一种铸锭坩埚内部高效隔离装置制造方法及图纸

技术编号:14673145 阅读:131 留言:0更新日期:2017-02-18 09:05
本实用新型专利技术公开了一种铸锭坩埚内部高效隔离装置,包括坩埚和隔离层,隔离层由硅酸钡晶体层、氮化硅涂层和硅粉涂层组成,硅酸钡晶体层设置于坩埚的坩埚内部侧壁和坩埚底壁上,氮化硅涂层设置于硅酸钡晶体层表面,硅粉涂层设置于氮化硅涂层表面。使用硅酸钡晶体层和氮化硅涂层双层隔离法,能有效隔绝石英坩埚,阻止坩埚本体中杂质向硅锭中扩散,提高铸锭质量,提高转化率,降低生产成本;且硅酸钡晶体层气密性强、硬度高,既能防止高温加热时石英陶瓷内产生的气泡进入到坩埚内部,阻止了坩埚本体中杂质通过气泡向硅锭中扩散,还能增加坩埚的硬度和使用寿命;氮化硅涂层表面设置有硅粉涂层,能防止氮化硅涂层因与硅锭摩擦而混入硅锭中。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种高效隔离装置,特别涉及一种铸锭坩埚内部高效隔离装置,属于硅产品制造设备

技术介绍
在传统能源濒临枯竭,油、煤和天然气价格节节攀升的紧迫形式下,新能源的太阳能备受世界各国重视,作为太阳能电池最主要的原材料多晶硅需求量也在急剧增长。在多晶硅铸锭过程中,熔融硅会与石英陶瓷坩埚反应并容易脱模分离,为了防止反应的发生,需要在坩埚内表面涂上纯度高且不与石英陶瓷和多晶硅反应的涂层。但涂层容易因受到多晶硅的摩擦作用而受损,导致制造的多晶硅受到污染,纯度降低;高温加热时,石英坩埚内易产生气泡并溢出到坩埚内部,使坩埚内杂质向硅锭中扩散。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服多晶硅生产时硅锭易受到污染、坩埚内杂质易向硅锭中扩散的缺陷,提供一种铸锭坩埚内部高效隔离装置。为了解决上述技术问题,本技术提供了如下的技术方案:本技术提供了一种铸锭坩埚内部高效隔离装置,包括坩埚和隔离层,所述隔离层由硅酸钡晶体层、氮化硅涂层和硅粉涂层组成,所述硅酸钡晶体层设置于所述坩埚的坩埚内部侧壁和坩埚底壁上,所述氮化硅涂层设置于所述硅酸钡晶体层表面,所述硅粉涂层设置于所述氮化硅涂层表面。作为本技术的一种优选技术方案,所述硅酸钡晶体层为细密方石英结晶。作为本技术的一种优选技术方案,所述硅粉涂层厚度为1mm。作为本技术的一种优选技术方案,所述隔离层底部拐角为圆弧角。作为本技术的一种优选技术方案,所述坩埚为石英坩埚。本技术所达到的有益效果是:使用硅酸钡晶体层和氮化硅涂层双层隔离法,能有效隔绝开石英陶瓷坩埚和硅锭,阻止坩埚本体中杂质向硅锭中扩散,提高铸锭质量,提高转化率,降低生产成本;且硅酸钡晶体层气密性强、硬度高,既能防止高温加热时石英陶瓷内产生的气泡进入到坩埚内部,阻止了坩埚本体中杂质通过气泡向硅锭中扩散,还能增加坩埚的硬度和使用寿命;氮化硅涂层表面设置有硅粉涂层,能防止氮化硅涂层因与硅锭摩擦而混入硅锭中。附图说明附图用来提供对本技术的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本技术的实施例一起用于解释本技术,并不构成对本技术的限制。在附图中:图1是本技术的结构示意图;图中:1、坩埚;2、坩埚内部侧壁;3、隔离层;4、硅酸钡晶体层;5、氮化硅涂层;6、坩埚底壁;7、硅粉涂层。具体实施方式以下结合附图对本技术的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本技术,并不用于限定本技术。实施例1如图1所示,一种铸锭坩埚内部高效隔离装置,包括坩埚1和隔离层3,隔离层3由硅酸钡晶体层4、氮化硅涂层5和硅粉涂层7组成,硅酸钡晶体层4设置于坩埚1的坩埚内部侧壁2和坩埚底壁6上,氮化硅涂层5设置于硅酸钡晶体层4表面,硅粉涂层7设置于氮化硅涂层5表面。硅酸钡晶体层4为细密方石英结晶,能增加硅酸钡晶体层的气密性和硬度,从而增加坩埚的隔绝效果和使用寿命。硅粉涂层7厚度为1mm,若厚度太高易与硅锭黏连。隔离层3底部拐角为圆弧角,使拐角处更平滑。坩埚1为石英坩埚,石英坩埚导热性强,生产成本低。本技术的工作原理是:生产硅锭时,硅酸钡晶体层和氮化硅涂层会将适应陶瓷与熔融硅分隔开,使两者不会直接接触,而硅酸钡晶体层和氮化硅涂层均不与石英陶瓷和硅产生反应,既不会损伤到陶瓷,也不会阻碍到硅锭的生产;且硅酸钡晶体层气密性强,能防止高温加热时石英陶瓷内产生的气泡进入到坩埚内部。在硅锭生产过程中,硅粉层隔绝开了固体硅和氮化硅涂层,使氮化硅不会因摩擦作用而混入硅锭中。本技术所达到的有益效果是:使用硅酸钡晶体层和氮化硅涂层双层隔离法,能有效隔绝开石英陶瓷坩埚和硅锭,阻止坩埚本体中杂质向硅锭中扩散,提高铸锭质量,提高转化率,降低生产成本;且硅酸钡晶体层气密性强、硬度高,既能防止高温加热时石英陶瓷内产生的气泡进入到坩埚内部,阻止了坩埚本体中杂质通过气泡向硅锭中扩散,还能增加坩埚的硬度和使用寿命;氮化硅涂层表面设置有硅粉涂层,能防止氮化硅涂层因与硅锭摩擦而混入硅锭中。最后应说明的是:以上所述仅为本技术的优选实施例而已,并不用于限制本技术,尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种铸锭坩埚内部高效隔离装置,包括坩埚(1)和隔离层(3),其特征在于,所述隔离层(3)由硅酸钡晶体层(4)、氮化硅涂层(5)和硅粉涂层(7)组成,所述硅酸钡晶体层(4)设置于所述坩埚(1)的坩埚内部侧壁(2)和坩埚底壁(6)上,所述氮化硅涂层(5)设置于所述硅酸钡晶体层(4)表面,所述硅粉涂层(7)设置于所述氮化硅涂层(5)表面。

【技术特征摘要】
1.一种铸锭坩埚内部高效隔离装置,包括坩埚(1)和隔离层(3),其特征在于,所述隔离层(3)由硅酸钡晶体层(4)、氮化硅涂层(5)和硅粉涂层(7)组成,所述硅酸钡晶体层(4)设置于所述坩埚(1)的坩埚内部侧壁(2)和坩埚底壁(6)上,所述氮化硅涂层(5)设置于所述硅酸钡晶体层(4)表面,所述硅粉涂层(7)设置于所述氮化硅涂层(5)表面。2.根据权利要求1所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈怀斌陈梦楠陈麟鑫
申请(专利权)人:连云港神汇硅材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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