高折射组合物、抗反射膜及制备方法技术

本发明专利技术提供高折射组合物，上述高折射组合物包含：网状结构的含金属有机低聚硅氧烷，一部分硅被金属取代，从而含有金属；以及光固化性丙烯酸酯类化合物，上述金属包含选自由钛、锆以及它们的组合组成的组中的至少一个。并且，本发明专利技术提供抗反射膜及制备方法，上述抗反射膜包括通过使上述高折射组合物光固化而形成的高折射层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及高折射组合物、抗反射膜及制备方法。
技术介绍
在显示器暴露于各种照明及自然光等的外光的情况下，因反射光而无法肉眼看清在显示器的内部所形成的图像，由此，因对比度(contrast)的下降，不仅很难看清画面，还会引发眼睛疲劳或头疼。由于这种原因，对抗反射的重视逐渐增加。在以往的抗反射膜中，在透明基材上配置抗反射层，这种抗反射层具有在透明基材上依次层叠硬涂层、折射率层及低折射率层的三层结构。并且，通常，高折射层通过在苯乙烯类、环氧类等的粘结剂树脂包含高价的金属氧化物微粒子而成，但由于金属氧化物微粒子的费用高，因此制备费用也随之上升，而且，低折射层通过在氟系列的丙烯类树脂等包含二氧化硅粒子而成，但存在二氧化硅粒子之间的相容性差的问题。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在本专利技术的一实例中，提供如下的高折射组合物，即，上述高折射组合物可实现整体上均匀的实现高折射率，从而具有均匀的抗反射性能及优秀的经济性。本专利技术的再一实例中，提供实现均匀的抗反射性能及优秀的经济性的抗反射膜。本专利技术的另一实例中，提供上述抗反射膜的制备方法。技术方案在本专利技术的一实例中，提供高折射组合物，上述高折射组合物包含：网状结构的含金属有机低聚硅氧烷，一部分硅被金属取代，从而含有金属；以及光固化性丙烯酸酯类化合物，上述金属包含选自由钛、锆及它们的组合组成的组中的至少一个。以100重量份的上述光固化性(甲基)丙烯酸酯类化合物为基准，上述网状结构的含金属有机低聚硅氧烷的含量可以为约10重量份至约1000重量份。上述网状结构的含金属有机低聚硅氧烷中的硅与金属的原子个数之比可以为约1：0.03至约1：5.90。上述含金属有机低聚硅氧烷的网状结构可包括一部分因取代基而被开放的结构。上述含金属有机低聚硅氧烷中的上述取代基可包含碳数量为4个～18个的(甲基)丙烯酸酯类官能基。上述含金属有机低聚硅氧烷中的上述取代基还可包含选自由碳数量为1个～10个的烷氧基、碳数量为1个～18个的烷基、碳数量为2个～10个的烯基、碳数量为6个～18个的芳基、碳数量为3个～8个的丙酮基(acetonategroup)、卤化物基(halidegroup)及它们的组合组成的组中的至少一个。上述含金属有机低聚硅氧烷可以为包含下述化学式1的钛化合物、下述化学式2的锆化合物或它们的混合物以及下述化学式3的硅烷化合物的第一组合物的反应产物。化学式1：R1xTi(OR2)4-x化学式2：R3yZr(OR4)4-y化学式3：R5zSi(OR6)4-z在上述化学式1至化学式3中，上述R1、R3、R5分别独立地为碳数量为1个～10个的烷氧基、碳数量为1个～18个的烷基、碳数量为2个～10个的烯基、碳数量为4个～18个的(甲基)丙烯酸酯基、碳数量为6个～18个的芳基、碳数量为3个～8个的丙酮基或卤化物基，上述R2、R4、R6分别独立地为H或碳数量为1个～6个的烷基，上述x、y、z分别独立地为0、1或2。以100重量份的上述化学式3的硅烷化合物为基准，将上述化学式1的钛化合物的含量和上述化学式2的锆化合物的含量相加的总含量可为约10重量份至约1000重量份。上述光固化性丙烯酸酯类化合物可包含选自由丙烯酸酯类单体、低聚物、树脂及它们的组合组成的组中的至少一个。在本专利技术的再一实例中，提供包括通过使上述高折射组合物光固化而形成的高折射层的抗反射膜。本专利技术的抗反射膜还可包括低折射层，上述低折射层形成于上述高折射层的上部，通过使低折射组合物固化而成，上述低折射组合物包含：作为粘结剂具有网状结构的含氟有机低聚硅氧烷；以及空心二氧化硅粒子。以100重量份的上述空心二氧化硅粒子为基准，作为粘结剂的上述网状结构的含氟有机低聚硅氧烷的含量可为约10重量份至约120重量份。上述含氟有机低聚硅氧烷可借助化学键附着于上述空心二氧化硅粒子的表面。上述含氟有机低聚硅氧烷的网状结构可包括一部分因取代基而被开放的结构。上述含氟有机低聚硅氧烷中的上述取代基可包含碳数量为3个～18个的氟烷基、碳数量为4个～18个的(甲基)丙烯酸酯基或全部。上述含氟有机低聚硅氧烷可为包含上述化学式3的硅烷化合物及下述化学式4的含氟硅烷化合物的第二组合物的反应产物。抗反射膜：化学式4：R7wSi(OR8)4-w在上述化学式4中，上述R7为碳数量为3个～18个的氟烷基，上述R8为H或碳数量为1个～10个的烷基，上述w分别独立地为0、1或2。以100重量份的上述化学式3的硅烷化合物为基准，上述化学式4的含氟硅烷化合物的含量可为约0.1重量份至约20重量份。上述第一组合物、上述第二组合物或它们双方同时还可包含选自由酸催化剂、水以及有机溶剂组成的组中的至少一个。本专利技术的另一实例中，提供抗反射膜的制备方法，包括：形成一部分硅被金属取代而成的含有金属的网状结构的含金属有机低聚硅氧烷，并且上述金属包含选自由钛、锆及它们的组合组成的组中的至少一个的步骤；以及对上述含金属有机低聚硅氧烷及光固化性丙烯酸酯类化合物进行混合并搅拌来准备高折射组合物的步骤。可对包含下述化学式1的钛化合物、下述化学式2的锆化合物或它们的混合物以及下述化学式3的硅烷化合物的第一组合物进行搅拌来形成上述网状结构的含金属有机低聚硅氧烷。化学式1：R1xTi(OR2)4-x化学式2：R3yZr(OR4)4-y化学式3：R5zSi(OR6)4-z在上述化学式1至化学式3中，上述R1、R3、R5分别独立地为碳数量为1个～10个的烷氧基、碳数量为1个～18个的烷基、碳数量为2个～10个的烯基、碳数量为4个～18个的(甲基)丙烯酸酯基、碳数量为6个～18个的芳基、碳数量为3个～8个的丙酮基或卤化物基，上述R2、R4、R6分别独立地为H或碳数量为1个～6个的烷基，上述x、y、z分别独立地为0、1或2。有益效果上述高折射组合物可实现整体上均匀的高折射率，从而具有均匀的抗反射性能及优秀的经济性，而且，包括高折射层的上述抗反射膜可实现均匀的抗反射性能及优秀的经济性，上述高折射层通过使上述高折射组合物光固化而成。附图说明图1为本专利技术的再一实例的抗反射膜的简要剖视图。图2为本专利技术另一实例的抗反射膜的制备方法的简要工序流程图。具体实施方式参照附图，对本专利技术的实施例进行详细说明，以使本专利技术所属
的普通技术人员能够容易地实施本专利技术。本专利技术能够以多种不同的形态实现，本专利技术并不局限于在此所说明的实施例。为了明确说明本专利技术而省略了与说明无关的部分，在说明书全文中，对于相同或类似的结构要素，标注了相同的附图标记。在附图中，为了明确表示多层及区域，以放大的方式示出了厚度。并且，在附图中，为了便于说明，以夸张的方式示出了部分层及区域的厚度。以下，在基材的“上部(或下部)”或者基材“上(或下)”形成任意结构，这不仅意味着任意结构与上述基材的上部面(或下部面)相接触而成，还不局限于在上述基材与形成于基材上(或下)的任意结构之间不包括其他结构的情况。在本专利技术的一实例中，提供如下的高折射组合物，即，上述高折射组合物包含：一部分硅被金属取代而成的含有金属的网状结构的含金属有机低聚硅氧烷；以及光固化性(甲基)丙烯酸酯类化合物，上述金属包含选自由钛、锆及它们的组合组成的组中的至少一个。通常，以混合如苯乙烯类、环氧类等的粘结剂树脂与高本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高折射组合物，其特征在于，包含：网状结构的含金属有机低聚硅氧烷，一部分硅被金属取代，从而含有金属；以及光固化性丙烯酸酯类化合物，上述金属包含选自由钛、锆以及它们的组合组成的组中的至少一个。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.06.13 KR 10-2014-00723671.一种高折射组合物，其特征在于，包含：网状结构的含金属有机低聚硅氧烷，一部分硅被金属取代，从而含有金属；以及光固化性丙烯酸酯类化合物，上述金属包含选自由钛、锆以及它们的组合组成的组中的至少一个。2.根据权利要求1所述的高折射组合物，其特征在于，以100重量份的上述光固化性(甲基)丙烯酸酯类化合物为基准，上述网状结构的含金属有机低聚硅氧烷的含量为10重量份至1000重量份。3.根据权利要求1所述的高折射组合物，其特征在于，上述网状结构的含金属有机低聚硅氧烷中的硅与金属的原子个数之比为1:0.03至1:5.90。4.根据权利要求1所述的高折射组合物，其特征在于，上述含金属有机低聚硅氧烷的网状结构包括一部分因取代基而被开放的结构。5.根据权利要求4所述的高折射组合物，其特征在于，上述含金属有机低聚硅氧烷中的上述取代基包含碳数量为4个～18个的(甲基)丙烯酸酯类官能基。6.根据权利要求5所述的高折射组合物，其特征在于，上述含金属有机低聚硅氧烷中的上述取代基还包含选自由碳数量为1个～10个的烷氧基、碳数量为1个～18个的烷基、碳数量为2个～10个的烯基、碳数量为6个～18个的芳基、碳数量为3个～8个的丙酮基、卤化物基以及它们的组合组成的组中的至少一个。7.根据权利要求1所述的高折射组合物，其特征在于，上述含金属有机低聚硅氧烷为包含下述化学式1的钛化合物、下述化学式2的锆化合物或它们的混合物以及下述化学式3的硅烷化合物的第一组合物的反应产物，化学式1：R1xTi(OR2)4-x化学式2：R3yZr(OR4)4-y化学式3：R5zSi(OR6)4-z在上述化学式1至化学式3中，上述R1、R3、R5分别独立地为碳数量为1个～10个的烷氧基、碳数量为1个～18个的烷基、碳数量为2个～10个的烯基、碳数量为4个～18个的(甲基)丙烯酸酯基、碳数量为6个～18个的芳基、碳数量为3个～8个的丙酮基或卤化物基，上述R2、R4、R6分别独立地为H或碳数量为1个～6个的烷基，上述x、y、z分别独立地为0、1或2。8.根据权利要求7所述的高折射组合物，其特征在于，以100重量份的上述化学式3的硅烷化合物为基准，将上述化学式1的钛化合物的含量和上述化学式2的锆化合物的含量相加的总含量为10重量份至1000重量份。9.根据权利要求1所述的高折射组合物，其特征在于，上述光固化性丙烯酸酯类化合物包含选自由丙烯酸酯类单体、低聚物、树脂以及它们的组合组成的组中的至少一个。10.一种抗反射膜，其特征在于，包括通过使根据权利要求1至9中任一项所述的高折射组合物光固化而形成的高折射层。11.根据权利要求10所述的抗反射膜，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵烘宽，金宪助，金源国，洪周希，金裕峻，
申请(专利权)人：乐金华奥斯有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR