一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备，涉及显示器制造技术领域，用于解决对shell mura进行检测时费时费力且容易出现判断不准确的问题。该光电检测装置包括：光源，用于产生检测光束并将检测光束投射至透明基板；与光源相对固定且位于光源后方的接收处理器，用于接收由透明基板的上表面反射检测光束产生的第一反射光和由透明基板的下表面反射检测光束产生的第二反射光并获取测量光程差；其中，测量光程差为第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值；接收处理器还用于判断测量光程差是否满足预设条件以及在测量光程差不符合预设条件时确认透明基板上具有水波纹。本发明专利技术用于shell mura的检测。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示器制造
，尤其涉及一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备。
技术介绍
光刻胶涂覆是薄膜晶体管(英文全称：Thin Film Transistor，简称：TFT)光刻工艺中至关重要的一到工序。目前，TFT光刻工艺中光刻胶涂覆普遍使用的是狭缝涂布(英文名称：Slit Coating)方式。狭缝涂布通常包括：基板清洗、光刻胶涂布、减压干燥、加热烘烤等步骤。其在光刻胶涂覆过程中透明基板静止，依靠具有一狭缝的刮刀进行涂布，具有狭缝的刮刀通过控制到基板表面的距离来控制光刻胶膜层的均匀性。虽然在涂覆光刻胶之前会对基板进行清洗并真空吸附，但若光刻胶涂覆装置或透明基板背面上粘附有杂质颗粒，仍然因为杂质颗粒的产生的应力在基板表面形成水波纹(英文名称：shell mura)，从而在光刻胶涂覆过程中造成膜层厚度不均匀的问题，进而造成后续工艺中的分辨率、线路宽度差异，引起直接反应在画面上的缺陷。现有技术中对shell mura监控是在完成整个光刻工艺后将基板搬运到检测设备上通过人眼进行检验，而人眼对shell mura进行检验人眼费时费力且容易出现判断不准确的问题，因此，如何准确检测出基板上的shell mura是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种shell mura检测装置、方法和光刻胶涂覆设备，用于解决对shell mura进行检测时费时费力且容易出现判断不准确的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供一种光电检测装置，包括：光源，用于产生检测光束并将所述检测光束投射至透明基板；接收处理器，所述接收处理器与所述光源相对固定且沿所述光电检测装置对所述透明基板检测时的运动方向，所述接收处理器位于所述光源前方；所述接收处理器用于接收由所述透明基板的上表面反射所述检测光束产生的第一反射光和由所述透明基板的下表面反射所述检测光束产生的第二反射光并获取测量光程差；其中，所述测量光程差为所述第一反射光的光程和所述第二反射光的光程的差值；所述接收处理器还用于判断所述测量光程差是否满足预设条件以及在所述测量光程差不符合预设条件时确认所述透明基板上具有水波纹。可选的，所述接收处理器具体用于计算所述测量光程差与参考光程差的比值；判断所述测量光程差与参考光程差的比值是否在预设范围内；若否，则确认所述透明基板上具有水波纹；其中，所述水波纹包括凸起和凹陷。可选的，所述接收处理器还用于根据所述测量光程差与参考光程差的比值获取所述水波纹的尺寸。可选的，所述光源包括：激光器、准直模组、扩束模组以及可调节狭缝；所述激光器用产生激光光束；所述准直模组用于对激光器产生的激光光束进行准直；所述扩束模组用于对经过所述准直模组准直后的激光光束进行扩束；所述可调节狭缝设置于所述扩束模组的出光口与所述透明基板之间，用于使经过所述扩束模组扩束后的激光光束在所述基板上形成线性光斑。可选的，所述线性光斑与所述透明基板的至少一条边相互平行且长度相等。可选的，所述接收处理器还用在所述测量光程差与参考光程差的比值为1时，确认所述透明基板正常；在所述测量光程差与参考光程差的比值大于1时，确认所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凹陷；在所述测量光程差与参考光程差的比值小于1时，确认所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凹陷。第二方面，提供一种光电检测方法，包括：产生检测光束并将所述检测光束投射至透明基板；接收由所述透明基板的上表面反射所述检测光束产生的第一反射光和由所述透明基板的下表面反射所述光束产生的第二反射光；获取测量光程差；其中，所述测量光程差为所述第一反射光的光程和所述第二反射光的光程的差值；判断所述测量光程差是否满足预设条件；若否，确认所述透明基板上具有水波纹。可选的，所述判断所述测量光程差是否满足预设条件，包括：计算所述测量光程差与参考光程差的比值；判断所述测量光程差与参考光程差的比值是否在预设范围内；所述确认所述透明基板上具有水波纹，包括：确认所述透明基板上具有凸起和/或凹陷。可选的，所述方法还包括：用于根据所述测量光程差与参考光程差的比值获取所述水波纹的尺寸。可选的，所述方法还包括：在所述测量光程差与参考光程差的比值为1时，确认所述透明基板正常；在所述测量光程差与参考光程差的比值大于1时，确认所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凹陷；在所述测量光程差与参考光程差的比值小于1时，确认所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凹陷。第三方面，提供一种光刻胶涂覆设备，其特征在于，包括：喷头和第一方面任一项所述的光电检测装置；所述喷头与所述光电检测装置固定且所述沿所述喷头向基板上涂覆光刻胶时的运动方向，所述光电检测装置位于所述喷头前方。可选的，所述喷头和所述光电检测装置间隔预设距离。可选的，所述设备还包括控制器；所述控制器连接所述光电检测装置，用于在所述光电检测装置确认所述透明基板上具有水波纹时控制所述光刻胶涂覆装置停止运行。可选的，所述设备还包括：报警装置；所述控制器连接所述光电检测装置，用于在所述光电检测装置确认所述透明基板上具有水波纹时进行报警。本专利技术实施例提供的光电检测装置，包括：光源和接收处理器，其中光源可以产生检测光束并将检测光束投射至透明基板，接收处理器能够接收通过透明基板的上表面反射检测光束产生的第一反射光和透明基板的下表面反射检测光束产生的第二反射光并获取第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值，最后通过判断第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值是否符合预设条件确认透明基板上具有shell mura，即本专利技术实施例可以利用基板上表面和下表面生成反射光的光程差确认透明基板上是否具有shell mura，相比于现有技术，本专利技术实施例无需人工进行shell mura的检测，所以本专利技术实施例可以解决对shell mura进行检测时费力且容易出现判断不准确的问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的光电检测装置的示意性结构图；图2为本专利技术实施例提供的光源的示意性结构图；图3为本专利技术实施例提供的线性光斑的示意性结构图；图4为本专利技术实施例提供的透明基板与光源相对的一侧具有凸起的示意图；图5为本专利技术实施例提供的透明基板与接收处理器相对的一侧具有凸起的示意图；图6为本专利技术实施例提供的光电检测方法的步骤流程图；图7为本专利技术实施例提供的光刻胶涂覆设备的示意性结构图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光电检测装置，其特征在于，包括：光源，用于产生检测光束并将所述检测光束投射至透明基板；接收处理器，所述接收处理器与所述光源相对固定且沿所述光电检测装置对所述透明基板检测时的运动方向，所述接收处理器位于所述光源前方；所述接收处理器用于接收由所述透明基板的上表面反射所述检测光束产生的第一反射光和由所述透明基板的下表面反射所述检测光束产生的第二反射光并获取测量光程差；其中，所述测量光程差为所述第一反射光的光程和所述第二反射光的光程的差值；所述接收处理器还用于判断所述测量光程差是否满足预设条件以及在所述测量光程差不符合预设条件时确认所述透明基板上具有水波纹。

【技术特征摘要】
1.一种光电检测装置，其特征在于，包括：光源，用于产生检测光束并将所述检测光束投射至透明基板；接收处理器，所述接收处理器与所述光源相对固定且沿所述光电检测装置对所述透明基板检测时的运动方向，所述接收处理器位于所述光源前方；所述接收处理器用于接收由所述透明基板的上表面反射所述检测光束产生的第一反射光和由所述透明基板的下表面反射所述检测光束产生的第二反射光并获取测量光程差；其中，所述测量光程差为所述第一反射光的光程和所述第二反射光的光程的差值；所述接收处理器还用于判断所述测量光程差是否满足预设条件以及在所述测量光程差不符合预设条件时确认所述透明基板上具有水波纹。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述接收处理器具体用于计算所述测量光程差与参考光程差的比值；判断所述测量光程差与参考光程差的比值是否在预设范围内；若否，则确认所述透明基板上具有水波纹；其中，所述水波纹包括凸起和凹陷。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述接收处理器还用于根据所述测量光程差与参考光程差的比值获取所述水波纹的尺寸。4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述光源包括：激光器、准直模组、扩束模组以及可调节狭缝；所述激光器用产生激光光束；所述准直模组用于对激光器产生的激光光束进行准直；所述扩束模组用于对经过所述准直模组准直后的激光光束进行扩束；所述可调节狭缝设置于所述扩束模组的出光口与所述透明基板之间，用于使经过所述扩束模组扩束后的激光光束在所述基板上形成线性光斑。5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述线性光斑与所述透明基板的一条边相互平行且长度相等。6.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述接收处理器还用在所述测量光程差与参考光程差的比值为1时，确认所述透明基板正常；在所述测量光程差与参考光程差的比值大于1时，确认所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凹陷；在所述测量光程差与参考光程差的比值小于1时，确认所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凹陷。7....

【专利技术属性】
技术研发人员：齐发，徐海涛，刘超，钱娟娟，彭亮亮，欧阳欠，江涛，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11