层通过对制备所述像素界定层图案的材料层进行部分氧化得到。2.根据权利要求1所述的显示基板，其中，制备所述像素界定层图案的材料包括硅氧烷类有机材料，所述硅氧烷类有机材料包括羟基化的聚二甲基硅氧烷或聚苯乙烯嵌段的聚二甲基硅氧烷。3.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述像素界定层图案被氧化部分的厚度为像素界定层总厚度的30～80％。4.根据权利要求1-3任一所述的显示基板，还包括设置于所述像素界定层图案所限定的像素区域中的有机发光器件。5.根据权利要求4所述的显示基板，其中，所述有机发光器件包括位于所述衬底基板上的第一电极、设置在所述第一电极上的有机发光层和设置在所述有机发光层上的第二电极。6.一种显示装置，包括权利要求1-5中任一项所述的显示基板。7.一种显示基板的制备方法，包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上形成像素界定层；对所述像素界定层进行氧化处理，其中，所述像素界定层的远离所述衬底基板的一侧被部分氧化，由此使得所述像素界定层包括靠近所述衬底基板的主体层和...

【专利技术属性】
技术研发人员：程磊磊，周斌，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11